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在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究
被引量：
6
1
作者
黎午升
惠官宝
+4 位作者
崔承镇
史大为
郭建
孙双
薛建设
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期544-547,共4页
实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行研究。用半导体工艺模拟以及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,相位移掩膜和传统掩...
实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行研究。用半导体工艺模拟以及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,相位移掩膜和传统掩膜下2.5μm等间隔线的光强分布。根据设备参数模拟分析离焦量为15、30μm时通过掩膜得到的光刻间距情况,最后,实际比较测量了相同条件下各自曝光剂量范围和切面坡度角。实验结果表明:相位移掩膜能使镜像投影曝光机分辨力以下间距(线宽)的工艺容限增大1倍,并使相应曝光量下间距(线宽)的分布更集中,从而增加细线化的稳定性。使用相位移掩膜能提高镜像投影曝光机的解像力。
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关键词
相移掩膜
等间隔线
模拟
曝光容限
解像力
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职称材料
烹调油烟苯系物和TVOC的排放特征及暴露分析
被引量：
1
2
作者
张金萍
李森
+1 位作者
贾康阔
左云峰
《建筑科学》
CSCD
北大核心
2022年第6期97-110,共14页
烹调油加热产生的油烟污染物不仅影响室外和室内环境,且会影响人体健康。故,明确不同种类不同等级食用油在加热到不同温度后油烟中的苯系物和TVOC浓度水平及排放特征,对改善日常生活中的烹饪行为及习惯等有重要意义。本研究在选用各100 ...
烹调油加热产生的油烟污染物不仅影响室外和室内环境,且会影响人体健康。故,明确不同种类不同等级食用油在加热到不同温度后油烟中的苯系物和TVOC浓度水平及排放特征,对改善日常生活中的烹饪行为及习惯等有重要意义。本研究在选用各100 g的5种一级植物油、2种三级植物油和1种动物油共8种油为研究对象后,在8 m^(3)环境舱内采集并通过GC-MS测定分析了不同油温190、220和260℃下油烟中苯系物(苯、甲苯和二甲苯)和TVOC含量,分析了不同油在不同温度下油烟中苯系物和TVOC的浓度水平,同时确定了苯系物和TVOC的散发速率和排放因子,并在自然通风条件下,对预设的实际厨房中烹调油烟的苯系物进行了暴露裕度评估。结果表明:1)油温自190℃至260℃舱内油烟中苯系物和TVOC浓度,均随油温升高而增大,且同温下,三级食用油均大于一级的,二次加热的和三次加热的均大于一次加热的;2)同温下不饱和脂肪酸含量相对较高的油烟的苯系物和TVOC浓度高于相对较低的猪油,且相同油温下脂肪酸含量很低的动物油的苯系物和TVOC基本低于植物油的;3)在油温为190、220和260℃时,苯平均散发速率为0.002、0.003和0.013 mg/min;甲苯为0.051、0.103和0.171 mg/min;二甲苯为0.007、0.011和0.034 mg/min;TVOC为1.797、3.857和7.192 mg/min;4)自190℃至260℃,油烟苯、甲苯、二甲苯和TVOC排放因子均值分别为0.016~0.133、0.507~1.710、0.073~0.339和17.966~71.923 mg/(min·kg);5)自然通风厨房油烟暴露裕度分析表明苯系物健康风险随油温升高和时长增加而增大。甲苯健康风险相对较高;6)据本文得到的油烟散发因子并结合实际厨房的通风及油烟状况可预测实际厨房中的油烟污染物浓度及健康风险。
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关键词
烹调油烟
苯系物
TVOC
散发速率
排放因子
暴露裕度
原文传递
相移掩膜应用于显示技术光刻细线化的初步研究
被引量：
2
3
作者
黎午升
惠官宝
+4 位作者
崔承镇
史大为
郭建
张家祥
薛建设
《光电子技术》
CAS
北大核心
2014年第4期234-237,共4页
对基于不改造应用于显示技术的曝光设备而提高光刻解像力进行研究。用半导体工艺模拟及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,两种相位移掩膜和传统掩膜下4μm/2μm等间隔线的光强分布。并根据设备参数模拟分析离焦量为15、30μm时通过掩...
对基于不改造应用于显示技术的曝光设备而提高光刻解像力进行研究。用半导体工艺模拟及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,两种相位移掩膜和传统掩膜下4μm/2μm等间隔线的光强分布。并根据设备参数模拟分析离焦量为15、30μm时通过掩膜得到的光刻间距情况,最后实际比较测量了两种相位移掩膜在相同条件下各自曝光剂量范围和切面微观图。实验结果表明:自准直式边缘相移掩膜相比无铬相移掩膜在产能和良率方面更有优势。自准直式边缘相移掩膜更适合显示技术光刻细线化量产使用。
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关键词
自准直式边缘相移掩膜、无铬相移掩膜
等间隔线
模拟
曝光容限
分辨率
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职称材料
题名
在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究
被引量：
6
1
作者
黎午升
惠官宝
崔承镇
史大为
郭建
孙双
薛建设
机构
京东方科技集团TFT-LCD技术研发中心
北京京东方光电科技有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期544-547,共4页
基金
国家高技术研究发展计划(863计划)项目(No.2014AA032701)
文摘
实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行研究。用半导体工艺模拟以及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,相位移掩膜和传统掩膜下2.5μm等间隔线的光强分布。根据设备参数模拟分析离焦量为15、30μm时通过掩膜得到的光刻间距情况,最后,实际比较测量了相同条件下各自曝光剂量范围和切面坡度角。实验结果表明:相位移掩膜能使镜像投影曝光机分辨力以下间距(线宽)的工艺容限增大1倍,并使相应曝光量下间距(线宽)的分布更集中,从而增加细线化的稳定性。使用相位移掩膜能提高镜像投影曝光机的解像力。
关键词
相移掩膜
等间隔线
模拟
曝光容限
解像力
Keywords
phase
shift
mask
equidistant
lines
simulation
exposure
margin
resolution
分类号
TN141.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
烹调油烟苯系物和TVOC的排放特征及暴露分析
被引量：
1
2
作者
张金萍
李森
贾康阔
左云峰
机构
北京建筑大学环境与能源工程学院
北京市“供热、供燃气、通风及空调工程”重点实验室
北京清华同衡规划设计研究院
出处
《建筑科学》
CSCD
北大核心
2022年第6期97-110,共14页
基金
国家自然科学基金项目“室内香烛燃烧产生的多环芳烃的散发特征、分配规律及暴露风险”(51378043)。
文摘
烹调油加热产生的油烟污染物不仅影响室外和室内环境,且会影响人体健康。故,明确不同种类不同等级食用油在加热到不同温度后油烟中的苯系物和TVOC浓度水平及排放特征,对改善日常生活中的烹饪行为及习惯等有重要意义。本研究在选用各100 g的5种一级植物油、2种三级植物油和1种动物油共8种油为研究对象后,在8 m^(3)环境舱内采集并通过GC-MS测定分析了不同油温190、220和260℃下油烟中苯系物(苯、甲苯和二甲苯)和TVOC含量,分析了不同油在不同温度下油烟中苯系物和TVOC的浓度水平,同时确定了苯系物和TVOC的散发速率和排放因子,并在自然通风条件下,对预设的实际厨房中烹调油烟的苯系物进行了暴露裕度评估。结果表明:1)油温自190℃至260℃舱内油烟中苯系物和TVOC浓度,均随油温升高而增大,且同温下,三级食用油均大于一级的,二次加热的和三次加热的均大于一次加热的;2)同温下不饱和脂肪酸含量相对较高的油烟的苯系物和TVOC浓度高于相对较低的猪油,且相同油温下脂肪酸含量很低的动物油的苯系物和TVOC基本低于植物油的;3)在油温为190、220和260℃时,苯平均散发速率为0.002、0.003和0.013 mg/min;甲苯为0.051、0.103和0.171 mg/min;二甲苯为0.007、0.011和0.034 mg/min;TVOC为1.797、3.857和7.192 mg/min;4)自190℃至260℃,油烟苯、甲苯、二甲苯和TVOC排放因子均值分别为0.016~0.133、0.507~1.710、0.073~0.339和17.966~71.923 mg/(min·kg);5)自然通风厨房油烟暴露裕度分析表明苯系物健康风险随油温升高和时长增加而增大。甲苯健康风险相对较高;6)据本文得到的油烟散发因子并结合实际厨房的通风及油烟状况可预测实际厨房中的油烟污染物浓度及健康风险。
关键词
烹调油烟
苯系物
TVOC
散发速率
排放因子
暴露裕度
Keywords
cooking
oil
fume
Benzene
series
total
volatile
organic
compound
emission
rate
emission
factor
exposure
margin
分类号
TU831 [建筑科学—供热、供燃气、通风及空调工程]
原文传递
题名
相移掩膜应用于显示技术光刻细线化的初步研究
被引量：
2
3
作者
黎午升
惠官宝
崔承镇
史大为
郭建
张家祥
薛建设
机构
京东方科技集团新技术研究院
北京京东方光电科技有限公司
出处
《光电子技术》
CAS
北大核心
2014年第4期234-237,共4页
文摘
对基于不改造应用于显示技术的曝光设备而提高光刻解像力进行研究。用半导体工艺模拟及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,两种相位移掩膜和传统掩膜下4μm/2μm等间隔线的光强分布。并根据设备参数模拟分析离焦量为15、30μm时通过掩膜得到的光刻间距情况,最后实际比较测量了两种相位移掩膜在相同条件下各自曝光剂量范围和切面微观图。实验结果表明:自准直式边缘相移掩膜相比无铬相移掩膜在产能和良率方面更有优势。自准直式边缘相移掩膜更适合显示技术光刻细线化量产使用。
关键词
自准直式边缘相移掩膜、无铬相移掩膜
等间隔线
模拟
曝光容限
分辨率
Keywords
rim
PSM
single
PSM
equidistant
lines
simulation
exposure
margin
resolution
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究
黎午升
惠官宝
崔承镇
史大为
郭建
孙双
薛建设
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2014
6
下载PDF
职称材料
2
烹调油烟苯系物和TVOC的排放特征及暴露分析
张金萍
李森
贾康阔
左云峰
《建筑科学》
CSCD
北大核心
2022
1
原文传递
3
相移掩膜应用于显示技术光刻细线化的初步研究
黎午升
惠官宝
崔承镇
史大为
郭建
张家祥
薛建设
《光电子技术》
CAS
北大核心
2014
2
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职称材料
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