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题名低温快速电化学辅助磷化膜的制备及其耐蚀性
被引量：3
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作者
李丹丹
赵仁亮
叶禹
冯立明
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机构
山东建筑大学材料科学与工程学院
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出处
《材料保护》
CSCD
北大核心
2017年第8期54-57,共4页
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文摘
目前国内外关于电化学辅助磷化的研究报道较少。采用硫酸铜点滴试验、塔菲尔极化曲线研究了电化学辅助制备磷化膜的耐蚀性,探究电化学辅助磷化的最佳配方及工艺条件。通过单因素试验优化磷化液组分,通过正交试验优化工艺条件。结果表明,电化学辅助可以显著降低磷化温度、缩短磷化时间、减少磷化渣,优选出的磷化液组成为:5.00 g/L ZnO,13.00 mL/L磷酸(85%),20.00 g/L Zn(NO_3)_2·6H_2O,1.00 g/L酒石酸钾钠,1.00 g/L NH_4HF_2,1.20 g/L NaClO_3,5.00 g/L磷酸二氢锌,0.08 g/L CuSO_4;最优工艺参数为电流密度1.2 A/dm^2,温度35℃,通电时间7 min。最优工艺下所得磷化膜耐硫酸铜点滴试验时间达860 s;磷化时间1 min时,所得磷化膜硫酸铜点滴试验耐蚀性为61 s(远优于化学磷化的19 s),磷化膜外观均匀、致密。
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关键词
磷化膜
电化学辅助磷化
耐蚀性
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Keywords
phosphating film
electrochemical-assisted phosphating
corrosion resistance
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分类号
TG174.4
[金属学及工艺—金属表面处理]
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