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题名车载应答器传输模块电磁干扰研究
被引量：10
- 1
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作者
杨天矾
刘松林
支永健
闵建军
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机构
中车株洲电力机车研究所有限公司
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出处
《控制与信息技术》
2020年第6期95-99,共5页
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文摘
车载应答器传输模块(BTM)是列车自动防护系统的重要组成部分之一,其所处位置电磁环境复杂,在列车实际运行过程中因电磁干扰导致的BTM故障问题频出,存在引发列车安全的隐患。为此,文章对BTM电磁环境进行分析,从抑制干扰源与切断耦合路径两个角度给出了解决方案。实例测试结果表明,采用所提方案,可降低14 dB以上BTM电磁干扰,验证了所提方法的有效性。
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关键词
应答器传输模块
干扰抑制
敏感源
干扰源
耦合路径
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Keywords
BTM(balise transmission module)
interference suppression
sensitive source
interference source
coupling path
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分类号
U223
[交通运输工程—道路与铁道工程]
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题名二次回路中电快速瞬变脉冲群骚扰的研究
被引量：5
- 2
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作者
王玉峰
邹积岩
廖敏夫
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机构
大连理工大学电气工程与应用电子技术系
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出处
《电力系统自动化》
EI
CSCD
北大核心
2007年第16期79-82,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(50507001)~~
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文摘
为有效抑制电快速瞬变脉冲群(EFT/B)骚扰对微机保护装置的干扰,研究了EFT/B骚扰的形成和耦合机理。分析了开关分断操作形成EFT/B骚扰的过程;通过对二次回路中控制继电器操作时形成EFT/B骚扰的研究,分析得出出口继电器线圈上耦合的骚扰电压严重干扰微机保护装置的直流电源电压;采取续流二极管、电磁屏蔽和RC保护等主动防护措施抑制EFT/B骚扰的形成和耦合。结果表明,可从干扰源和耦合途径上有效抑制EFT/B骚扰对微机保护装置的干扰。
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关键词
电快速瞬变脉冲群
微机保护装置
干扰源
耦合途径
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Keywords
EFT/B
microprocessor protection device
interference source
coupling path
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分类号
TM774
[电气工程—电力系统及自动化]
TM863
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题名青海NMH工区谐波干扰特征及压制技术研究
被引量：3
- 3
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作者
于富文
何京国
段卫星
张志林
崔汝国
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机构
中国石油化工集团公司石油工程地球物理有限公司胜利分公司
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出处
《石油物探》
EI
CSCD
北大核心
2015年第6期699-704,共6页
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基金
国家科技重大专项(2011ZX05006-002)
国家高技术研究发展计划(863计划)项目(2011AA060300)共同资助
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文摘
青海NMH工区地表复杂,近地表岩石硬度差异大,有必要开展不同地表耦合条件下可控震源谐波干扰的分布特征研究和压制方法试验。通过理论计算和对实际资料的统计分析,总结了谐波干扰变化规律,确立了相应的谐波干扰压制方法。研究结果表明,可控震源与地表耦合产生的谐波干扰与地表岩石硬度密切相关,一般随地表岩石硬度增加,谐波干扰强度显著增强,但相位畸变相应减小。通过优选激发点位置、有针对性地改善地表耦合条件、合理调节相位控制增益,甚至研究和采用诸如新型震源平板等多种技术措施,尽可能保证在硬度值约40(即接近"半刚度")的地层中激发,可以最大限度降低谐波干扰的影响,提高地震资料的品质。理想情况下,可使得谐波干扰能量降低约30%,单炮地震记录信噪比提高约260%。
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关键词
可控震源
地震采集
谐波干扰
震源耦合
压制技术
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Keywords
vibroseis, seismic acquisition, harmonic interference, source coupling, suppression technique
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分类号
P631
[天文地球—地质矿产勘探]
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题名微机控制系统信号传输通道的抗干扰措施
被引量：2
- 4
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作者
孟军红
刘丹丹
耿立明
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机构
沈阳城市学院
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出处
《电子测试》
2015年第7X期98-100,共3页
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文摘
在微机控制系统中,信号在传输通道上受到干扰常常会遇到,会影响信号传输质量。信号传箱通道产生干扰的主要原因是电磁场藕合或地线环路,本文介绍一些常见的而有效的抗干扰措施。
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关键词
信号传输通道
干扰源
抗干扰措施
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Keywords
Signal transmission channel
interference source
coupling interference
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分类号
TN973
[电子电信—信号与信息处理]
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题名高频、宽带放大器整机电磁兼容性设计
被引量：2
- 5
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作者
付有余
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机构
中国科学院长春光学精密机械研究所
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出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999年第3期79-83,共5页
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文摘
从电磁兼容性理论出发，论述了宽带放大器设计时如何接地、屏蔽、滤波的电磁兼容设计方法。
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关键词
放大器
电磁兼容
干扰源
传感器
电磁耦合
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Keywords
Amplifier, Electromagnetic compatibility, interference source, Sensor, Electromagnetic coupling
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分类号
TN722.02
[电子电信—电路与系统]
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题名现场电测仪表的干扰分析及防护
- 6
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作者
曾斌
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机构
攀枝花钢铁公司炼铁厂
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出处
《仪器仪表用户》
2002年第5期39-41,共3页
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文摘
分析影响电测仪表及装置正常工作的各种因素及耦合方式,并针对性的提出了防护措施。
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关键词
现场电测仪表
干扰
噪声源
耦合方式
共模干扰
差模干扰
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Keywords
interference,Noise source,coupling mode,Common mode interference,Differential mode interference
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分类号
TM93
[电气工程—电力电子与电力传动]
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题名单片机应用系统的抗干扰技术
被引量：1
- 7
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作者
林金泉
牟明朗
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机构
四川工商职业技术学院
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出处
《纸和造纸》
北大核心
2010年第6期39-41,共3页
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文摘
在单片机应用系统设计中,充分考虑抗干扰的要求,认真分析应用系统的主要干扰源、干扰耦合途经及基本要素。在硬件上采用切断干扰传播路径与抑制干扰措施、提高敏感器件的抗干扰性能;在软件上,采用软件陷阱技术防干扰引起程序跑飞,并对两个可能存在的隐患采取有效的措施。
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关键词
干扰源
抗干扰
耦合路径
程序跑飞
软件陷阱技术
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Keywords
interference source
anti-interference
coupling path
program-run leaning
software trap technique
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分类号
TP368.1
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
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题名铁氧体磁性器件对开关电源干扰的抑制
被引量：1
- 8
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作者
魏秀梅
秦会斌
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机构
杭州电子科技大学
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出处
《安全与电磁兼容》
2013年第5期16-18,共3页
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文摘
分析了铁氧体磁性器件的特性以及电源中的电磁干扰噪声源和耦合路径,然后在噪声源处加入铁氧体磁珠,并给出了相关实验测试结果。结果表明:铁氧体磁珠能很好地抑制电源的电磁干扰。
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关键词
开关电源
电磁干扰抑制
噪声源
耦合路径
铁氧体磁珠
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Keywords
switch power supply
electromagnetic interference suppression
noise source
coupling path
ferrite bead
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分类号
TM277
[一般工业技术—材料科学与工程]
TN86
[电气工程—电工理论与新技术]
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题名大型PLC机的功能与故障分析及对策
- 9
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作者
吴建平
杨贵庭
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机构
中国广州口岸药品检验所
广州永正科技节能有限公司
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出处
《电气传动自动化》
2011年第4期38-43,共6页
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文摘
较详细地介绍了大型PLC功能并对各种故障现象进行了分析及处理,阐述了干扰源、干扰侵入途径及耦合方式、防扰的基本原则,并针对不同的干扰侵入方式,采取了相应对策及有效措施。能否对故障现象迅速、准确判断,对确保PLC、CCS、DCS、FCS大系统正常安全稳定运行和提高设备运转率及经济效益非常关键。
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关键词
干扰源及耦合方式:操作过电压:高次谐波过电压
雷直击及感应过电压和涌流
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Keywords
interference source and coupling
over-voltage operation
high harmonic over-vohage
lightning stroke and inducing over-voltage and surge
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分类号
TP273
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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题名表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量：5
- 10
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作者
董启明
郭小伟
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机构
电子科技大学光电信息学院
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
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基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
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文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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Keywords
interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as S
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名基于AT89S52单片机智能仪器的抗干扰技术研究
被引量：7
- 11
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作者
郭一军
张迁
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机构
黄山学院电子信息工程系
昆明船舶设备集团公司
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出处
《自动化仪表》
CAS
北大核心
2009年第5期63-65,共3页
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基金
黄山学院科学研究计划资助项目(编号:2007xkjq006)
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文摘
单片机在智能仪器仪表中获得了广泛的应用。在智能仪器的使用现场存在着许多干扰源,为了提高智能仪器的精度和工作可靠性,必须采取抗干扰措施。从软硬件两方面研究了智能仪器的抗干扰措施,这些措施对于提高智能仪器的可靠性具有显著的效果。
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关键词
智能仪器
抗干扰
数字滤波
干扰源
耦合
电源干扰
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Keywords
Intelligent instrument Anti-interference Digital filtering interference source coupling Power-disturbance
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分类号
TN973.3
[电子电信—信号与信息处理]
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题名电磁兼容在集成电路中的设计应用
被引量：6
- 12
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作者
黄明华
周耀坤
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机构
广州市公路交通设施厂
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出处
《机电工程技术》
2005年第10期62-65,共4页
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文摘
本文就实际工程中普遍存在的电磁干扰问题,结合电磁兼容思想,从电磁干扰的产生、种类以及耦合途径出发,对集成电路的电磁兼容性设计方法进行了总结和归纳。
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关键词
电磁兼容
干扰源
耦合
滤波
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Keywords
EMC interference source coupling filter
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分类号
TM15
[电气工程—电工理论与新技术]
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题名过程控制抗干扰技术的探讨
- 13
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作者
徐彩利
刘厦
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机构
马钢建设集团机电分公司
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出处
《冶金动力》
2004年第5期85-88,共4页
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文摘
干扰是过程控制中经常遇到的不利因素,为了使自动控制系统安全可靠地运行,必须提高自动控制系统的抗干扰能力,探讨了抗干扰的各种措施与技术。
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关键词
过程控制
干扰源
耦合通道
干扰对象
抗干扰能力
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Keywords
procedure control
interference source
coupling channel interference objective
anti-interference measure
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分类号
TP273
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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