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水解-刻蚀法制备CuMnO_2纳米片阵列薄膜及其催化性能
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作者 朱倩 李二锐 +5 位作者 周晨 许艺术 张颖朦 王凯 杨则恒 张卫新 《化工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期4196-4202,共7页
以Cu O纳米片阵列为前体,通过水解-刻蚀法在水热条件下制备出了Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜。由于同时存在具有催化活性的Cu(Ⅰ)和Mn(Ⅲ),Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜对催化H2O_2氧化降解亚甲基蓝(MB)溶液具有优异的效果。进一步放大实验表明,... 以Cu O纳米片阵列为前体,通过水解-刻蚀法在水热条件下制备出了Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜。由于同时存在具有催化活性的Cu(Ⅰ)和Mn(Ⅲ),Cu Mn O_2纳米片阵列薄膜对催化H2O_2氧化降解亚甲基蓝(MB)溶液具有优异的效果。进一步放大实验表明,该Cu Mn O_2薄膜具有稳定的催化性能。基于基底生长的薄膜催化剂能够解决粉体催化剂容易团聚、分离回收困难和容易造成二次污染等问题,在染料废水处理方面具有很好的工程应用前景。 展开更多
关键词 水解-刻蚀 合成 CuMnO2 纳米结构 催化
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