期刊文献+
共找到21篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
Breakdown voltage analysis of Al_(0.25)Ga_(0.75)N/GaN high electron mobility transistors with partial silicon doping in the AlGaN layer 被引量:1
1
作者 段宝兴 杨银堂 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第5期561-568,共8页
In this paper,two-dimensional electron gas(2DEG) regions in AlGaN/GaN high electron mobility transistors(HEMTs) are realized by doping partial silicon into the AlGaN layer for the first time.A new electric field p... In this paper,two-dimensional electron gas(2DEG) regions in AlGaN/GaN high electron mobility transistors(HEMTs) are realized by doping partial silicon into the AlGaN layer for the first time.A new electric field peak is introduced along the interface between the AlGaN and GaN buffer by the electric field modulation effect due to partial silicon positive charge.The high electric field near the gate for the complete silicon doping structure is effectively decreased,which makes the surface electric field uniform.The high electric field peak near the drain results from the potential difference between the surface and the depletion regions.Simulated breakdown curves that are the same as the test results are obtained for the first time by introducing an acceptor-like trap into the N-type GaN buffer.The proposed structure with partial silicon doping is better than the structure with complete silicon doping and conventional structures with the electric field plate near the drain.The breakdown voltage is improved from 296 V for the conventional structure to 400 V for the proposed one resulting from the uniform surface electric field. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN high electron mobility transistors(HEMTs) two-dimensional electron gas2deg electric field modulation
下载PDF
Two-dimensional metallic behavior at polar MgO/BaTiO_3(110) interfaces
2
作者 杜颜伶 王春雷 +6 位作者 李吉超 张新华 王芙凝 刘剑 祝元虎 尹娜 梅良模 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第3期313-319,共7页
The first-principles calculations are employed to investigate the electrical properties of polar MgO/BaTiO3(110)interfaces. Both n-type and p-type polar interfaces show a two-dimensional metallic behavior. For the n... The first-principles calculations are employed to investigate the electrical properties of polar MgO/BaTiO3(110)interfaces. Both n-type and p-type polar interfaces show a two-dimensional metallic behavior. For the n-type polar interface,the interface Ti3d electrons are the origin of the metallic and magnetic properties. Varying the thickness of Ba TiO3 may induce an insulator–metal transition, and the critical thickness is 4 unit cells. For the p-type polar interface, holes preferentially occupy the interface O 2p y state, resulting in a conducting interface. The unbalance of the spin splitting of the O 2p states in the interface Mg O layer leads to a magnetic moment of about 0.25μB per O atom at the interface.These results further demonstrate that other polar interfaces, besides LaAlO3/SrTiO3, can show a two-dimensional metallic behavior. It is helpful to fully understand the role of polar discontinuity on the properties of the interface, which widens the field of polar-nonpolar interfaces. 展开更多
关键词 electronic structures MgO/BaTiO3(110) polar interfaces two-dimensional electron gas2deg magnetism
下载PDF
Abnormal phenomenon of source-drain current of AlGaN/GaN heterostructure device under UV/visible light irradiation
3
作者 Yue-Bo Liu Jun-Yu Shen +10 位作者 Jie-Ying Xing Wan-Qing Yao Hong-Hui Liu Ya-Qiong Dai Long-Kun Yang Feng-Ge Wang Yuan Ren Min-Jie Zhang Zhi-Sheng Yang Liu Bai-Jun Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第11期524-531,共8页
We report an abnormal phenomenon that the source-drain current(I_(D))of AlGaN/GaN heterostructure devices decreases under visible light irradiation.When the incident light wavelength is 390 nm,the photon energy is les... We report an abnormal phenomenon that the source-drain current(I_(D))of AlGaN/GaN heterostructure devices decreases under visible light irradiation.When the incident light wavelength is 390 nm,the photon energy is less than the band gaps of GaN and AlGaN whereas it can causes an increase of ID.Based on the UV light irradiation,a decrease of I_(D) can still be observed when turning on the visible light.We speculate that this abnormal phenomenon is related to the surface barrier height,the unionized donor-like surface states below the surface Fermi level and the ionized donor-like surface states above the surface Fermi level.For visible light,its photon energy is less than the surface barrier height of the AlGaN layer.The electrons bound in the donor-like surface states below the Fermi level are excited and trapped by the ionized donor-like surface states between the Fermi level and the conduction band of AlGaN.The electrons trapped in ionized donor-like surface states show a long relaxation time,and the newly ionized donor-like surface states below the surface Fermi level are filled with electrons from the two-dimensional electron gas(2DEG)channel at AlGaN/GaN interface,which causes the decrease of ID.For the UV light,when its photon energy is larger than the surface barrier height of the AlGaN layer,electrons in the donor-like surface states below the Fermi level are excited to the conduction band and then drift into the 2DEG channel quickly,which cause the increase of ID. 展开更多
关键词 AlGaN/GaN heterostructure two-dimensional electron gas(2deg) surface states IRRADIATION
下载PDF
GaN基半导体异质结构的外延生长、物性研究和器件应用 被引量:8
4
作者 沈波 唐宁 +4 位作者 杨学林 王茂俊 许福军 王新强 秦志新 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2017年第3期81-97,共17页
GaN基宽禁带半导体异质结构具有非常强的极化效应、高饱和电子漂移速度、高击穿场强、高于室温的居里转变温度、和较强的自旋轨道耦合效应等优越的物理性质,是发展高功率微波射频器件不可替代的材料体系,也是发展高效节能功率电子器件... GaN基宽禁带半导体异质结构具有非常强的极化效应、高饱和电子漂移速度、高击穿场强、高于室温的居里转变温度、和较强的自旋轨道耦合效应等优越的物理性质,是发展高功率微波射频器件不可替代的材料体系,也是发展高效节能功率电子器件的主要材料体系之一,在半导体自旋电子学器件上亦有潜在的应用价值。GaN基异质结构材料、物理与器件研究已成为当前国际上半导体科学技术的前沿领域和研究热点。本文从GaN基异质结构的外延生长、物理性质及其电子器件应用三个方面对国内外该领域近年来的研究进展进行了系统的介绍和评述,并简要介绍了北京大学在该领域的研究进展。 展开更多
关键词 GaN基宽禁带半导体 外延生长 二维电子气 输运性质 自旋性质 GaN基电子器件
下载PDF
0.1μmT型栅PHEMT器件 被引量:5
5
作者 郑英奎 刘明 +1 位作者 和致经 吴德馨 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期476-480,共5页
通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法 ,并利用复合胶结构 ,一次电子束曝光制作出具有 T型栅的 PHEMT器件 ,并对 0 .1μm栅长 PHEMT器件的整套工艺及器件性能进行了研究 .形成了一整套具有新特点的PHEMT器件制作工艺 ,获得了良... 通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法 ,并利用复合胶结构 ,一次电子束曝光制作出具有 T型栅的 PHEMT器件 ,并对 0 .1μm栅长 PHEMT器件的整套工艺及器件性能进行了研究 .形成了一整套具有新特点的PHEMT器件制作工艺 ,获得了良好的器件性能 (ft=93.97GHz;gm=6 90 m S/mm ) . 展开更多
关键词 二维电子气 电子束光刻 混合曝光 PHEMT T型栅 异质结晶体管
下载PDF
背势垒对InAlN/GaN异质结构中二维电子气的影响 被引量:2
6
作者 甘天胜 李毅 +8 位作者 刘斌 孔月婵 陈敦军 谢自力 修向前 陈鹏 陈辰 韩平 张荣 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第6期359-365,共7页
利用有效质量理论自洽求解Poisson和Schrdinger方程理论研究了背势垒插入层对InAlN/GaN晶格匹配异质结构的电学性能的影响。研究表明,对于In0.17Al0.83N/AlN/GaN的异质结构,AlN的临界厚度为2.43 nm。此时,异质结中二维电子气(2DEG)浓... 利用有效质量理论自洽求解Poisson和Schrdinger方程理论研究了背势垒插入层对InAlN/GaN晶格匹配异质结构的电学性能的影响。研究表明,对于In0.17Al0.83N/AlN/GaN的异质结构,AlN的临界厚度为2.43 nm。此时,异质结中二维电子气(2DEG)浓度达到2.49×1013 cm-2,且不随势垒层厚度的变化而变化。重点模拟研究了具有背势垒的InAlN/AlN/GaN/AlGaN/GaN和InAlN/AlN/GaN/InGaN/GaN两种结构的能带结构和2DEG的分布情况。理论结果表明,采用AlGaN背势垒结构时,对于AlGaN的任意Al组分,GaN沟道层导带底能量均被抬升,增强了AlN/GaN三角势阱对2DEG的限制作用,提高了电子迁移率。采用InGaN/GaN作为背势垒结构,当InGaN厚度为2或3 nm时,三角势阱中的2DEG随InGaN中In组分的增加先升高后降低,这主要是由于GaN/InGaN界面处产生的正极化电荷的影响,引起电子在AlN/GaN三角势阱和InGaN/GaN势阱之间的分布变化。 展开更多
关键词 INALN GAN异质结构 背势垒插入层 二维电子气(2deg) 能带结构 电子迁移率
下载PDF
High-mobility two-dimensional electron gases at oxide interfaces:Origin and opportunities 被引量:1
7
作者 陈允忠 Nini Pryds +2 位作者 孙继荣 沈保根 SФren Linderoth 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第11期1-11,共11页
Our recent experimental work on metallic and insulating interfaces controlled by interfacial redox reactions in SrTiO3-based heterostructures is reviewed along with a more general background of two-dimensional electro... Our recent experimental work on metallic and insulating interfaces controlled by interfacial redox reactions in SrTiO3-based heterostructures is reviewed along with a more general background of two-dimensional electron gas (2DEG) at oxide interfaces. Due to the presence of oxygen vacancies at the SrTiO3 surface, metallic conduction can be created at room temperature in perovskite-type interfaces when the overlayer oxide ABO3 has Al, Ti, Zr, or Hf elements at the B sites. Furthermore, relying on interface-stabilized oxygen vacancies, we have created a new type of 2DEG at the heterointerface between SrTiO3 and a spinel γ-Al2O3 epitaxial film with compatible oxygen ion sublattices. This 2DEG exhibits an electron mobility exceeding 100000 cm2·V-1·s-1, more than one order of magnitude higher than those of hitherto investigated perovskite-type interfaces. Our findings pave the way for the design of high-mobility all-oxide electronic devices and open a route toward the studies of mesoscopic physics with complex oxides. 展开更多
关键词 oxide interfaces two-dimensional electron gas 2deg SRTIO3 oxygen vacancies
下载PDF
具有栅源间本征GaN调制层的AlGaN/GaN HEMT 被引量:1
8
作者 陈飞 冯全源 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第9期694-700,共7页
为解决常规AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)因源极电子注入栅极右侧高场区造成的雪崩击穿,并提高器件的击穿电压,提出了一种具有栅源间本征GaN(i-GaN)调制层的新型AlGaN/GaN HEMT结构。新结构器件在反向耐压时将调制层下方部分区域... 为解决常规AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)因源极电子注入栅极右侧高场区造成的雪崩击穿,并提高器件的击穿电压,提出了一种具有栅源间本征GaN(i-GaN)调制层的新型AlGaN/GaN HEMT结构。新结构器件在反向耐压时将调制层下方部分区域的二维电子气(2DEG)完全耗尽,扩展了沟道的夹断区,有效阻止了源极电子向栅极右侧高场区的注入。仿真结果表明,通过设置适当的调制层长度和厚度,器件的击穿电压可从常规结构的862 V提升至新结构的1 086 V,增幅达26%。同时,GaN调制层会微幅增大器件的比导通电阻,对阈值电压也具有一定的提升作用。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管(HEMT) 高场区 雪崩击穿 击穿电压 二维电子气(2deg)
下载PDF
Electrical property effect of oxygen vacancies in the heterojunction of LaGaO3/SrTiO3
9
作者 王芙凝 李吉超 +6 位作者 张鑫淼 刘汉璋 刘剑 王春雷 赵明磊 苏文斌 梅良模 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第3期436-440,共5页
Density functional theory within the local density approximation is used to investigate the effect of the oxygen va- cancy on the LaGaO3/SrTiO3 (001) heterojunction. It is found that the energy favorable configurati... Density functional theory within the local density approximation is used to investigate the effect of the oxygen va- cancy on the LaGaO3/SrTiO3 (001) heterojunction. It is found that the energy favorable configuration is the oxygen vacancy located at the 3rd layer of the STO substrate, and the antiferrodistortive distortion is induced by the oxygen vacancy introduced on the SrTiO3 side. Compared with the heterojunction without introducing oxygen vacancy, the heterojunction with introducing the oxygen vacancy does not change the origin of the two-dimensional electron gas (2DEG), that is, the 2DEG still originates from the dxy electrons, which are split from the t2g states of Ti atom at interface; however the oxygen vacancy is not beneficial to the confinement of the 2DEG. The extra electrons caused by the oxygen vacancy dominantly occupy the 3dx2-y2 orbitals of the Ti atom nearest to the oxygen vacancy, thus the density of carrier is enhanced by one order of magnitude due to the introduction of oxygen vacancy compared with the density of the ideal structure heterojunction. 展开更多
关键词 two-dimensional electron gas 2deg first-principles calculation oxygen vacancy
下载PDF
A comparison of the transport properties of bilayer graphene,monolayer graphene,and two-dimensional electron gas
10
作者 孙立风 董利民 +1 位作者 吴志芳 房超 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第7期435-439,共5页
We studied and compared the transport properties of charge carriers in bilayer graphene, monolayer graphene, and the conventional semiconductors (the two-dimensional electron gas (2DEG)). It is elucidated that the... We studied and compared the transport properties of charge carriers in bilayer graphene, monolayer graphene, and the conventional semiconductors (the two-dimensional electron gas (2DEG)). It is elucidated that the normal incidence transmission in the bilayer graphene is identical to that in the 2DEG but totally different from that in the monolayer graphene. However, resonant peaks appear in the non-normal incidence transmission profile for a high barrier in the bilayer graphene, which do not occur in the 2DEG. Furthermore, there are tunneling and forbidden regions in the transmission spectrum for each material, and the division of the two regions has been given in the work. The tunneling region covers a wide range of the incident energy for the two graphene systems, but only exists under specific conditions for the 2DEG. The counterparts of the transmission in the conductance profile are also given for the three materials, which may be used as high-performance devices based on the bilayer graphene. 展开更多
关键词 bilayer graphene monolayer graphene two-dimensional electron gas 2deg transport properties
下载PDF
Electrical characteristics of AlInN/GaN HEMTs under cryogenic operation
11
作者 张雪锋 王莉 +2 位作者 刘杰 魏崃 许键 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期482-485,共4页
Electrical properties of an AIlnN/GaN high-electron mobility transistor (HEMT) on a sapphire substrate are investigated in a cryogenic temperature range from 295 K down to 50 K. It is shown that drain saturation cur... Electrical properties of an AIlnN/GaN high-electron mobility transistor (HEMT) on a sapphire substrate are investigated in a cryogenic temperature range from 295 K down to 50 K. It is shown that drain saturation current and conductance increase as transistor operation temperature decreases. A self-heating effect is observed over the entire range of temperature under high power consumption. The dependence of channel electron mobility on electron density is investigated in detail. It is found that aside from Coulomb scattering, electrons that have been pushed away from the AIInN/GaN interface into the bulk GaN substrate at a large reverse gate voltage are also responsible for the electron mobility drop with the decrease of electron density. 展开更多
关键词 AIInN/GaN heterostructure high-electron mobility transistor (HEMT) cryogenic temperature two-dimensional electron gas 2deg mobility
下载PDF
AlGaN/GaN HEMT材料的高温MOCVD生长研究 被引量:1
12
作者 陈峰武 巩小亮 +3 位作者 罗才旺 程文进 魏唯 鲍苹 《电子工业专用设备》 2018年第4期32-35,69,共5页
高电子迁移率AlGaN/GaN HEMT结构材料的研制一直是GaN基射频微波器件的重要发展方向。采用自主研制的生产型高温MOCVD设备进行AlGaN/GaN HEMT结构材料的生长,通过高温MOCVD外延生长技术改善了AlGaN势垒层、AlN插入层的晶体质量和表面质... 高电子迁移率AlGaN/GaN HEMT结构材料的研制一直是GaN基射频微波器件的重要发展方向。采用自主研制的生产型高温MOCVD设备进行AlGaN/GaN HEMT结构材料的生长,通过高温MOCVD外延生长技术改善了AlGaN势垒层、AlN插入层的晶体质量和表面质量,从而获得了较高二维电子气迁移率的AlGaN/GaN HEMT结构材料。高分辨X射线衍射仪的分析表明,AlGaN外延层Al组分含量为22.7%,厚度为19.4 nm;Hall效应测试仪的测试表明,HEMT结构材料的室温二维电子迁移率和浓度分别为2 040 cm^2/V·s和6.15×10^(12) cm^(-2),具有较为优异的二维电子气输运性能。上述研究结果表明:国产高温MOCVD设备可为高电子迁移率AlGaN/GaN HEMT结构材料的研制提供新的设备平台。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管 ALGAN 高温金属有机物化学气相沉积 二维电子气迁移率
下载PDF
分子束外延GaAs基M-HEMT与Si基HEMT材料研究
13
作者 马奔 沈逸凡 +4 位作者 王伟 于海龙 尹志军 高汉超 李忠辉 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2022年第3期230-233,238,共5页
在GaAs基渐变缓冲层高迁移率晶体管(M-HEMT)器件中,二维电子气的输运性能对器件性能有决定性作用。系统研究了GaAs M-HEMT材料中不同In组分沟道和生长温度对沟道电子迁移率和薄层电子浓度的影响。结果表明,沟道In组分为0.65时,材料电学... 在GaAs基渐变缓冲层高迁移率晶体管(M-HEMT)器件中,二维电子气的输运性能对器件性能有决定性作用。系统研究了GaAs M-HEMT材料中不同In组分沟道和生长温度对沟道电子迁移率和薄层电子浓度的影响。结果表明,沟道In组分为0.65时,材料电学性能最好;提高生长温度能有效提高材料的迁移率。为了后续将Si CMOS技术与HEMT材料结合实现高集成度应用,将M-HEMT结构外延在硅衬底上并得到了初步的研究结果,室温下电子迁移率为3300 cm^(2)/(V·s),薄层电子浓度为4.5×10^(12)cm^(-2)。 展开更多
关键词 HEMT 二维电子气 SI基
下载PDF
AlGaN/GaN HEMT势垒层厚度影响的模拟及优化
14
作者 申艳芬 林兆军 +3 位作者 李惠军 张明华 魏晓珂 刘岩 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第3期150-154,193,共6页
完成了对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的结构设计及器件物理特性的验证等工作。使用TCAD软件完成了该器件直流特性及微波特性等性能的模拟。建立该器件的极化效应模型是本项研究的重点。完成了对异质结条件下诸多模型参数的筛选... 完成了对AlGaN/GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的结构设计及器件物理特性的验证等工作。使用TCAD软件完成了该器件直流特性及微波特性等性能的模拟。建立该器件的极化效应模型是本项研究的重点。完成了对异质结条件下诸多模型参数的筛选及修正,得到了符合理论的模拟结果。器件特性的验证与优化基于势垒层厚度h的变化展开,研究结果显示:漏极电流随h值的增加而增加,当h值超过40nm时,因二维电子气浓度上升缓慢而使漏极电流趋于饱和;跨导随h值的减小而增大,h每降低10nm,跨导约增大37mS/mm;势垒层厚度对高频特性的影响较小。 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 高电子迁移率晶体管(HEMT) 二维电子气(2deg) 极化效应 器件模型
下载PDF
影响AlGaN/GaN HFET器件二维电子气的若干因素
15
作者 张明华 林兆军 +3 位作者 李惠军 申艳芬 魏晓珂 刘岩 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第4期225-229,共5页
基于Sentaurus Workbench(SWB)TCAD可制造性设计平台进行AlGaN/GaN器件的结构设计和仿真,并对影响二维电子气的重要参数因素进行了研究及优化,诸如AlGaN势垒层中Al组分x、AlGaN势垒层厚度h、应变弛豫度r和栅偏压Vg等因素。参数相关性的... 基于Sentaurus Workbench(SWB)TCAD可制造性设计平台进行AlGaN/GaN器件的结构设计和仿真,并对影响二维电子气的重要参数因素进行了研究及优化,诸如AlGaN势垒层中Al组分x、AlGaN势垒层厚度h、应变弛豫度r和栅偏压Vg等因素。参数相关性的制约结果,无疑会反映在对器件物理特性的制约及影响上。研究结果表明,在一定条件下增大势垒层中Al组分和势垒层厚度可以提高器件的电流传输特性。然而随着二者的不断增大将会引起应变弛豫的发生,而应变弛豫的发生会降低器件的性能。 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 异质结场效应晶体管(HFET) 二维电子气(2deg) 自发极化 压电极化
下载PDF
AlGaN/AlN/GaN HEMT结构2DEG的光致发光谱
16
作者 唐健 王晓亮 肖红领 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第9期703-706,共4页
AlGaN/GaN HEMT结构材料主要用于研制微电子器件,对其发光性质的研究相对较少。通过对AlGaN/GaN HEMT结构材料的光致发光谱(PL)研究,观测到了AlGaN势垒层中Al组分为40%的AlGaN/AlN/GaN结构中二维电子气(2DEG)光致发光及其能级分裂现象。... AlGaN/GaN HEMT结构材料主要用于研制微电子器件,对其发光性质的研究相对较少。通过对AlGaN/GaN HEMT结构材料的光致发光谱(PL)研究,观测到了AlGaN势垒层中Al组分为40%的AlGaN/AlN/GaN结构中二维电子气(2DEG)光致发光及其能级分裂现象。在4.5 K低温下,其2DEG发光峰在GaN带边峰能量以下30和40 meV处分裂成两个峰位,直至温度持续升高至40 K后消失。根据GaN价带顶部在单轴晶格场和自旋-轨道耦合共同作用下的能级分裂理论,因自旋-轨道耦合引起的2DEG发光峰两个分裂能级差约为10 meV,与实验测得的结果一致,因此实验观测到的2DEG发光峰的分裂现象是由于氮化镓价带能级的自旋-轨道耦合而形成的。 展开更多
关键词 氮化镓 高迁移率晶体管(HEMT) 光致发光 二维电子气(2deg) 能级分裂
下载PDF
肖特基金属对AlGaN/GaN二极管电学特性的影响
17
作者 邱旭 吕元杰 王丽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第9期674-678,共5页
肖特基金属影响AlGaN/GaN异质结材料的电学特性。在AlGaN/GaN异质结材料上分别制备得到铱/金(Ir/Au)、镍/金(Ni/Au)和铼/金(Re/Au)三种不同肖特基接触的二极管器件,基于电流电压(I-V)和电容电压(C-V)测试结果,计算得到了三者的沟道二维... 肖特基金属影响AlGaN/GaN异质结材料的电学特性。在AlGaN/GaN异质结材料上分别制备得到铱/金(Ir/Au)、镍/金(Ni/Au)和铼/金(Re/Au)三种不同肖特基接触的二极管器件,基于电流电压(I-V)和电容电压(C-V)测试结果,计算得到了三者的沟道二维电子气(2DEG)密度。并通过薛定谔和泊松方程自洽求解计算得到了三者的肖特基接触势垒高度、导带底能带图和沟道2DEG分布情况。研究发现金属功函数越小,势垒高度反而越高,沟道2DEG密度越小,GaN侧的沟道三角形势阱变得越浅。这主要是由于金属功函数越小,电子能量越高,与AlGaN势垒层表面态的电子耦合作用越强所致。 展开更多
关键词 ALGAN GaN 肖特基势垒高度 金属功函数 二维电子气(2deg)密度 电子耦合
下载PDF
深亚微米栅HFET器件工艺研究
18
作者 郑英奎 和致经 吴德馨 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2000年第3期193-196,共4页
通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法,并利用复合胶结构,一次电子束曝光制作出具有T型栅的HFET(HeterojunctionField-EffectTransistor)器件,并对0.1μm栅长HFET器件的整套工艺及器件性能进行了研究。形成了一整套具有新特... 通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法,并利用复合胶结构,一次电子束曝光制作出具有T型栅的HFET(HeterojunctionField-EffectTransistor)器件,并对0.1μm栅长HFET器件的整套工艺及器件性能进行了研究。形成了一整套具有新特点的HFET器件制作工艺,获得了良好的器件性能(ft=78GHz;gm=440ms/mm)。 展开更多
关键词 混合曝光 HFET T型栅 工艺研究 深亚微米栅
原文传递
高迁移率GaAs/Al_(0.35)Ga_(0.65)As二维电子气的微波回旋共振研究
19
作者 杨威 罗海辉 +1 位作者 钱轩 姬扬 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期87-90,122,共5页
掌握微波辐照下的电子态性质是理解高迁移率二维电子气在低磁场区的纵向电阻振荡和零电阻态等新奇物理现象的关键.基于反射率测量的微波回旋共振技术(RODCR),研究了高迁移率、低浓度GaAs/Al0.35Ga0.65As二维电子气在Ka波段微波辐照下的... 掌握微波辐照下的电子态性质是理解高迁移率二维电子气在低磁场区的纵向电阻振荡和零电阻态等新奇物理现象的关键.基于反射率测量的微波回旋共振技术(RODCR),研究了高迁移率、低浓度GaAs/Al0.35Ga0.65As二维电子气在Ka波段微波辐照下的电子态性质.通过在不同条件下的RODCR测量,具体讨论了微波交变电场方向、入射激光波长和温度等因素对RODCR测量结果的影响规律.研究结果表明,RODCR测量技术为研究二维电子系统的电子态性质提供了简便而有力的手段. 展开更多
关键词 微波 反射率 二维电子气 回旋共振
下载PDF
BST/AlGaN/GaN铁电/半导体异质结构二维电子气研究
20
作者 孔月婵 薛舫时 +2 位作者 周建军 李亮 陈辰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期83-86,共4页
采用自洽计算方法对BST/AlGaN/GaN铁电/半导体异质结构中二维电子气进行研究,通过计入铁电极化随电场变化的非线性关系,模拟了对该异质结构进行"极化/退极化"(加负/正偏压)后,由铁电极化偶极子翻转导致的二维电子气浓度的变... 采用自洽计算方法对BST/AlGaN/GaN铁电/半导体异质结构中二维电子气进行研究,通过计入铁电极化随电场变化的非线性关系,模拟了对该异质结构进行"极化/退极化"(加负/正偏压)后,由铁电极化偶极子翻转导致的二维电子气浓度的变化情况。当对BST/AlGaN/GaN异质结构进行"极化"后,BST极化偶极子部分反转使得BST/AlGaN界面处感生高浓度负极化电荷,对二维电子气产生耗尽作用,而由于极化钉扎作用,此时BST的平均极化方向仍与Al-GaN中极化方向相同。当对异质结构进行"退极化"后,BST极化偶极子排列与AlGaN中极化方向相同,二维电子气浓度增加。随AlGaN势垒层厚度减小,BST极化对二维电子气的调制作用增强。另外,通过C-V测量方法对BST/AlGaN/GaN样品进行小范围电压扫描发现C-V曲线呈逆时针滞回方向,证实了铁电体极化对二维电子气的调制作用。 展开更多
关键词 铁电/半导体异质结构 极化调制 二维电子气
下载PDF
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部