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题名小靶材实现大平面基片均匀性膜层沉积的方法
被引量：2
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作者
金扬利
邱阳
赵华
祖成奎
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机构
中国建筑材料科学研究总院
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出处
《真空》
CAS
2014年第3期30-32,共3页
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文摘
常规的实验用磁控溅射设备,其固定的靶基工况,导致膜层均匀性区域有限,只能用于较小基片上膜层的沉积。提出一种新的方法,将靶材固定,基片自转或公自转工位变更为靶材可移动,基片自转的方式,并控制靶材的移动及基片自转速率的调节,可以用较小的靶材在较大平面上沉积膜层,所制备膜层具有良好的膜厚均匀性;建立了计算模型,分析了小靶材实现大平面基片均匀性膜层沉积的途径;在Φ260 mm的平片上进行了Ge膜的实际制备,证实了上述思路的可行性。
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关键词
薄膜
磁控溅射
小靶材
大平面基片
均匀性
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Keywords
thin films
magnetron sputtering
lesser target
large-plane substrate
uniformity of layer thickness
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分类号
TH69
[机械工程—机械制造及自动化]
O484
[理学—固体物理]
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