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单模共振干涉光刻曝光显影模拟研究 被引量：2
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作者 杨正 张志友 +2 位作者 李淑红 高福华 杜惊雷 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期9-14,共6页
针对纳米光栅的加工需求,提出一种以柱形光栅耦合结构为基础的单模共振干涉光刻方法。该方法以柱形光栅耦合结构为掩模,结合光刻胶和基底层形成介质波导,入射光经过光栅衍射后以特定衍射级次(±1级)进入光刻胶形成干涉条纹,光刻胶... 针对纳米光栅的加工需求,提出一种以柱形光栅耦合结构为基础的单模共振干涉光刻方法。该方法以柱形光栅耦合结构为掩模,结合光刻胶和基底层形成介质波导,入射光经过光栅衍射后以特定衍射级次(±1级)进入光刻胶形成干涉条纹,光刻胶作为波导层,可将入射光光强增强25～50倍,从而大大提高了光能利用率。采用441nm的入射光,通过模拟计算,可以得到周期小于λ/3、凹槽宽度为42～88nm(λ/10～λ/5)的纳米结构。 展开更多
关键词 光栅 介质波导 单模共振干涉 光刻
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