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激光电镀和激光刻蚀 被引量:6
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作者 杨绮琴 童叶翔 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 1999年第2期47-50,46,共5页
对液相中的激光表面处理- 激光电镀和激光刻蚀进行综述,阐述了有关原理和应用。
关键词 激光电镀 激光刻蚀 电镀 表面处理
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大气贮存对激光刻蚀铜二次电子发射的影响
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作者 张文丽 卞抱元 +3 位作者 葛晓琴 方键威 王思慧 王勇 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期954-959,共6页
粒子加速器的工作性能受电子云效应的严重影响,二次电子产额(Secondary electron yield,SEY)是评判电子云效应的重要参数。利用激光刻蚀技术加工真空室内表面可以有效抑制真空室内二次电子发射,缓解电子云效应。无氧铜材料凭借其高电导... 粒子加速器的工作性能受电子云效应的严重影响,二次电子产额(Secondary electron yield,SEY)是评判电子云效应的重要参数。利用激光刻蚀技术加工真空室内表面可以有效抑制真空室内二次电子发射,缓解电子云效应。无氧铜材料凭借其高电导率、高热导率和良好的辐射屏蔽性能成为建造新一代粒子加速器真空室的首选材料。由于粒子加速器真空室的建造周期长,在其制造、安装、调试过程中,刻蚀部件将不可避免地面临长期储存的问题。为研究大气贮存对刻蚀部件二次电子发射的影响,文章采用激光刻蚀技术对无氧铜材料进行表面处理,测试并分析刻蚀前后样品的表面特性与SEY。在样品贮存期间,定期对刻蚀样品进行SEY测试。结果表明,随着贮存时间的延长,刻蚀无氧铜的SEY逐渐升高。表面化学状态的变化是造成SEY上升的主要原因。文章将为未来加速器的真空室表面处理提供一种可行方法,为激光刻蚀部件的贮存方法提供实验支撑。 展开更多
关键词 激光刻蚀 二次电子产额 大气贮存 表面特性
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纳米压印制作半导体激光器的分布反馈光栅 被引量:4
3
作者 王定理 周宁 +3 位作者 王磊 刘文 徐智谋 石兢 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第1期56-59,共4页
分布反馈(DFB)光栅的制作是半导体激光器芯片的关键工艺,通过纳米压印技术在InP基片表面涂覆的光刻胶上压印出DFB光栅图形,并分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀技术将光栅图形转移到InP基片上。所制作的DFB光栅周期为240nm(对应于1 550nm波长... 分布反馈(DFB)光栅的制作是半导体激光器芯片的关键工艺,通过纳米压印技术在InP基片表面涂覆的光刻胶上压印出DFB光栅图形,并分别通过湿法腐蚀和干法刻蚀技术将光栅图形转移到InP基片上。所制作的DFB光栅周期为240nm(对应于1 550nm波长的DFB激光器),光栅中间具有λ/4相移结构。采用纳米压印技术制作的DFB光栅相对于通常双光束干涉法制作的光栅具有更好的均匀性以及更低的线条粗糙度,而且解决了双光束干涉法无法制作非均匀光栅的技术难题。相对于电子束直写光刻法,采用纳米压印技术制作DFB光栅具有快速与低成本的优势。采用纳米压印技术在InP基片上成功制作具有相移结构的DFB光栅,为进一步进行低成本高性能的半导体激光器芯片的制作奠定了良好基础。 展开更多
关键词 纳米压印 半导体激光器 分布反馈光栅 相移型光栅 干法刻蚀技术 湿法腐蚀
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不同激光蚀刻技术对陶瓷与复合树脂材料粘接强度的影响研究 被引量:2
4
作者 裴挫萍 《化学与粘合》 CAS 2022年第6期491-495,521,共6页
分析了不同激光蚀刻技术对陶瓷与复合树脂材料粘接强度的影响。通过扫描电镜观测瓷片表面微观形貌变化,利用光干涉三维表面形貌测量系统测量瓷片表面粗糙度,应用万能力学试验机测试瓷片与树脂柱粘接强度。相较于control组与HF组,NY组与E... 分析了不同激光蚀刻技术对陶瓷与复合树脂材料粘接强度的影响。通过扫描电镜观测瓷片表面微观形貌变化,利用光干涉三维表面形貌测量系统测量瓷片表面粗糙度,应用万能力学试验机测试瓷片与树脂柱粘接强度。相较于control组与HF组,NY组与EY组能够有效改变瓷片表面微观形貌,提升瓷片表面粗糙度,增加瓷片与树脂柱粘接强度。综合上述实验数据发现,相较于EY组,NY组瓷片表面微观形貌改变度较大,瓷片表面粗糙度、瓷片与树脂柱粘接强度数值均较高,说明Nd:YAG激光蚀刻技术应用效果优于Er:YAG激光蚀刻应用效果。充分证实Nd:YAG激光蚀刻技术更能提升陶瓷与复合树脂材料粘接强度。 展开更多
关键词 激光蚀刻技术 复合树脂材料 粘接强度 三维表面形貌测量系统
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准分子激光快速诱导聚偏氟乙烯材料导电层的研究 被引量:1
5
作者 刘莹 蒋毅坚 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期156-160,共5页
采用KrF准分子激光直写刻蚀技术在聚偏氟乙烯(PVDF)材料表面引入刻蚀缺陷,利用刻蚀点缺陷和线缺陷的活性中心作用实现了聚偏氟乙烯表面导电层的快速制备。实验结果表明,通过激光刻蚀在该材料表面产生的刻蚀点或刻蚀线均可起到活性中心... 采用KrF准分子激光直写刻蚀技术在聚偏氟乙烯(PVDF)材料表面引入刻蚀缺陷,利用刻蚀点缺陷和线缺陷的活性中心作用实现了聚偏氟乙烯表面导电层的快速制备。实验结果表明,通过激光刻蚀在该材料表面产生的刻蚀点或刻蚀线均可起到活性中心的作用,轻易地控制导电层的形成,降低了激光改性阈值,低阈值实现了导电层快速制备的目的。通过激光扫描共聚焦显微镜(LSCM)及扫描电镜(SEM)观察,刻蚀缺陷边缘产生类导电层的二维规整网络微结构,为导电层的初期形式。激光刻蚀过程中的激光热交联反应及激光辐照交联反应的交替作用是聚偏氟乙烯导电层快速产生并大面积形成的主要原因。 展开更多
关键词 激光技术 准分子激光 直写刻蚀 导电层 聚偏氟乙烯
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激光蚀刻牙体组织在直接粘接技术中的研究进展 被引量:1
6
作者 刘敏 张宽收 刘青梅 《国际口腔医学杂志》 CAS CSCD 2021年第3期292-296,共5页
随着大众对美学需求的提高及现代口腔治疗“微创”理念的推行,牙体粘接技术得到了快速发展。在牙体粘接修复中,激光蚀刻牙体组织形成的粘接面能否替代传统酸蚀的效果,关于两种方法的比较,国内外有相关研究但尚无统一定论。本文就国内外... 随着大众对美学需求的提高及现代口腔治疗“微创”理念的推行,牙体粘接技术得到了快速发展。在牙体粘接修复中,激光蚀刻牙体组织形成的粘接面能否替代传统酸蚀的效果,关于两种方法的比较,国内外有相关研究但尚无统一定论。本文就国内外文献中不同激光在不同参数时蚀刻牙体组织后的粘接性能作一综述。 展开更多
关键词 激光蚀刻 酸蚀刻 牙体组织 粘接技术
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准分子激光技术实现聚偏氟乙烯表面导电图形化研究 被引量:1
7
作者 刘莹 蒋毅坚 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第9期43-48,共6页
设计了采用准分子激光技术实现聚偏氟乙烯(PVDF)表面导电层图形化的制备方案。根据刻蚀缺陷为导电层活性中心的结论,利用刻蚀线构造图形控制导电层的扩展路径,再在光学掩模的协助下对导电层扩展外形进行限制,实现了PVDF表面多种导电图... 设计了采用准分子激光技术实现聚偏氟乙烯(PVDF)表面导电层图形化的制备方案。根据刻蚀缺陷为导电层活性中心的结论,利用刻蚀线构造图形控制导电层的扩展路径,再在光学掩模的协助下对导电层扩展外形进行限制,实现了PVDF表面多种导电图形的制备。实验结果表明,刻蚀缺陷不仅起到活性中心的作用,同时对导电区域进行了有效分割;掩模起到了对激光辐照区域限制的作用,进而实现了对导电层生长区域外形的控制。采用扫描电镜沿导电层的扩展方向对不同位置的导电层的微观形貌进行观察,提出导电层的形成扩展机理。为PVDF基电子器件的开发提供可能,为各种类型导电高分子聚合物材料表面快速图形化制备提供技术指导和实验基础。 展开更多
关键词 准分子激光 导电层图形化 聚偏氟乙烯 直写刻蚀
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H型结构垂直腔面发射激光器 被引量:3
8
作者 李雪梅 刘颖 +5 位作者 姜秀英 王之岭 赵永生 杜国同 武胜利 王立军 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期18-20,共3页
报道了一种结构新颖的H型垂直腔面发射激光器。器件是由钨丝掩膜一次质子轰击和选择腐蚀相结合制备的,实验已实现在脉宽为20μs,占空比为110的脉冲电流条件下的室温激射。
关键词 腔面发射激光器 钨丝掩膜 激光器
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利用H_3PO_4液层侧面红外热像研究YBCO高温超导薄膜的激光辅助刻蚀特性
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作者 刘娟秀 羊恺 +3 位作者 补世荣 张天良 宁俊松 罗正祥 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2006年第6期415-420,共6页
利用红外热像实时监测系统,获取钇钡铜氧激光辅助化学刻蚀中H3PO4液层的侧面红外热像,研究了其溶液温度分布与热对流特性,并对红外监测数据与钇钡铜氧薄膜激光化学刻蚀特性的关系进行了分析.主要实验结论包括:红外灰度图可真实反映溶液... 利用红外热像实时监测系统,获取钇钡铜氧激光辅助化学刻蚀中H3PO4液层的侧面红外热像,研究了其溶液温度分布与热对流特性,并对红外监测数据与钇钡铜氧薄膜激光化学刻蚀特性的关系进行了分析.主要实验结论包括:红外灰度图可真实反映溶液的温度分布和热对流情况,为激光化学刻蚀的热环境分析提供有价值的红外监测数据;通过任意时刻钇钡铜氧表面生成热流所到达高度的分布情况和该时刻的红外灰度图,分析出钇钡铜氧薄膜表面各区域的腐蚀启动先后和刻蚀程度差异等重要信息,为钇钡铜氧及其它材料的激光化学刻蚀特性的实时监测提供了一种新的技术手段. 展开更多
关键词 激光化学刻蚀 红外技术 高温超导 钇钡铜氧
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