-
题名高精度半导体激光打标机F-θ镜头设计
被引量：2
- 1
-
-
作者
李圆圆
王春艳
王志强
-
机构
长春理工大学光电工程学院
-
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第1期202-208,共7页
-
基金
nm级激光打标机关键技术研究,企事业委托产学研合作项目(kyc-mx-xm-2015-009)
-
文摘
为保证半导体激光打标机F-θ镜头的扫描质量,实现系统像高与扫描角的线性变化,需对F-θ镜头给予一定的畸变量,并使其满足等晕条件。分析F-θ镜头工作原理及像差要求,根据1064 nm半导体激光打标机的光源成像要求选择合适的玻璃材料,合理分配每片透镜的光焦度,以保证等晕成像;根据F-θ镜头线性成像要求,计算系统总畸变量为1.6%,系统总畸变量为系统的实际桶形畸变与相对畸变量之和;在光学系统优化设计时,引入这两项优化参数,优化过程中观察系统成像变化情况。设计结果表明:系统MTF曲线接近衍射极限,F-θ镜头相对畸变小于0.36%,各视场均方根半径均小于艾里斑直径,并且整个系统70%的能量集中在直径为16μm的圆内,系统总畸变量为1.58%,满足设计指标要求。
-
关键词
F-θ镜头
畸变
等晕成像
半导体激光打标机
-
Keywords
F-θlens
distortion
isoplanatic imaging
semiconductor laser marking machine
-
分类号
TN249
[电子电信—物理电子学]
-
