期刊文献+
共找到19篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
锗单晶材料的生长与应用 被引量:13
1
作者 张亚萍 席珍强 +2 位作者 张瑞丽 张秀芳 孙法 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 2009年第1期14-16,20,共4页
锗单晶材料由于独特的性能而被广泛应用于微电子技术、红外技术、核探测、太阳电池等多个领域。简要介绍了直拉生长的工艺及特点,无位错直拉锗单晶的生长与现状,以及锗单晶材料在不同领域的应用和发展。
关键词 单晶 直拉法
下载PDF
高纯锗晶体的研究进展 被引量:5
2
作者 朱显超 林泉 +3 位作者 马远飞 霍承松 冯德伸 郑安生 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第8期876-885,共10页
高纯锗晶体是制备工艺复杂难度较大的高端光电材料。高纯锗晶体可用于制作高纯锗探测器,在核物理、粒子物理、天体物理、核安全、微量元素分析、安检及国防等领域具有广泛应用。随着国内外核电和暗物质探测实验的快速发展,对高纯锗探测... 高纯锗晶体是制备工艺复杂难度较大的高端光电材料。高纯锗晶体可用于制作高纯锗探测器,在核物理、粒子物理、天体物理、核安全、微量元素分析、安检及国防等领域具有广泛应用。随着国内外核电和暗物质探测实验的快速发展,对高纯锗探测器的需求逐渐扩大,因而高纯锗晶体具有广阔的市场前景。高纯锗晶体的制备研究受到持续关注,欧美国家已经实现高纯锗晶体的商业化生产,国内目前正在开展高纯锗晶体的研制工作,但尚未制备出探测器级高纯锗晶体。高纯锗晶体的制备过程主要包括多晶制备和单晶生长两方面,其中多晶制备是高纯锗晶体制备的关键步骤。简要介绍了高纯锗晶体的发展历史和研究现状,详细论述了高纯锗晶体的制备方法,着重对高纯锗晶体的制备工艺、性能表征、基本特性和应用进展进行总结,最后指出了高纯锗晶体研究中亟待解决的问题和发展趋势。 展开更多
关键词 高纯锗晶体 多晶制备 单晶生长 高纯锗探测器
原文传递
锗单晶材料的发展现状 被引量:6
3
作者 董汝昆 吴绍华 +4 位作者 王柯 尹国良 史娜娜 姚杨 郭晨宇 《红外技术》 CSCD 北大核心 2021年第5期510-515,共6页
锗因其资源稀缺、优异的光学和物理性能,广泛应用于光纤系统、红外光学系统、电子和太阳能应用、探测器等高科技领域,是战略性产业所需的重要功能材料和结构材料。简单介绍了目前国内锗单晶生长的两种主要方法:直拉法(Czochralski,CZ)... 锗因其资源稀缺、优异的光学和物理性能,广泛应用于光纤系统、红外光学系统、电子和太阳能应用、探测器等高科技领域,是战略性产业所需的重要功能材料和结构材料。简单介绍了目前国内锗单晶生长的两种主要方法:直拉法(Czochralski,CZ)和垂直梯度凝固法(vertical gradient freeze,VGF)。对国内和国外知名锗材料生产企业的锗单晶生长方法、直径、电阻率等相关技术参数,进行了统计和比较。针对不同的单晶材料性能,分析了红外光学用锗单晶、太阳能电池用锗单晶和高纯锗单晶的应用领域和发展现状。 展开更多
关键词 锗单晶 直拉法 垂直梯度凝固法
下载PDF
Indentation size effect of germanium single crystal with different crystal orientations 被引量:6
4
作者 Ning LIU Xiao-jing YANG +1 位作者 Zheng YU Lei ZHAO 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第1期181-190,共10页
In order to study the indentation size effect(ISE)of germanium single crystals,nano-indentation experiments were carried out on the(100),(110)and(111)plane-orientated germanium single crystals.The true hardness of eac... In order to study the indentation size effect(ISE)of germanium single crystals,nano-indentation experiments were carried out on the(100),(110)and(111)plane-orientated germanium single crystals.The true hardness of each crystal plane of germanium single crystals was calculated based on the Meyer equation,proportional sample resistance(PSR)model and Nix-Gao model,and the indentation size effect(ISE)factor of each crystal plane was calculated.Results show that,the germanium single crystals experience elastic deformation,plastic deformation and brittle fracture during the loading process,and the three crystal planes all show obvious ISE phenomenon.All three models can effectively describe the ISE of germanium single crystals,and the calculated value of Nix-Gao model is the most accurate.Compared with the other two crystal planes,Ge(110)has the highest size effect factor m and the highest hardness,which indicates that Ge(110)has the worst plasticity. 展开更多
关键词 germanium single crystal indentation size effect Meyer equation proportional sample resistance(PSR)model Nix-Gao model
下载PDF
锗单晶的各向异性对单点金刚石切削的影响 被引量:5
5
作者 夏晓光 张宇 《新技术新工艺》 2014年第2期110-112,共3页
锗单晶是一种各向异性材料,在切削的过程中,将使切削力随晶向和晶面发生变化。针对锗单晶各向异性对切削力的影响,在理论上计算出了切削力随不同晶面和晶向变化的波动范围,并且指出了最佳的切削方向。
关键词 锗单晶 各向异性 切削力
下载PDF
13N超高纯锗单晶的制备与性能研究
6
作者 顾小英 赵青松 +4 位作者 牛晓东 狄聚青 张家瑛 肖溢 罗恺 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第3期497-502,共6页
13N超高纯锗单晶是制作超高纯锗探测器的核心材料。本文通过还原法获得还原锗锭,再由水平区熔法提纯获得12N高纯锗多晶,最后由直拉法生长得到13N超高纯锗单晶。通过低温霍尔测试、位错密度检测、深能级瞬态谱(DLTS)测试对13N超高纯锗单... 13N超高纯锗单晶是制作超高纯锗探测器的核心材料。本文通过还原法获得还原锗锭,再由水平区熔法提纯获得12N高纯锗多晶,最后由直拉法生长得到13N超高纯锗单晶。通过低温霍尔测试、位错密度检测、深能级瞬态谱(DLTS)测试对13N超高纯锗单晶性能进行分析。低温霍尔测试结果显示,晶体头部截面平均迁移率为4.515×10^(4)cm^(2)·V^(-1)·s^(-1),载流子浓度为1.176×10^(10)cm^(-3),导电类型为p型,位错密度为2256 cm^(-2);尾部截面平均迁移率为4.620×10^(4)cm^(2)·V^(-1)·s^(-1),载流子浓度为1.007×10^(10)cm^(-3),导电类型为p型,位错密度为2589 cm^(-2)。晶体深能级杂质浓度为1.843×10^(9)cm^(-3)。以上结果表明该晶体是13N超高纯锗单晶。 展开更多
关键词 锗单晶 探测器 迁移率 载流子浓度 位错密度
下载PDF
单晶锗抛光过程中的材料变形和边缘效应研究 被引量:2
7
作者 杨晓京 赵垒 《塑性工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第12期97-105,共9页
为提高单晶锗片抛光的表面质量和面型精度,基于ABAQUS建立了Φ9μm粒径的单晶金刚石磨粒与(111)晶向的单晶锗片作用的有限元模型,进行了变载仿真实验,分析了磨粒去除单晶锗片表面材料的机理,将单晶锗材料变形分为弹性变形、塑性变形、... 为提高单晶锗片抛光的表面质量和面型精度,基于ABAQUS建立了Φ9μm粒径的单晶金刚石磨粒与(111)晶向的单晶锗片作用的有限元模型,进行了变载仿真实验,分析了磨粒去除单晶锗片表面材料的机理,将单晶锗材料变形分为弹性变形、塑性变形、脆塑转变和脆性破坏4个阶段,并得到了各阶段对应的加载力范围。进行了18、24、30和36 m N这4组恒载仿真实验,分析了单晶锗片产生边缘效应的原因,结果表明:加载力越大,边缘效应越明显。进行了加载力为58.8、78.4、98.0和117.6 N的4组抛光实验,使用原子力显微镜观察抛光后的表面三维形貌,使用粗糙度测量仪测量抛光后的表面轮廓。最终形貌呈现的材料变形规律以及轮廓呈现的加载力对边缘效应的影响规律均与仿真结果一致,证明了仿真的有效性。 展开更多
关键词 单晶锗 单晶金刚石 材料变形 边缘效应
下载PDF
大直径锗单晶制备工艺研究及其指标分析 被引量:2
8
作者 李宝学 赵燕 +1 位作者 罗玉萍 孙吉单 《云南冶金》 2016年第6期50-52,共3页
采用直拉法(Czochralski method)生成了直径为100 mm、200 mm和300 mm的N型红外用锗单晶,研究了拉晶工艺参数对拉晶的影响,讨论了拉晶速度、成品率和单位质量锗单晶电耗与单晶直径的关系,并对不同直径单晶的晶帽差异进行分析。
关键词 直拉法 锗单晶 工艺参数
下载PDF
锗单晶在酸性SiO_(2)抛光液条件下的抛光机理及加工工艺 被引量:2
9
作者 杲星 顾跃 +4 位作者 夏卫东 董鸿林 甘禹 徐扬 丁雨憧 《压电与声光》 CAS 北大核心 2022年第3期467-470,473,共5页
该文研究了化学机械抛光(CMP)条件下,锗单晶在含HNO_(3)的SiO_(2)抛光液中的腐蚀过程。通过改变抛光时间,分析锗单晶表面状态的变化规律。结果表明,在SiO_(2)抛光液pH值为1~2时,SiO_(2)抛光液中存在Si—OH和Si—O-形式;锗单晶先与HNO_(3... 该文研究了化学机械抛光(CMP)条件下,锗单晶在含HNO_(3)的SiO_(2)抛光液中的腐蚀过程。通过改变抛光时间,分析锗单晶表面状态的变化规律。结果表明,在SiO_(2)抛光液pH值为1~2时,SiO_(2)抛光液中存在Si—OH和Si—O-形式;锗单晶先与HNO_(3)反应生成Ge(NO_(3))_(4),而后Ge^(4+)的含氧酸盐会剧烈水解生成Ge—OH,Ge—OH继续反应并以Ge—OH_(2)^(+)形式存在。由于表面电荷的吸引,Si—O-和Ge—OH_(2)^(+)在锗单晶表面生成Si—O—Ge软化层,从动力学角度加快了腐蚀速率,促进了表面抛光的程度。抛光时间为15~20 min时,机械抛光和侵蚀的法向速度处于平衡状态,CMP抛光后锗单晶表面粗糙度S_(a)≤0.8 nm,10倍显微镜下无划痕、麻点。 展开更多
关键词 锗单晶 化学机械抛光 抛光液 粗糙度
下载PDF
6英寸低位错锗单晶生长热场设计 被引量:1
10
作者 陈晨 赵堃 韩焕鹏 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第6期979-986,共8页
锗片作为衬底材料已在空间太阳电池领域得到广泛的应用,新型锗基空间太阳能电池对锗片的需求由4英寸(1英寸=2.54 cm)提高到6英寸后,低位错锗单晶的生长难度增大。本文设计开发了一种适用于直拉法生长大尺寸、低位错锗单晶的双加热器热... 锗片作为衬底材料已在空间太阳电池领域得到广泛的应用,新型锗基空间太阳能电池对锗片的需求由4英寸(1英寸=2.54 cm)提高到6英寸后,低位错锗单晶的生长难度增大。本文设计开发了一种适用于直拉法生长大尺寸、低位错锗单晶的双加热器热场系统,模拟研究了不同形状主加热器的热场分布,从而得到最优的热场环境。研究发现:渐变长度为L/h=1/2、渐变率α为65°的渐变型主加热器热场结构能够获得最佳的热场分布,有利于低位错单晶的生长。经验证,生长的锗单晶热应力较低,位错密度在310~450 cm^(-2)范围内。 展开更多
关键词 单晶生长 热场 加热器 温度梯度 位错密度
下载PDF
UG NX4在光学超精密车削加工中应用 被引量:1
11
作者 王磊 张宇 +1 位作者 贾丽刚 郭勤静 《工具技术》 北大核心 2008年第5期42-44,共3页
针对光学超精密加工中数控程序的编写问题,采用UG NX4对实际的锗单晶零件进行建模,在其加工环境中,创建加工几何体,依据Tylor Ultra Form机床实际加工参数合理选择刀具,对车削的加工过程进行了三维动态仿真模拟,并生成刀具系统源文件,... 针对光学超精密加工中数控程序的编写问题,采用UG NX4对实际的锗单晶零件进行建模,在其加工环境中,创建加工几何体,依据Tylor Ultra Form机床实际加工参数合理选择刀具,对车削的加工过程进行了三维动态仿真模拟,并生成刀具系统源文件,转换成机床可识别的数控加工程序,应用于机床车削出Φ38mm实际锗单晶零件,利用高精度轮廓仪进行加工后的面形测量,其表面粗糙度为0.1507μm,远远达到了实际生产要求。 展开更多
关键词 超精密加工 锗单晶 UG NX4 仿真模拟
下载PDF
用VGF法生长6英寸锗单晶中籽晶熔接工艺研究
12
作者 肖祥江 惠峰 +1 位作者 董汝昆 吕春富 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第11期860-863,869,共5页
采用垂直梯度凝固(VGF)法生长单晶时,其温度梯度较低,生长速率较小,目前已成为生长大直径、低位错密度晶体的主流技术之一。在VGF法生长单晶的过程中,籽晶的熔接工艺直接影响着单晶生长的成败。研究了拉速器速度、保温时间及石英棉用量... 采用垂直梯度凝固(VGF)法生长单晶时,其温度梯度较低,生长速率较小,目前已成为生长大直径、低位错密度晶体的主流技术之一。在VGF法生长单晶的过程中,籽晶的熔接工艺直接影响着单晶生长的成败。研究了拉速器速度、保温时间及石英棉用量对6英寸(1英寸=2.54 cm)锗单晶VGF生长中籽晶熔接的影响,并确定了最佳的籽晶熔接工艺。研究结果发现,当拉速器速度为3~4 mm/h、保温时间为75~100 min、石英棉用量为15~20 g时,实现了对籽晶熔接工艺的精准控制,熔接长度为12~22 mm,位错密度小于500 cm^(-2),有效地降低了生产成本,提高了生产效率和单晶率。 展开更多
关键词 垂直梯度凝固(VGF) 锗单晶 籽晶 熔接 位错密度
下载PDF
隧道二极管用锗单晶制备的温场设计
13
作者 韩兆忠 胡国元 +1 位作者 褚乃林 杨海 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第2期120-122,共3页
通过设计合适的温场,解决了重掺单晶生长过程中的组分过冷和位错密度高的问题,获得了高掺杂浓度高迁移率的无位错单晶。
关键词 温场 单晶 重掺 隧道二极管
下载PDF
锗单晶的位错研究
14
作者 闫洪 朱良 +1 位作者 陈绍兰 杨祖贵 《电子质量》 2012年第11期66-67,共2页
采用金相分析方法研究了锗单晶的位错,腐蚀试剂的选择对位错的显示有较大影响。实验表明,铁氰化钾腐蚀液能清晰地显示出锗单晶的位错,其位错腐蚀坑的形状是三角形,经过计算,锗单晶的位错密度大约为11 339根/cm2。
关键词 锗单晶 位错形状和密度 金相分析
下载PDF
高纯锗探测器的广泛应用和自主研制进展 被引量:10
15
作者 白尔隽 郑志鹏 +6 位作者 高德喜 孙慧斌 赵海歌 孙志嘉 米家蓉 谢天敏 李学洋 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期52-56,共5页
以目前国际上极为活跃开展的暗物质探测、无中微子双β衰变研究为例,评述了高纯锗探测器的重要性及其广泛的应用前景。介绍了己开展的高纯锗单晶、探测器制备的关键技术研究进展:合作单位已研制出了用于高纯锗单晶材料制备的区熔炉、单... 以目前国际上极为活跃开展的暗物质探测、无中微子双β衰变研究为例,评述了高纯锗探测器的重要性及其广泛的应用前景。介绍了己开展的高纯锗单晶、探测器制备的关键技术研究进展:合作单位已研制出了用于高纯锗单晶材料制备的区熔炉、单晶炉;并制备出直径为20~50 cm、纯度为12N(<4×1011atoms/cm3)、位错<5000 atoms/cm2的锗单晶;掌握了高纯锗探测器(平面型、同轴型)制备的关键技术,用进口高纯锗单晶材料制备出的同轴型高纯锗探测器对γ射线的能量分辨率及探测效率均达到进口产品指标,使用自制的12N高纯锗单晶材料己制备出平面型高纯锗探测器。呼吁加速高纯锗研制的自主创新步伐,尽早实现其国产化目标。 展开更多
关键词 高纯锗单晶 高纯锗探测器 暗物质
原文传递
辐射探测器用高纯锗单晶技术研究 被引量:4
16
作者 刘锋 耿博耘 韩焕鹏 《电子工业专用设备》 2012年第5期27-31,共5页
高纯锗单晶可以用作制备X射线辐射探测器。介绍了锗辐射探测器的研究现状与结构,论述了辐射探测器对高纯锗单晶的净杂质浓度、位错方面的要求。介绍了目前高纯锗生长主要的提纯方法和单晶生长方法,论述了以上这两种方法的主要技术特点。
关键词 高纯锗单晶 辐射探测器 锗提纯 单晶生长
下载PDF
高纯锗单晶的制备与位错密度分析 被引量:1
17
作者 郝昕 甘林 +5 位作者 胡世鹏 罗奇 吴正新 钟健 赵海歌 孙慧斌 《深圳大学学报(理工版)》 CAS CSCD 北大核心 2022年第5期504-508,共5页
高纯锗探测器在辐射探测领域具有重要地位.经过区熔提纯和单晶生长2个阶段,成功制备了纯度为13N、位错密度介于100~10000 cm^(-2)之间的高纯锗.其中,区熔实验使用自制水平区熔炉,在高纯氢气环境下,通过20~50次区熔以达到提纯要求.单晶... 高纯锗探测器在辐射探测领域具有重要地位.经过区熔提纯和单晶生长2个阶段,成功制备了纯度为13N、位错密度介于100~10000 cm^(-2)之间的高纯锗.其中,区熔实验使用自制水平区熔炉,在高纯氢气环境下,通过20~50次区熔以达到提纯要求.单晶生长采用直拉法,在高纯氢气环境下,沿[100]晶向生长,单晶有效长度>50 mm,有效直径>30 mm.采用浸蚀法测量位错密度,利用酸性腐蚀液腐蚀锗单晶片(100)晶面,读取位错腐蚀坑数量.结果显示,距单晶棒头部25、50和72 mm处的位错密度分别为2537、3425和4075 cm^(-2),表明在晶锭头部72 mm前,位错密度满足高纯锗探测器制备的要求.研究可为高纯锗单晶的制备提供参考. 展开更多
关键词 半导体材料 晶体 高纯锗制备 高纯锗探测器 单晶生长 位错密度 直拉法
下载PDF
双段式加热锗单晶生长设备的结构设计
18
作者 原洛渭 高利强 《电子工业专用设备》 2008年第2期11-14,共4页
锗单晶和锗单晶片是重要的半导体材料,锗单晶的生长广泛采用的是CZ(直拉)法,其主要结构包括底座及立柱装置、下传动装置、主炉室、插板阀、副炉室、籽晶提升旋转机构、液压驱动装置、真空系统、充气系统及水冷系统等。
关键词 锗单晶 双段式加热 单晶炉
下载PDF
单晶Ge纳米薄膜面向热导率的分子动力学模拟 被引量:1
19
作者 张兴丽 吴国强 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第3期656-659,共4页
利用非平衡分子动力学模拟方法研究了单晶Ge薄膜的厚度以及温度对其面向热导率的影响规律。针对单晶Ge薄膜的结构特点和导热机制,采用Stillinger-Weber势能模型描述Ge粒子间的相互作用,并且建立面向稳态热传导模型。模拟结果显示,单晶G... 利用非平衡分子动力学模拟方法研究了单晶Ge薄膜的厚度以及温度对其面向热导率的影响规律。针对单晶Ge薄膜的结构特点和导热机制,采用Stillinger-Weber势能模型描述Ge粒子间的相互作用,并且建立面向稳态热传导模型。模拟结果显示,单晶Ge薄膜面向热导率具有明显尺寸效应,随薄膜厚度的增加而增大,随温度的升高而减小。与法向热导率的模拟结果进行比较,证明单晶Ge薄膜热导率具有各向异性的特点。 展开更多
关键词 面向热导率 单晶Ge薄膜 分子动力学
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部