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面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述
被引量：
11
1
作者
王磊杰
张鸣
+2 位作者
朱煜
叶伟楠
杨富中
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第9期1909-1918,共10页
超精密平面光栅编码器位移测量技术是32~7 nm节点浸没式光刻机的核心技术。通过分析浸没式光刻机平面光栅位置系统的需求和布局,提出了光刻机专用超精密平面光栅编码器的基本需求。针对现有的光栅编码器,开展了基本测量光路方案、相位...
超精密平面光栅编码器位移测量技术是32~7 nm节点浸没式光刻机的核心技术。通过分析浸没式光刻机平面光栅位置系统的需求和布局,提出了光刻机专用超精密平面光栅编码器的基本需求。针对现有的光栅编码器,开展了基本测量光路方案、相位探测方案、分辨率增强光路方案、离轴/转角允差光路方案、死程误差抑制光路方案的综述分析,提出了现有设计方案面向光刻机应用所需要解决的关键问题。面向亚纳米级测量精度的需求,针对光栅编码器的仪器误差,对周期非线性误差、死程误差、热漂移误差和波前畸变误差进行了综述分析,提出了平面光栅编码器实现亚纳米精度所需要解决的关键问题。本综述为光刻机专用超精密平面光栅编码器的研制提供了参考。
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关键词
浸没式光刻机
光学干涉式光栅编码器
位移测量
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职称材料
超精密空间分离式外差利特罗平面光栅编码器位移测量系统
被引量：
4
2
作者
王磊杰
郭子文
+2 位作者
叶伟楠
张鸣
朱煜
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第5期499-509,共11页
面向浸没式光刻机双工件台的超精密位置测量应用需求,提出了一种超精密空间分离式外差利特罗平面光栅编码器位移测量系统。给出了测量系统的原理与方案设计、系统各部件的设计及制造、编码器测量原理推导及实验验证等。所设计平面光栅...
面向浸没式光刻机双工件台的超精密位置测量应用需求,提出了一种超精密空间分离式外差利特罗平面光栅编码器位移测量系统。给出了测量系统的原理与方案设计、系统各部件的设计及制造、编码器测量原理推导及实验验证等。所设计平面光栅编码器位移测量系统的相位卡的细分率为4096,测量分辨率为x50 pm/z25 pm。实验结果表明:该平面光栅位移测量系统可实现x向和z向位移的同时测量,z向运动行程为±1 mm,满足光刻机双工件台的垂向调焦需求;Rx/Ry/Rz单轴转动或三轴联合转动极限转角为±1.5 mrad时,交流信号质量仍然满足测量要求,光刻机双工件台的Rx/Ry/Rz的调平转动满足需求。所设计的平面光栅编码器位移测量系统能够实现光刻机双工件台相应的测量功能且具有较高的性能指标。
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关键词
浸没式光刻机
位移测量
平面光栅编码器
空间分离
外差
利特罗角
下载PDF
职称材料
题名
面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述
被引量：
11
1
作者
王磊杰
张鸣
朱煜
叶伟楠
杨富中
机构
清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室&精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第9期1909-1918,共10页
基金
国家重大科技专项(02专项)资助项目(No.2017ZX02102004,No.2018ZX02101003)
文摘
超精密平面光栅编码器位移测量技术是32~7 nm节点浸没式光刻机的核心技术。通过分析浸没式光刻机平面光栅位置系统的需求和布局,提出了光刻机专用超精密平面光栅编码器的基本需求。针对现有的光栅编码器,开展了基本测量光路方案、相位探测方案、分辨率增强光路方案、离轴/转角允差光路方案、死程误差抑制光路方案的综述分析,提出了现有设计方案面向光刻机应用所需要解决的关键问题。面向亚纳米级测量精度的需求,针对光栅编码器的仪器误差,对周期非线性误差、死程误差、热漂移误差和波前畸变误差进行了综述分析,提出了平面光栅编码器实现亚纳米精度所需要解决的关键问题。本综述为光刻机专用超精密平面光栅编码器的研制提供了参考。
关键词
浸没式光刻机
光学干涉式光栅编码器
位移测量
Keywords
immersion
lithography
scanner
optical
interferential
grating
encoder
displacement
measurement
分类号
TH741 [机械工程—光学工程]
下载PDF
职称材料
题名
超精密空间分离式外差利特罗平面光栅编码器位移测量系统
被引量：
4
2
作者
王磊杰
郭子文
叶伟楠
张鸣
朱煜
机构
清华大学机械工程系摩擦学国家重点实验室&精密超精密制造装备及控制北京市重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第5期499-509,共11页
基金
02国家重大科技专项资助项目(No.2017ZX02102004,No.2018ZX02101003)。
文摘
面向浸没式光刻机双工件台的超精密位置测量应用需求,提出了一种超精密空间分离式外差利特罗平面光栅编码器位移测量系统。给出了测量系统的原理与方案设计、系统各部件的设计及制造、编码器测量原理推导及实验验证等。所设计平面光栅编码器位移测量系统的相位卡的细分率为4096,测量分辨率为x50 pm/z25 pm。实验结果表明:该平面光栅位移测量系统可实现x向和z向位移的同时测量,z向运动行程为±1 mm,满足光刻机双工件台的垂向调焦需求;Rx/Ry/Rz单轴转动或三轴联合转动极限转角为±1.5 mrad时,交流信号质量仍然满足测量要求,光刻机双工件台的Rx/Ry/Rz的调平转动满足需求。所设计的平面光栅编码器位移测量系统能够实现光刻机双工件台相应的测量功能且具有较高的性能指标。
关键词
浸没式光刻机
位移测量
平面光栅编码器
空间分离
外差
利特罗角
Keywords
immersion
lithography
scanner
displacement
measurement
grid
encoder
spatial-separated
heterodyne
Littrow
angle
分类号
TH741 [机械工程—光学工程]
TP274 [机械工程—仪器科学与技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
面向浸没式光刻机的超精密光学干涉式光栅编码器位移测量技术综述
王磊杰
张鸣
朱煜
叶伟楠
杨富中
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
11
下载PDF
职称材料
2
超精密空间分离式外差利特罗平面光栅编码器位移测量系统
王磊杰
郭子文
叶伟楠
张鸣
朱煜
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
4
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职称材料
已选择
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