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基于氧化物-金属多层膜固态化合方法制备MCNO薄膜
1
作者
赵媛媛
王园园
+4 位作者
王荣新
王志鹏
朱煜
宋贺伦
向阳
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2024年第4期223-232,共10页
红外热成像技术具有高度实用性、灵敏性和可靠性等优点,在航空、医疗等多个领域发挥着重要作用。相较于其他类型的非制冷红外探测器,测微辐射热计(Microbolometer)具有工作范围宽、响应速率快且器件结构简单等优点。相较于非晶硅和氧化...
红外热成像技术具有高度实用性、灵敏性和可靠性等优点,在航空、医疗等多个领域发挥着重要作用。相较于其他类型的非制冷红外探测器,测微辐射热计(Microbolometer)具有工作范围宽、响应速率快且器件结构简单等优点。相较于非晶硅和氧化钒等常见热敏层材料,立方尖晶石结构的过渡金属氧化物锰钴镍氧化物(Mn-Co-Ni-O,MCNO)具有更高的TCR系数。使用磁控溅射法-电子束蒸发复合法在蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备MCNO薄膜,结合XRD、SEM和电学性能测试,分析和探讨了工艺条件对其性能的影响。研究结果表明,在450℃沉积5 h得到厚度为450 nm的MCNO薄膜样品,随后在真空腔内原位退火1 h,再使用管式退火炉在空气氛围中进行60 min 850℃后退火,MCNO薄膜呈现出良好性能,(111)晶相的XRD半峰宽为0.48,晶格常数为8.71A(1A=10^(-10) m),晶粒平均大小为81.7±24 nm。使用四探针法测试MCNO薄膜室温下电阻率为642.19Ω·cm,室温下(295 K)电阻温度系数(Temperature Coefficient of Resistance,TCR)系数为-4.20%/K。在6~8.5μm波长范围内,最高吸光度为1.50。研究结果验证了所提出的多层复合方法用于制备MCNO薄膜的可行性,为进一步优化MCNO薄膜组份与掺杂配比以及结构-性能关系提供了新思路。
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关键词
锰钴镍氧化物
磁控溅射
电子束蒸发
逐层沉积
退火温度
固相合成
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职称材料
题名
基于氧化物-金属多层膜固态化合方法制备MCNO薄膜
1
作者
赵媛媛
王园园
王荣新
王志鹏
朱煜
宋贺伦
向阳
机构
长春理工大学光电工程学院
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2024年第4期223-232,共10页
基金
苏州市碳达峰碳中和科技支撑重点专项(ST202219)
江苏省碳达峰碳中和科技创新专项(BE2022021)。
文摘
红外热成像技术具有高度实用性、灵敏性和可靠性等优点,在航空、医疗等多个领域发挥着重要作用。相较于其他类型的非制冷红外探测器,测微辐射热计(Microbolometer)具有工作范围宽、响应速率快且器件结构简单等优点。相较于非晶硅和氧化钒等常见热敏层材料,立方尖晶石结构的过渡金属氧化物锰钴镍氧化物(Mn-Co-Ni-O,MCNO)具有更高的TCR系数。使用磁控溅射法-电子束蒸发复合法在蓝宝石(Al_(2)O_(3))衬底上制备MCNO薄膜,结合XRD、SEM和电学性能测试,分析和探讨了工艺条件对其性能的影响。研究结果表明,在450℃沉积5 h得到厚度为450 nm的MCNO薄膜样品,随后在真空腔内原位退火1 h,再使用管式退火炉在空气氛围中进行60 min 850℃后退火,MCNO薄膜呈现出良好性能,(111)晶相的XRD半峰宽为0.48,晶格常数为8.71A(1A=10^(-10) m),晶粒平均大小为81.7±24 nm。使用四探针法测试MCNO薄膜室温下电阻率为642.19Ω·cm,室温下(295 K)电阻温度系数(Temperature Coefficient of Resistance,TCR)系数为-4.20%/K。在6~8.5μm波长范围内,最高吸光度为1.50。研究结果验证了所提出的多层复合方法用于制备MCNO薄膜的可行性,为进一步优化MCNO薄膜组份与掺杂配比以及结构-性能关系提供了新思路。
关键词
锰钴镍氧化物
磁控溅射
电子束蒸发
逐层沉积
退火温度
固相合成
Keywords
manganese
cobalt
nickel
oxide
magnetron
sputtering
electron
beam
evaporation
layerby
-
layer
deposition
annealing
temperature
solid
state
synthesis
分类号
TN215 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于氧化物-金属多层膜固态化合方法制备MCNO薄膜
赵媛媛
王园园
王荣新
王志鹏
朱煜
宋贺伦
向阳
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2024
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