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甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷改性SiO_2的制备 被引量：10
1
作者 姜立忠 战佳宇 +1 位作者 武德珍 金日光 《北京化工大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期287-289,共3页
采用原位一步法制备了表面甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS)改性的单分散纳米二氧化硅(SiO2)粒子。该过程将纳米SiO2的缩合形成过程与功能化改性同步进行,并用红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、热失重分析(T... 采用原位一步法制备了表面甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS)改性的单分散纳米二氧化硅(SiO2)粒子。该过程将纳米SiO2的缩合形成过程与功能化改性同步进行,并用红外光谱(FTIR)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)、热失重分析(TGA)等测试方法研究了粒子的表面化学结构、形态和分散性以及粒子中MPS的含量。结果表明,原位一步法制备的MPS改性纳米SiO2粒子粒径约75 nm,基本上呈单分散状态,且含有大量的MPS功能性基团,其表面密度为3.45μmol/m2。 展开更多
关键词 原位一步法 甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷(MPS) 单分散 纳米二氧化硅
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