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真空二流体技术制备高精细线路的研究
1
作者
文根硕
李玖娟
+4 位作者
周国云
孙炳合
周先文
毛永胜
文泽生
《印制电路信息》
2024年第7期9-14,共6页
为满足日益精细化和复杂化的印制电路板(PCB)产品需求,真空二流体技术作为新型蚀刻技术在减成法工艺中得到越来越广泛的应用。探索利用减成法工艺结合真空二流体技术制备不同铜厚的高精细线路。研究结果显示,使用18μm、25μm及35μm铜...
为满足日益精细化和复杂化的印制电路板(PCB)产品需求,真空二流体技术作为新型蚀刻技术在减成法工艺中得到越来越广泛的应用。探索利用减成法工艺结合真空二流体技术制备不同铜厚的高精细线路。研究结果显示,使用18μm、25μm及35μm铜箔分别制备线宽线距为30/30μm、35/35μm和40/40μm的精细线路时,真空二流体技术提高了线宽过程能力指数(Cpk),对横向线路的改善效果最为显著,且随着铜箔厚度的减小,蚀刻因子的增大也更为明显。
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关键词
真空二流体技术
蚀刻
减成法
高精细线路
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职称材料
题名
真空二流体技术制备高精细线路的研究
1
作者
文根硕
李玖娟
周国云
孙炳合
周先文
毛永胜
文泽生
机构
电子科技大学材料与能源学院
江苏博敏电子有限公司
赣州市深联电路有限公司
出处
《印制电路信息》
2024年第7期9-14,共6页
文摘
为满足日益精细化和复杂化的印制电路板(PCB)产品需求,真空二流体技术作为新型蚀刻技术在减成法工艺中得到越来越广泛的应用。探索利用减成法工艺结合真空二流体技术制备不同铜厚的高精细线路。研究结果显示,使用18μm、25μm及35μm铜箔分别制备线宽线距为30/30μm、35/35μm和40/40μm的精细线路时,真空二流体技术提高了线宽过程能力指数(Cpk),对横向线路的改善效果最为显著,且随着铜箔厚度的减小,蚀刻因子的增大也更为明显。
关键词
真空二流体技术
蚀刻
减成法
高精细线路
Keywords
vacuum
dual
⁃
fluid
technology
etching
subtractive
process
high
⁃
precision
circuit
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
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被引量
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1
真空二流体技术制备高精细线路的研究
文根硕
李玖娟
周国云
孙炳合
周先文
毛永胜
文泽生
《印制电路信息》
2024
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