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用于HIT太阳能电池的非晶硅薄膜制备与性能研究 被引量:3
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作者 齐晓光 雷青松 +2 位作者 杨瑞霞 薛俊明 柳建平 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期2230-2234,共5页
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术(RF-PECVD),在不同硅烷浓度下制备本征非晶硅薄膜,研究薄膜材料的微结构和光电性能。研究表明,在硅烷浓度为5%时,制备的薄膜材料处于非晶/微晶相过渡区域,具有宽光学带隙、低吸收系数、较高电导率... 采用射频等离子体增强化学气相沉积技术(RF-PECVD),在不同硅烷浓度下制备本征非晶硅薄膜,研究薄膜材料的微结构和光电性能。研究表明,在硅烷浓度为5%时,制备的薄膜材料处于非晶/微晶相过渡区域,具有宽光学带隙、低吸收系数、较高电导率和较好的致密性。作为钝化层应用到HIT太阳电池中,具有良好的钝化效果,在n型单晶硅衬底上制备出了效率为13.92%的太阳电池。 展开更多
关键词 irf-pecvd 非晶硅薄膜 硅烷浓度 HIT太阳电池
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