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激光化学气相沉积法制备TiO_2薄膜 被引量:8
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作者 孙利平 邓辉球 +2 位作者 刘晓芝 佘彦武 黄飞江 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2007年第8期57-61,共5页
利用激光化学气相沉积(LCVD)方法,以钛金属有机化合物为前驱体,以O2为反应气体,在激光功率PL为0~200W、基板预热温度为400~700℃的条件下,制备出了金红石型TiO2薄膜和金红石型与锐钛矿型混合TiO2薄膜。研究表明,激光功率和基... 利用激光化学气相沉积(LCVD)方法,以钛金属有机化合物为前驱体,以O2为反应气体,在激光功率PL为0~200W、基板预热温度为400~700℃的条件下,制备出了金红石型TiO2薄膜和金红石型与锐钛矿型混合TiO2薄膜。研究表明,激光功率和基板预热温度对所沉积的TiO2薄膜的物相组成、截面组织,表面形貌和薄膜生长速度均有着显著的影响。 展开更多
关键词 功能材料 二氧化钛 激光化学气相沉积 薄膜
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激光辅助化学气相沉积研究进展 被引量:7
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作者 范丽莎 刘帆 +2 位作者 吴国龙 Volodymyr S.Kovalenko 姚建华 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2022年第2期1-29,共29页
激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发... 激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景。围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发解离作用机制,同时介绍了各类LCVD的常用设备,着重总结了LCVD在金属材料、碳基材料、氧化物材料以及半导体材料等各类材料制备应用上的最新研究进展,特别介绍了LCVD制备过程中常用的检测与分析方法,最后讨论了激光化学气相沉积技术目前所面临的挑战与机遇,并展望了该技术的发展前景。 展开更多
关键词 激光化学气相沉积 薄膜制备 热解离 光解离 共振激发解离
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纳米化学气相沉积金刚石的拉曼光谱 被引量:9
3
作者 薛海鹏 卢文壮 +3 位作者 孙达飞 王浩 王正鑫 左敦稳 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期136-141,共6页
拉曼光谱是研究化学气相沉积(CVD)金刚石最有效的手段之一。对不同晶粒尺寸的CVD金刚石膜进行了拉曼光谱分析。紫外拉曼光谱的检验表明,紫外光激发的拉曼光谱有效抑制了sp2碳的散射和荧光背景;1140cm-1峰出现在可见光拉曼光谱的原因是... 拉曼光谱是研究化学气相沉积(CVD)金刚石最有效的手段之一。对不同晶粒尺寸的CVD金刚石膜进行了拉曼光谱分析。紫外拉曼光谱的检验表明,紫外光激发的拉曼光谱有效抑制了sp2碳的散射和荧光背景;1140cm-1峰出现在可见光拉曼光谱的原因是反聚乙炔的增多和sp2碳散射的增强。可见光拉曼光谱检测发现随着晶粒的减小,1140cm-1和1460cm-1峰强度增强,金刚石特征峰强度降低同时其半峰全宽(FWHM)变宽,薄膜中sp3碳含量减少;基体材料由硬质合金变为微米金刚石后,金刚石特征峰强度显著增加,FWHM有较大减小,非sp3碳成分含量明显减少。 展开更多
关键词 激光技术 拉曼光谱 化学气相沉积金刚石
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激光化学气相沉积(LCVD)制取TiN薄膜 被引量:4
4
作者 王豫 《热处理》 CAS 2004年第2期33-36,共4页
研究了在W 1 8Cr4V高速钢基体上 ,用CO2 连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法。激光功能 6 0 0W ,在H2 、N2 、TiCl4 反应系统中沉积出TiN薄膜 ,薄膜的颜色呈金黄色 ,显微硬度为 2 5 0 0HV。
关键词 激光化学气相沉积 LCVD TIN薄膜 高速钢
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Numerical Analysis of Nd:YAG Pulsed Laser Polishing CVD Self-standing Diamond Film 被引量:6
5
作者 XU Feng HU Haifeng +3 位作者 ZUO Dunwen XU Chun QING Zhenghua WANG Min 《Chinese Journal of Mechanical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期121-127,共7页
Chemical vapor deposited (CVD) diamond film has broad application foreground in high-tech fields. But polycrystalline CVD self-standing diamond thick film has rough surface and non-uniform thickness that adversely a... Chemical vapor deposited (CVD) diamond film has broad application foreground in high-tech fields. But polycrystalline CVD self-standing diamond thick film has rough surface and non-uniform thickness that adversely affect its extensive applications. Laser polishing is a useful method to smooth self-standing diamond film. At present, attentions have been focused on experimental research on laser polishing, but the revealing of theoretical model and the forecast of polishing process are vacant. The paper presents a finite element model to simulate and analyze the mechanism of laser polishing diamond based on laser thermal conduction theory. The experimental investigation is also carried out on Nd:YAG pulsed laser smoothing diamond thick film. The simulation results have good accordance with the results of experimental results. The temperature and thermal stress fields are investigated at different incidence angles and parameters of Nd:YAG pulsed laser. The pyramidal-like roughness of diamond thick film leads to the non-homogeneous temperature fields. The temperature at the peak of diamond film is much higher than that in the valley, which leads to the smoothing of diamond thick film. The effect of laser parameters on the surface roughness and thickness of graphite transition layer is also carried out. The results show that high power density laser makes the diamond surface rapid heating, evaporation and sublimation after its graphitization. It is also found that the good polish quality of diamond thick film can be obtained by a combination of large incident angle, moderate laser pulsed energy, large repetition rate and moderate laser pulse width. The results obtained here provide the theoretical basis for laser polishing diamond film with high efficiency and high quality. 展开更多
关键词 chemical vapor deposition self-standing diamond film POLISHING pulsed laser finite element surface roughness
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铒镱共掺光纤制备及其激光性能研究 被引量:5
6
作者 陈阳 褚应波 +1 位作者 戴能利 李进延 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第7期41-47,共7页
铒镱(Er^(3+)/Yb^(3+))共掺光纤是实现波长为1.5μm激光的重要增益介质之一。但是石英基Er^(3+)/Yb^(3+)共掺光纤很容易产生波长为1μm的放大的自发辐射(ASE)光,不仅降低1.5μm激光的泵浦转换效率,而且是限制1.5μm激光功率提升的“瓶... 铒镱(Er^(3+)/Yb^(3+))共掺光纤是实现波长为1.5μm激光的重要增益介质之一。但是石英基Er^(3+)/Yb^(3+)共掺光纤很容易产生波长为1μm的放大的自发辐射(ASE)光,不仅降低1.5μm激光的泵浦转换效率,而且是限制1.5μm激光功率提升的“瓶颈”。研究结果表明,提升纤芯磷的掺杂量,能够增大纤芯基质的最大声子能量,有利于抑制Yb^(3+)的ASE光和Er^(3+)→Yb^(3+)的反向能量传递,从而提高Er^(3+)/Yb^(3+)共掺光纤的泵浦转换效率。通过改良的化学气相沉积制备工艺可以减少磷元素在高温条件下的挥发,从而成功制备出高掺磷的10/130μm双包层Er^(3+)/Yb^(3+)共掺光纤。测试光纤后向的1μmASE光谱随泵浦功率的变化,并且搭建两级激光测试平台,测得Er^(3+)/Yb^(3+)共掺光纤激光的斜率效率为35.5%。 展开更多
关键词 激光光学 铒镱共掺光纤 1.5μm激光 光纤激光器 改良的化学气相沉积
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碳纳米管及其改性复合材料的研究进展与展望 被引量:2
7
作者 董晓娜 夏俊 +2 位作者 游胜勇 孙复钱 王书芬 《生物化工》 CAS 2023年第3期178-180,185,共4页
本文重点介绍了近几年碳纳米管及其复合材料的研究进展,对碳纳米管的特性,以及功能填料与高分子材料制备成高性能复合材料的合成工艺、材料性能和具体应用进行了分类介绍,最后对碳纳米管及其改性复合材料今后的发展方向进行了展望。
关键词 碳纳米管 石墨电弧法 激光蒸发法 化学气相沉积法 复合材料
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激光化学气相沉积法制备多层氧化铈缓冲层薄膜 被引量:4
8
作者 陈志杰 潘天宇 +1 位作者 徐源来 赵培 《武汉工程大学学报》 CAS 2022年第1期42-47,共6页
为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形... 为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形貌和晶粒尺寸的影响。实验结果表明,制备出了单相(100)氧化铈薄膜。随着薄膜层数的增加,其面内取向变好。薄膜结晶度在2层时最低,在5层时最高。随着氧化铈薄膜层数从2层增加到6层,氧化铈薄膜的平均晶粒尺寸从28.98 nm增加到86.10 nm。氧化铈晶粒形状从大部分正方金字塔形变为相互正交的矩形棱台形并且晶粒间出现10~50 nm的孔洞。通过引入激光加速前驱体分解,2层氧化铈薄膜的厚度达到136 nm,薄膜沉积速率高达2.45μm·h^(-1)。 展开更多
关键词 氧化铈缓冲层薄膜 激光化学气相沉积 晶粒尺寸 多层薄膜
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激光低温沉积金刚石膜 被引量:4
9
作者 冯钟潮 张炳春 +1 位作者 赵岩 王亚庆 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 1996年第5期521-524,共4页
用XeCl紫外与CO2红外复合激光化学气相沉积方法,在340℃硅衬底上沉积成高纯金刚石膜。
关键词 金刚石 激光 化学气相沉积 低温 薄膜
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碳纳米管规模化生产及应用展望 被引量:4
10
作者 马云海 曹东学 《炼油技术与工程》 CAS 2022年第10期1-4,46,共5页
碳纳米管因其优越的性能受到广泛关注。通过对比电弧放电法、激光烧蚀法、化学气相沉积法等现有主流碳纳米管生产技术的优缺点,分析碳纳米管生长机理,对比反应器形式对反应条件的影响,提出了适用于规模化生产的工艺技术。着重梳理了碳... 碳纳米管因其优越的性能受到广泛关注。通过对比电弧放电法、激光烧蚀法、化学气相沉积法等现有主流碳纳米管生产技术的优缺点,分析碳纳米管生长机理,对比反应器形式对反应条件的影响,提出了适用于规模化生产的工艺技术。着重梳理了碳纳米管作为吸附材料、橡胶改性材料、聚合物改性材料、沥青改性材料等规模化应用的进展,分析了限制碳纳米管大规模应用的主要原因,探讨碳纳米管在炼油及石油化工领域的应用前景,以期促进碳纳米管产业链以及炼油、化工产品的高端化发展。 展开更多
关键词 碳纳米管 规模化 电弧放电法 激光烧蚀法 化学气相沉积法 吸附材料 改性材料
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高频激光对化学气相沉积金刚石的大切深实验 被引量:3
11
作者 王吉 章鹏 +2 位作者 张天润 曹小文 张文武 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第1期89-95,共7页
为了提高化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石的切深,采用新型的声光调制高重复频率激光器,研究了激光功率、焦点位置、激光重复频率、切割线速度以及激光横膜模式对CVD金刚石切缝宽度、切深以及表面粗糙度的影响。研究... 为了提高化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)金刚石的切深,采用新型的声光调制高重复频率激光器,研究了激光功率、焦点位置、激光重复频率、切割线速度以及激光横膜模式对CVD金刚石切缝宽度、切深以及表面粗糙度的影响。研究结果表明:切深和切缝上表面宽随着激光功率的增大而增大;焦点位置随切深的变化下移,可获得最大切深;重复频率的增大伴随着切深的减小和切缝上表面宽的增大;表面粗糙度随着切割线速度的增大先缓慢减小后显著增大;切缝上表面宽随着模式数的增多而增大。综合切深、缝宽和效率,最后在输出基横模下激光功率为12 W,重复频率为6 kHz,切割线速度为1500 mm/min,焦点位置始终位于切割凹面,获得了效率最快、质量最好的结果,即单向切深最大可达7.2 mm,切面表面的粗糙度为0.804μm,切缝上表面宽度为350μm,满足在低切面表面粗糙度下获得CVD金刚石大切深的要求。 展开更多
关键词 激光切割 化学气相沉积金刚石 高频激光 缝宽 切深 表面粗糙度
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激光化学气相沉积法在TFT-LCD电路缺陷维修中的应用 被引量:4
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作者 张伟 陈小英 +6 位作者 马永生 付婉霞 王磊 周贺 徐智俊 王博 阮毅松 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2019年第8期755-763,共9页
为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究... 为了维修TFT-LCD电路缺陷,利用激光化学气相沉积法(LCVD)沉积钨薄膜,讨论成膜参数对基底损伤、钨薄膜电阻率的影响。在空气氛围下,波长为351nm的脉冲激光诱导W(CO)6裂解成膜,通过聚焦离子束-扫描电子显微镜(FIB-SEM)观察薄膜横截面研究成膜参数对基底损伤的影响,再用高精度的电参数测试仪(EPM)测试不同参数下钨薄膜电阻。控制变量法表明,激光功率或激光束光斑尺寸越大,薄膜基底损伤越大,但电阻率越小,且不沉积薄膜时高功率激光辐射也不会造成基底损伤;激光辐射速度越大,基底损伤越小,但电阻率越大。通过平衡工艺参数,得到了电阻率为0.96Ω/μm、对基底无损伤的钨薄膜,成分分析表明此时W(CO)6已经完全裂解。 展开更多
关键词 TFT-LCD 激光化学气相沉积法 缺陷维修 W(CO)6 电阻率
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硅纳米材料简介及硅纳米线的现代合成方法 被引量:3
13
作者 刘茂玲 丁云桥 段希娥 《有机硅材料》 CAS 2009年第1期60-62,共3页
简要介绍了纳米材料、硅纳米材料的起源、发展,着重按硅纳米线的生长机理概括了5种合成方法:气-液-固生长法、有机溶液生长法、氧化物辅助生长法、分子束取向附生法、固-液-固生长法。
关键词 硅纳米材料 硅纳米线 激光烧蚀法 热气相沉积法 化学气相沉积法 微电子
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基于激光选区熔化成形Ni-Cu合金模板的Ni-Cu-石墨烯复合材料的制备 被引量:3
14
作者 刘主峰 黄耀东 +3 位作者 杨潇 贺媛婧 李昭青 闫春泽 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第1期1-6,共6页
采用优化的SLM成形参数,用激光选区熔化(SLM)增材制造技术制备了三维Ni-Cu合金。使用三维Ni-Cu合金基底材料用化学气相沉积法(CVD)制备Ni-Cu合金/石墨烯复合材料,研究了CVD法生长反应温度对石墨烯结构的影响并分析其原因。结果表明,石... 采用优化的SLM成形参数,用激光选区熔化(SLM)增材制造技术制备了三维Ni-Cu合金。使用三维Ni-Cu合金基底材料用化学气相沉积法(CVD)制备Ni-Cu合金/石墨烯复合材料,研究了CVD法生长反应温度对石墨烯结构的影响并分析其原因。结果表明,石墨烯层的厚度随着反应温度的提高而减小。与未生长石墨烯的样品相比,在100℃石墨烯复合使复合材料的热扩散系数提高了12.5%。用SLM增材制造技术和金属模型结构设计成形三维Ni-Cu合金,实现了对石墨烯片层取向的控制,结合CVD法优化在Ni-Cu合金表面生长石墨烯工艺可调控石墨烯的结构。 展开更多
关键词 复合材料 激光选区熔化 Ni-Cu合金 石墨烯 化学气相沉积 导热
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非晶硅薄膜晶化过程的研究 被引量:1
15
作者 黄木香 杨琳 +1 位作者 刘玉琪 王江涌 《真空》 CAS 2012年第5期35-38,共4页
多晶硅薄膜具有较高的电迁移率和稳定的光电性能,是制备微电子器件、薄膜晶体管、大面积平板液晶显示的优质材料。多晶硅薄膜被公认为是制备高效、低耗、最理想的薄膜太阳能电池的材料。因此,如何制备多晶硅薄膜是一个非常有意义的研究... 多晶硅薄膜具有较高的电迁移率和稳定的光电性能,是制备微电子器件、薄膜晶体管、大面积平板液晶显示的优质材料。多晶硅薄膜被公认为是制备高效、低耗、最理想的薄膜太阳能电池的材料。因此,如何制备多晶硅薄膜是一个非常有意义的研究课题。固相法是制备多晶硅薄膜的一种常用方法,它是在高温退火的条件下,使非晶硅薄膜通过固相相变而成为多晶硅薄膜。本文采用固相法,利用X-ray衍射及拉曼光谱,对用不同方法制备的非晶硅薄膜的晶化过程进行了系统地研究。 展开更多
关键词 硅薄膜 非晶硅晶化 固相法 激光诱导晶化 磁控溅射 化学气相沉积
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PS/化学气相沉积CF选区激光烧结多指标正交试验参数的优化 被引量:2
16
作者 杨来侠 周文明 +4 位作者 赵贞慧 龚林 鲁杰 杜珣涛 王勃 《工程塑料应用》 CAS CSCD 北大核心 2017年第10期46-51,62,共7页
针对选择性激光烧结(SLS)工艺中聚苯乙烯(PS)粉末烧结件精度不高且强度不能满足实际需求的问题,将经过化学气相沉积法处理的碳纤维(CF)粉末、PS粉末、分散剂和抗静电剂进行机械混合,制备了PS/气相沉积CF复合粉末。以Z向尺寸相对误差、... 针对选择性激光烧结(SLS)工艺中聚苯乙烯(PS)粉末烧结件精度不高且强度不能满足实际需求的问题,将经过化学气相沉积法处理的碳纤维(CF)粉末、PS粉末、分散剂和抗静电剂进行机械混合,制备了PS/气相沉积CF复合粉末。以Z向尺寸相对误差、致密度和弯曲强度为实验指标,先采用极差分析法进行单个指标的优化,再利用综合平衡法对多指标正交试验进行整体参数优化分析。结果表明:复合粉末粒度主要分布在30.63~142.00μm;对于PS粉末烧结件,化学气相沉积CF粉末比普通的CF粉末具有更好的改善尺寸精度、填充和增强的效果;烧结件的最佳工艺参数组合为:预热温度为80℃,激光功率为27 W,扫描速度为1 800 mm/s和扫描间距为0.30 mm。此时烧结件的Z向尺寸相对误差为5.47%,致密度为0.626 g/cm3,弯曲强度为10.68 MPa。相比于纯PS粉末烧结件,分别提高了24.55%,30.42%,136.28%。 展开更多
关键词 选区激光烧结 聚苯乙烯 碳纤维 化学气相沉积法 正交试验 综合平衡法 参数优化
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基于表面织构化衬底的石墨烯边缘场发射研究 被引量:1
17
作者 成桂霖 杨健君 +2 位作者 全盛 钟健 于军胜 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第4期290-295,共6页
石墨烯缘于优异的导电性和丰富的电子隧穿边缘,是场发射阴极的良好材料,而CVD法是低成本制备大面积高质量石墨烯的方法,但生长出来的石墨烯平行于衬底,形貌不利于场发射的进行。为解决单层石墨烯的问题,本文提出一种激光表面织构技术提... 石墨烯缘于优异的导电性和丰富的电子隧穿边缘,是场发射阴极的良好材料,而CVD法是低成本制备大面积高质量石墨烯的方法,但生长出来的石墨烯平行于衬底,形貌不利于场发射的进行。为解决单层石墨烯的问题,本文提出一种激光表面织构技术提高石墨烯场发射性能的方法。通过激光表面织构技术,烧蚀铜箔表面,制造具有一定织构的表面形貌。通过表面织构技术结合CVD法生长石墨烯,进行表征和场发射性能测试。结果表明,相比于原样品,织构化铜箔上生长的石墨烯场发射阴极的开启电场降低了11%,场增强因子提高了170%,说明场发射边缘的利用得到了提升,为提高石墨烯场发射性能提供一种新思路。 展开更多
关键词 场发射 石墨烯边缘 激光表面织构 化学气相沉积
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激光诱导化学气相沉积纳米硅的红外光谱 被引量:1
18
作者 王卫乡 刘颂豪 +1 位作者 李道火 刘宗才 《量子电子学》 CAS CSCD 1996年第1期67-73,共7页
对激光化学气相沉积纳米硅的红外光谱进行了研究,结合红外光声光谱考察了退火处理对其红外光谱吸收峰位置的影响,对纳米硅的红外吸收峰进行了标识和讨论。
关键词 红外光谱 纳米硅 激光 化学气相沉积
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激光化学气相沉积法制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜 被引量:2
19
作者 吴慰 张琼 +1 位作者 苏轼 赵培 《武汉工程大学学报》 CAS 2018年第5期514-523,共10页
采用激光化学气相沉积法在(100)取向Al_2O_3衬底上制备了第二代高温超导YBa_2Cu_3O_(7-δ)(YBCO)薄膜,研究了前驱体Y(DPM)3、Ba(DPM)2、Cu(DPM)2的蒸发温度对YBCO薄膜成分的影响规律。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、背散射电子显微镜... 采用激光化学气相沉积法在(100)取向Al_2O_3衬底上制备了第二代高温超导YBa_2Cu_3O_(7-δ)(YBCO)薄膜,研究了前驱体Y(DPM)3、Ba(DPM)2、Cu(DPM)2的蒸发温度对YBCO薄膜成分的影响规律。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、背散射电子显微镜对薄膜进行了表征。结果表明:制备的YBCO薄膜样品成分中含有以下化合物:YBCO、CuYO_2、Cu_2O、Cu_4O_3、Y_2O_3、CuO、CuBaO_2、BaY2O_4、Ba_2Cu_3O_x。在激光功率为130 W,沉积温度为1 123 K,腔体压强为1 kPa,前驱体蒸发温度分别为TY=453 K、TBa=603 K和TCu=453 K的条件下制得成分较单一的c-轴取向YBCO薄膜。同时结果表明载流气Ar气的流速对薄膜成分存在一定影响。 展开更多
关键词 激光化学气相沉积法 YBA2CU3O7-Δ 超导薄膜 显微结构
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激光热解沉积微透镜中衬底温度场的研究 被引量:2
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作者 姚惠贞 宋国瑞 王东 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1994年第1期27-35,共9页
激光化学汽相沉积(LCVD)能在激光波长级区域内实现选择性沉积,再利用高斯光束的特性,可以实现在石英衬底上沉积球形剖面介质膜用作做透镜。其沉积生成形状与沉积速率有关,而沉积速率又与衬底温度及其分布有关。本文通过数学推... 激光化学汽相沉积(LCVD)能在激光波长级区域内实现选择性沉积,再利用高斯光束的特性,可以实现在石英衬底上沉积球形剖面介质膜用作做透镜。其沉积生成形状与沉积速率有关,而沉积速率又与衬底温度及其分布有关。本文通过数学推导与计算机处理,详细描述了激光诱导石英衬底的温度分布,并通过高斯光束光斑扩束方法测量石英衬底表面温度分布。理论与实验相符,从而摸索了改善石英衬底温度分布以实现直接沉积微透镜的要求。 展开更多
关键词 激光化学 温度场 微透镜 衬底
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