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硅光子中波分复用技术研究 被引量:11
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作者 安俊明 张家顺 +3 位作者 王玥 王亮亮 潘盼 齐影 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2014年第11期53-58,共6页
介绍了硅光子互连中4种波分复用器及相关单片集成发射接收芯片,其中硅纳米线阵列波导光栅及刻蚀衍射光栅波分复用器单个芯片就可以成倍扩展通道数,非常适合大通道数密集波分复用,马赫-曾德尔结构及微环谐振型波分复用器芯片通道数增大... 介绍了硅光子互连中4种波分复用器及相关单片集成发射接收芯片,其中硅纳米线阵列波导光栅及刻蚀衍射光栅波分复用器单个芯片就可以成倍扩展通道数,非常适合大通道数密集波分复用,马赫-曾德尔结构及微环谐振型波分复用器芯片通道数增大时需要多个单元级联,波长准确性及间隔不易控制,比较适合通道数少的芯片应用。同时,给出了自主设计和制备的硅纳米线阵列波导光栅和刻蚀衍射光栅,通过采用阵列波导展宽方法,有效抑制了阵列波导的串扰,实现串扰小于-15 d B;通过在刻蚀衍射光栅反射面引入二维光子晶体反射镜,降低了刻蚀衍射光栅的反射损耗,损耗比普通刻蚀衍射光栅减小了3 d B。 展开更多
关键词 光学器件 集成光学 硅光子 波分复用 阵列波导光栅 刻蚀衍射光栅 微环谐振器 马赫-曾德尔干涉仪
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蚀刻衍射光栅波分复用器件的设计与模拟 被引量:7
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作者 盛钟延 何赛灵 +1 位作者 何建军 方蕴 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期567-571,共5页
近年来光通信飞速发展 ,波分复用技术 (WDM)是满足要求的有效手段 .密集波分复用技术已经得到成功商用 ,其扩展信息传输容量的能力也在不断增强 .作为波分复用中最关键的器件 ,蚀刻衍射光栅 (EDG)是平面波导密集波分复用器件中很有发展... 近年来光通信飞速发展 ,波分复用技术 (WDM)是满足要求的有效手段 .密集波分复用技术已经得到成功商用 ,其扩展信息传输容量的能力也在不断增强 .作为波分复用中最关键的器件 ,蚀刻衍射光栅 (EDG)是平面波导密集波分复用器件中很有发展潜力的一种 .本文分析了 EDG器件的解复用原理 ,参量设计 ,工艺过程 .文章最后 ,建立了一个光栅干涉的简单模型 ,对设计好的器件参量进行模场形状、谱响应、色散等光栅性能的模拟 ,得到基本的器件解复用特性 。 展开更多
关键词 平面波导 密集波分复用 蚀刻衍射光栅 光通信 蚀刻衍射光栅波分复用器件
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大角度蚀刻衍射光栅的模拟 被引量:2
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作者 盛钟延 娄丽芳 +2 位作者 何赛灵 文泓桥 何建军 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期546-549,共4页
研究了平面波导密集波分复用器件中很有发展潜力的蚀刻衍射光栅 (EDG) 小角度范围光栅的模拟通常采用高斯近似的输入光场 ,由于近轴的高斯光场接近实际光场 ,所以模拟结果很准确 但这种方法应用于大角度范围的光栅则有偏差 本文提出... 研究了平面波导密集波分复用器件中很有发展潜力的蚀刻衍射光栅 (EDG) 小角度范围光栅的模拟通常采用高斯近似的输入光场 ,由于近轴的高斯光场接近实际光场 ,所以模拟结果很准确 但这种方法应用于大角度范围的光栅则有偏差 本文提出了大角度蚀刻衍射光栅的模拟方法 ,分析了这种偏差并给出了模拟结果 展开更多
关键词 光纤通信 平面波导 密集波分复用 大角度蚀刻衍射光栅 模拟 高斯光场 解复用器 Rowland圆
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低串扰平顶型刻蚀衍射光栅解复用器的设计 被引量:2
4
作者 宋军 石志敏 何赛灵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期195-199,共5页
介绍了一种低串扰、频谱响应平坦化的刻蚀衍射光栅 (EDG)解复用器的机理与设计方法 ,设计带有预整形输入的优化的多模干涉 (MMI)结构 .该设计采用了广角束传播方法 (BPM)、基耳霍夫衍射理论以及模式传输理论等方法 .给出一个优化的预整... 介绍了一种低串扰、频谱响应平坦化的刻蚀衍射光栅 (EDG)解复用器的机理与设计方法 ,设计带有预整形输入的优化的多模干涉 (MMI)结构 .该设计采用了广角束传播方法 (BPM)、基耳霍夫衍射理论以及模式传输理论等方法 .给出一个优化的预整形渐变波导结构 ,以获得更陡的输出场边缘 ,使用 MMI结构 ,获得了平坦的频谱响应 ,设计结构还获得了相对较低的色散值 . 展开更多
关键词 刻蚀衍射光栅 频谱平坦化 串扰 色散
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刻蚀衍射光栅像差特性分析 被引量:1
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作者 宋军 梅维泉 +1 位作者 文泓桥 何赛灵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第10期1103-1108,共6页
对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的像差特性提出了一种简单方便的计算方法 ,分析了像差对刻蚀衍射光栅频谱响应的影响 .理论推导了基于基尔霍夫衍射、角谱衍射以及快速傅里叶变换等方法 .最终证明彗差会造成谱形失称 ,... 对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的像差特性提出了一种简单方便的计算方法 ,分析了像差对刻蚀衍射光栅频谱响应的影响 .理论推导了基于基尔霍夫衍射、角谱衍射以及快速傅里叶变换等方法 .最终证明彗差会造成谱形失称 ,明显降低耦合效率 ;而球差则会明显地增加串扰 .并指出当像差存在时通过输出端加ta per结构 ,并不能显著改善器件的串扰特性 . 展开更多
关键词 刻蚀衍射光栅(EDG) 波分复用 波像差 球差 彗差 串扰 耦合效率
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一种改善频谱性能的蚀刻衍射光栅输出结构新设计(英文)
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作者 石志敏 宋军 +1 位作者 盛钟延 何赛灵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期458-462,共5页
对波分复用系统中一种重要的解复用器 衍射蚀刻光栅 (EDG)的输出结构进行了研究 ,并提出一种新的采用渐变波导和空气槽相结合的结构设计 ,在保持器件原有的紧凑结构的前提下极大的提高了器件的频谱特性 该结构设计不需要额外的工艺过... 对波分复用系统中一种重要的解复用器 衍射蚀刻光栅 (EDG)的输出结构进行了研究 ,并提出一种新的采用渐变波导和空气槽相结合的结构设计 ,在保持器件原有的紧凑结构的前提下极大的提高了器件的频谱特性 该结构设计不需要额外的工艺过程 ,并且具有很好的工艺容差性 结构的有效性通过波束传播方法(BPM )和模式传播分析 (MPA)得到了验证 在所给的数值模型中 ,- 1dB带宽和品质因素分别比传统设计提高了 1.4 74和 1.383倍 同时 ,相邻信道间的串扰降低了 15dB以上 ,而整个结构引入的功率损耗仅仅为 0 . 展开更多
关键词 频谱性能 波分复用系统 解复用器 衍射蚀刻光栅 输出结构 结构设计 渐变波导 空气槽
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刻蚀衍射光栅解复用器的偏振色散分析
7
作者 庞冬青 宋军 何赛灵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期133-137,共5页
介绍了一种将矩量法应用于刻蚀衍射光栅解复用器设计分析的偏振敏感型方法 .通过数值分析 ,证明提供的方法在分析器件色散响应方面比传统的标量方法更加接近实测结果 .分析了器件的偏振独立损耗和偏振色散差随入射角和衍射级的变化关系 ... 介绍了一种将矩量法应用于刻蚀衍射光栅解复用器设计分析的偏振敏感型方法 .通过数值分析 ,证明提供的方法在分析器件色散响应方面比传统的标量方法更加接近实测结果 .分析了器件的偏振独立损耗和偏振色散差随入射角和衍射级的变化关系 ,指出器件结构参数的确定应以满足偏振色散差的实际需要为主 。 展开更多
关键词 波分复用 解复用器 刻蚀衍射光栅 矩量法 色散 偏振
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损耗均匀且平顶的蚀刻衍射光栅波长路由器
8
作者 穆鸽 何建军(指导) 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期70-75,共6页
提出了一种弧形齿面蚀刻衍射光栅波长路由器,通过合理设计齿面形状,可以同时提高器件的损耗均匀特性和频谱通带带宽。设计了基于InP平台,中心波长1550nm,通道间隔400GHz的4×4波长路由器。仿真结果显示,各通道之间的损耗差异可由8.... 提出了一种弧形齿面蚀刻衍射光栅波长路由器,通过合理设计齿面形状,可以同时提高器件的损耗均匀特性和频谱通带带宽。设计了基于InP平台,中心波长1550nm,通道间隔400GHz的4×4波长路由器。仿真结果显示,各通道之间的损耗差异可由8.1dB减小到0.8dB,频谱响应形状为平顶,1dB带宽由0.3nm增加到1.6nm,并可以通过调整设计参数,平衡器件的损耗均匀程度、带宽和整体损耗。实验结果显示,各通道间差异为3.1dB,1dB带宽约为1.1nm,器件串扰低于-12dB,验证了该方法的正确性。该方法无需增加器件尺寸或引入额外结构,可应用于任何材料平台的蚀刻衍射光栅器件。 展开更多
关键词 光通信 蚀刻衍射光栅 波长路由器 损耗均匀 平顶型通带 全光路由
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蚀刻衍射光栅设计的一点法与二点法 被引量:4
9
作者 盛钟延 何赛灵 何建军 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第7期671-674,共4页
本文介绍了蚀刻衍射光栅 (EDG)的解复用特性 ,对于光栅几何参数的设计 ,传统的等距凹面光栅不适用于平面波导 ,文中详细的讨论了两种无像差点设计方法 :一点法和两点法。对于两种方法确定的光栅点 ,文中用光程误差进行评价 ,模拟结果显... 本文介绍了蚀刻衍射光栅 (EDG)的解复用特性 ,对于光栅几何参数的设计 ,传统的等距凹面光栅不适用于平面波导 ,文中详细的讨论了两种无像差点设计方法 :一点法和两点法。对于两种方法确定的光栅点 ,文中用光程误差进行评价 ,模拟结果显示 。 展开更多
关键词 波分复用 平面波导 解复用器 蚀刻衍射光栅 光纤通信
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时域有限差分法分析蚀刻衍射光栅的后向衍射效率(英文) 被引量:3
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作者 文泓桥 吴良 +2 位作者 宋军 盛钟延 何赛灵 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第11期1377-1381,共5页
采用时域有限差分法 (FDTD)结合理想匹配层 (PML)边界条件及周期性边界条件对两种结构槽面的后向衍射效率进行了分析 ,在P偏振和S偏振两种情况下 ,均得到了比传统差分方法和射线近似方法更精确的解 数值计算结果表明 :全内反射 (TIR)... 采用时域有限差分法 (FDTD)结合理想匹配层 (PML)边界条件及周期性边界条件对两种结构槽面的后向衍射效率进行了分析 ,在P偏振和S偏振两种情况下 ,均得到了比传统差分方法和射线近似方法更精确的解 数值计算结果表明 :全内反射 (TIR)结构在高折射率材料 (如InP)的蚀刻衍射光栅 (EDG)中很有效 ,而在低折射率材料 (如SiO2 ) 展开更多
关键词 后向衍射效率 时域有限差分法 FDTD 蚀刻衍射光栅 EDG 理想匹配层 波分复用 WDM 偏振 光通信
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刻蚀衍射光栅色散特性分析 被引量:1
11
作者 宋军 何赛灵 何建军 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期318-322,共5页
对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的色散特性提出了一种完整的计算方案 ,分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系 .同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散 ,以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在... 对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅 (EDG)的色散特性提出了一种完整的计算方案 ,分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系 .同时通过模拟计算提出并验证了平坦化的同时加剧了色散 ,以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在一定程度上降低器件的色散 .最终指出了使用渐变的抛物线结构多模干涉更有利于得到综合性能最优的平坦频谱 . 展开更多
关键词 色散 刻蚀衍射光栅(EDG) 波分复用 平坦化 相位响应 带通纹波
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基于Bragg反射面结构的衍射光栅设计与研究 被引量:1
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作者 李宝 朱京平 杜炳政 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第19期146-153,共8页
基于Bragg反射光栅是一维光子晶体的一种特例结构,本文提出利用一维光子晶体带隙理论进行Bragg反射光栅设计.通过光学仿真软件OptiFDTD对Bragg反射光栅的宽度及倾斜角度误差的仿真分析,发现Bragg光栅齿刻槽宽度变化在10%范围、倾斜角度1... 基于Bragg反射光栅是一维光子晶体的一种特例结构,本文提出利用一维光子晶体带隙理论进行Bragg反射光栅设计.通过光学仿真软件OptiFDTD对Bragg反射光栅的宽度及倾斜角度误差的仿真分析,发现Bragg光栅齿刻槽宽度变化在10%范围、倾斜角度10°以内不会引起Bragg光栅衍射效率的明显变化,说明Bragg反射光栅具有较高的工艺误差容限;根据一维光子晶体带隙理论,设计了一种罗兰圆结构的Bragg衍射双光栅结构模型,实现了两个频段之间的衍射分光,优化分析结果表明:当第一套光栅中Bragg周期层数为6、第二套光栅Bragg周期层数为10时,两频段波长的衍射效率均可以达到70%左右,明显高于传统深刻蚀的衍射光栅.基于本设计的波分复用器是一种尺寸小、衍射效率高的新型EDG波分复用器,为未来高效密集型EDG波分复用器发展提供了一种新的设计思路. 展开更多
关键词 1-D光子晶体 Bragg蚀刻衍射光栅 衍射效率 罗兰圆双光栅
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Bragg反射齿型平面凹面衍射光栅性能研究
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作者 李宝 杜炳政 朱京平 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第15期198-204,共7页
本文基于Bragg反射光栅是一维光子晶体的一种特例结构,提出利用一维光子晶体理论进行Bragg衍射光栅的设计并对其性能进行研究分析.根据一维光子晶体理论,建立了罗兰圆结构的凹面椭圆Bragg蚀刻衍射光栅,研究了TE/TM模式下器件的分光特性... 本文基于Bragg反射光栅是一维光子晶体的一种特例结构,提出利用一维光子晶体理论进行Bragg衍射光栅的设计并对其性能进行研究分析.根据一维光子晶体理论,建立了罗兰圆结构的凹面椭圆Bragg蚀刻衍射光栅,研究了TE/TM模式下器件的分光特性以及入射角度改变对器件角色散造成的影响;同时,文中对比了空气介质型和金属铝线型椭圆Bragg蚀刻衍射光栅的光学性能.研究结果表明:选择合适的器件参数,可以实现TE/TM模式下1.465—1.615μm范围内波长衍射效率在95%以上,且空气介质型结构光栅的通道均匀性要优于金属铝线型结构光栅;入射角在30?—60?范围内变化时,相同入射角度下,TM模式下器件角色散大于TE模式.基于Bragg衍射光栅设计的波分复用器是一种尺寸小、衍射效率高的新型EDG波分复用器,为未来密集型EDG波分复用器发展提供了一种新的设计思路. 展开更多
关键词 1-D光子晶体 Bragg蚀刻衍射光栅 衍射效率 波分复用
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HfO_2在CHF_3,Ar和H_2的感应耦合等离子体中的刻蚀行为 被引量:2
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作者 辛煜 宁兆元 +5 位作者 叶超 许圣华 甘肇强 黄松 陈军 狄小莲 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期309-312,共4页
通过改变偏压功率和气体气压的宏观条件 ,利用CHF3 ,Ar和H2 的感应耦合等离子体 (ICP)对HfO2 和RZJ 30 6光刻胶进行了刻蚀选择性实验研究。结果表明 ,HfO2 与等离子体化学相互作用的刻蚀产物属于非挥发性的 ,容易造成边墙的堆积而形成... 通过改变偏压功率和气体气压的宏观条件 ,利用CHF3 ,Ar和H2 的感应耦合等离子体 (ICP)对HfO2 和RZJ 30 6光刻胶进行了刻蚀选择性实验研究。结果表明 ,HfO2 与等离子体化学相互作用的刻蚀产物属于非挥发性的 ,容易造成边墙的堆积而形成“驼峰”形 ,因而需要借助于Ar+ 的辅助轰击来消除边墙堆积 ,典型的HfO2 /光刻胶的刻蚀选择比在 0 2~ 0 .5之间。在射频源功率 4 0 0W、气压 0 5Pa、射频偏压 - 4 0 0V、流量比为Ar∶CHF3 ∶H2 =4 0sccm∶18sccm∶2sccm的优化条件下 ,利用感应耦合等离子体刻蚀特性 ,对光刻胶作为掩膜的HfO2 /BK7玻璃进行刻蚀 ,扫描电镜的测试结果表明 ,光栅的图形转移效果较好。红外激光波长为 10 6 4nm时 ,所测得的光栅二级衍射效率在 71%以上。 展开更多
关键词 HFO2 刻蚀 光刻胶 光栅 频偏 图形转移 光波长 感应耦合等离子体 衍射效率 非挥发性
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