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新型LLC谐振变换器数字同步整流驱动方式 被引量:16
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作者 吕征宇 李佳晨 杨华 《电机与控制学报》 EI CSCD 北大核心 2018年第1期16-22,共7页
提出了一种适用于LLC谐振变换器的数字同步整流驱动方式。该驱动方式基于检测同步整流MOS管的漏源极电压,进而判断体二极管的导通情况,通过电压比较器输出高低电平到数字处理器,算法程序捕获体二极管的导通时间,控制调节同步整流管驱动... 提出了一种适用于LLC谐振变换器的数字同步整流驱动方式。该驱动方式基于检测同步整流MOS管的漏源极电压,进而判断体二极管的导通情况,通过电压比较器输出高低电平到数字处理器,算法程序捕获体二极管的导通时间,控制调节同步整流管驱动信号的占空比,从而使同步整流达到较理想的效果,提高变换器的效率。相比传统的同步整流驱动方式,所提的驱动方式具有电路结构与控制算法简单、驱动信号精确、动态性能好等优点。为了验证此方式的有效性,以一个72 W半桥LLC谐振变换器为样机进行了实验,样机效率达到97.5%。 展开更多
关键词 LLC谐振变换器 数字同步整流 漏源极电压 体二极管 数字处理器
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RCD钳位电路参数设计范围研究 被引量:8
2
作者 高梦莹 高小丽 《电气自动化》 2019年第4期65-67,共3页
反激式开关电源变压器的原边漏感对电路性能及电路中的功率开关管有很大影响,在变压器原边添加RCD钳位电路可抑制由原边漏感产生的电压过冲。但在实际电路设计中,RCD钳位电路参数没有明确的设计范围,大多由经验获得。给出RCD钳位电路参... 反激式开关电源变压器的原边漏感对电路性能及电路中的功率开关管有很大影响,在变压器原边添加RCD钳位电路可抑制由原边漏感产生的电压过冲。但在实际电路设计中,RCD钳位电路参数没有明确的设计范围,大多由经验获得。给出RCD钳位电路参数设计范围,指出参数设计超出该范围会影响反激式开关电源变压器的能效。试验采用TNY277PN开关芯片电路,分析试验测试结果,验证理论研究的正确性和参数设计范围的实用性。 展开更多
关键词 RCD钳位电路 参数设计范围 反激式开关电源 漏源电压 钳位电容电压
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高压大功率SiC MOSFETs短路保护方法
3
作者 汪涛 黄樟坚 +3 位作者 虞晓阳 张茂强 骆仁松 李响 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期1583-1595,共13页
碳化硅(SiC)MOSFETs短路承受能力弱,研究其短路保护方法成为保障电力电子设备安全运行的重要课题。现有方法大多围绕低压小功率SiC MOSFETs,然而随着电压和功率等级的提升,器件特性有所差异,直接套用以往设计难以实现高压大功率SiC MOSF... 碳化硅(SiC)MOSFETs短路承受能力弱,研究其短路保护方法成为保障电力电子设备安全运行的重要课题。现有方法大多围绕低压小功率SiC MOSFETs,然而随着电压和功率等级的提升,器件特性有所差异,直接套用以往设计难以实现高压大功率SiC MOSFETs的快速、可靠保护。该文首先详细研究了几种常用短路检测方法;其次基于高压大功率SiC MOSFETs器件特性,深入对比分析了不同短路检测方法的适用性,提出一种阻容式漏源极电压检测和栅极电荷检测相结合的短路保护方法;最后搭建了实验平台验证所提方法的可行性。结果表明,提出的方法在硬开关短路故障(hard switching fault,HSF)下,保护响应时间缩短了1.4μs,短路能量降低了62.5%;且能可靠识别负载短路故障(fault under load,FUL)。 展开更多
关键词 SiC MOSFETs 高压大功率 短路保护 器件特性 漏源极电压 栅极电荷
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基于声发射的Cascode型GaN HEMT器件机械应力波检测与分析 被引量:1
4
作者 何赟泽 刘松源 +4 位作者 白芸 刘菲 耿学锋 任丹彤 唐锐洋 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2023年第2期750-760,共11页
近年来,以氮化镓(gallium nitride,Ga N)材料为代表的第三代功率半导体器件开始被广泛地应用于高压高温高频的工作场合。在这些环境下对器件进行及时、高效的无损检测可以防患于未然,减少或避免器件损伤带来的损失。文中基于声发射检测... 近年来,以氮化镓(gallium nitride,Ga N)材料为代表的第三代功率半导体器件开始被广泛地应用于高压高温高频的工作场合。在这些环境下对器件进行及时、高效的无损检测可以防患于未然,减少或避免器件损伤带来的损失。文中基于声发射检测技术,对目前应用较多的共栅共源型GaN高电子迁移率晶体管的机械应力波进行检测与分析。分别对器件散热侧和封装侧进行多组重复性实验,利用声发射探头采集其工作时发出的声信号并进行滤波分析,最后总结出该器件开通、关断应力波参数的特征和变化规律。旨在探究器件机械应力波受漏源电压以及栅源电压的影响规律,为下一步进行功率循环实验,建立器件健康状态与其机械应力波之间联系奠基。 展开更多
关键词 氮化镓高电子迁移率晶体管 机械应力波 漏源电压 栅源电压
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SiC MOSFET单粒子漏电退化的影响因素 被引量:1
5
作者 秦林生 汪波 +1 位作者 马林东 万俊珺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第11期972-976,984,共6页
高压功率器件是未来航天器进一步发展的关键,对SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)等高压大功率器件的抗辐射研究亟待突破。在不同偏置条件下对器件的单粒子效应(SEE)进行实验,结果表明,SiC MOSFET单粒子漏电退化效应与漏源电... 高压功率器件是未来航天器进一步发展的关键,对SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)等高压大功率器件的抗辐射研究亟待突破。在不同偏置条件下对器件的单粒子效应(SEE)进行实验,结果表明,SiC MOSFET单粒子漏电退化效应与漏源电压、离子注量以及反向栅源电压呈正相关。为进一步研究SiC MOSFET单粒子效应机理,结合实验数据进行TCAD仿真,发现器件发生单粒子效应时存在两种失效模式,第一种失效模式与Si基MOSFET类似,而第二种失效模式与SiC器件的特有结构密切相关,容易形成更高的分布电压,导致栅氧化层烧毁失效。该结果为抗辐照加固器件的研究提供了理论支撑。 展开更多
关键词 SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET) 单粒子效应(SEE) 漏电退化 漏源电压 离子注量
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Evaluation of the drain–source voltage effect on AlGaAs/InGaAs PHEMTs thermal resistance by the structure function method 被引量:1
6
作者 马琳 冯士维 +2 位作者 张亚民 邓兵 岳元 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第9期60-64,共5页
The effect of drain-source voltage on A1GaAs/InGaAs PHEMTs thermal resistance is studied by experimental measuring and simulation. The result shows that A1GaAs/InGaAs PHEMTs thermal resistance presents a downward tren... The effect of drain-source voltage on A1GaAs/InGaAs PHEMTs thermal resistance is studied by experimental measuring and simulation. The result shows that A1GaAs/InGaAs PHEMTs thermal resistance presents a downward trend under the same power dissipation when the drain-source voltage (VDs) is decreased. Moreover, the relatively low VDS and large drain-source current (IDs) result in a lower thermal resistance. The chip-level and package-level thermal resistance have been extracted by the structure function method. The simulation result indicated that the high electric field occurs at the gate contact where the temperature rise occurs. A relatively low VDS leads to a relatively low electric field, which leads to the decline of the thermal resistance. 展开更多
关键词 AIGaAs/InGaAs PHEMTs structure function method thermal resistance drain-source voltage
原文传递
基于可变消隐时间的SiC MOSFET Uds检测法 被引量:1
7
作者 伍思凯 刘畅 王利辉 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 2019年第9期109-112,124,共5页
漏源电压检测作为一种成熟的检测方法,广泛用于碳化硅金属-氧化物半导体场效应管(SiCM0SFET)短路保护。从兼容性角度考虑,为满足不同工况下的短路保护要求,检测电路内的消隐时间需从大设置,这势必会影响保护速度甚至无法有效保护器件。... 漏源电压检测作为一种成熟的检测方法,广泛用于碳化硅金属-氧化物半导体场效应管(SiCM0SFET)短路保护。从兼容性角度考虑,为满足不同工况下的短路保护要求,检测电路内的消隐时间需从大设置,这势必会影响保护速度甚至无法有效保护器件。在此分析了传统漏源电压检测中消隐时间设置的机理,提出一种能随不同工况改变消隐时间的漏源电压检测电路。内置的漏源电压欧姆区检测单元使开通瞬态下的检测消隐时间随工况改变,加快负载故障(FUL)检测速度;栅压检测单元利用栅极电压在短路时的特性加快硬切换故障(HSF)检测速度,达到抑制短路电流、有效保护器件的目的,并通过实验验证了该方法的可行性。 展开更多
关键词 碳化硅 漏源电压 短路保护
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GaN功率器件应用可靠性增长研究 被引量:4
8
作者 江元俊 王卫华 郑新 《微波学报》 CSCD 北大核心 2023年第1期62-67,共6页
GaN功率器件是雷达T/R组件或发射功放组件中的核心元器件,随着器件的输出功率和功率密度越来越高,器件的长期可靠性成为瓶颈。文章对雷达脉冲工作条件下GaN功率器件的失效机理进行了分析和研究,指出高漏源过冲电压、栅源电压的稳定性以... GaN功率器件是雷达T/R组件或发射功放组件中的核心元器件,随着器件的输出功率和功率密度越来越高,器件的长期可靠性成为瓶颈。文章对雷达脉冲工作条件下GaN功率器件的失效机理进行了分析和研究,指出高漏源过冲电压、栅源电压的稳定性以及GaN管芯的沟道温度的高低是影响GaN功率器件长期应用可靠性的主要因素,同时给出了降低漏源过冲电压、提高栅源电压稳定性以及改善GaN管芯的沟道温度的措施和方法。 展开更多
关键词 GaN功率器件 应用可靠性 漏源偏置电压 电压过冲 栅流 管芯结温 加速寿命试验
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适用于SiC MOSFET的漏源电压积分自适应快速短路保护电路研究
9
作者 李虹 胡肖飞 +1 位作者 王玉婷 曾洋斌 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2024年第4期1542-1552,I0024,共12页
SiC MOSFET因其高击穿电压、高开关速度、低导通损耗等性能优势而被广泛应用于各类电力电子变换器中。然而,由于其短路耐受时间仅为2~7μs,且随母线电压升高而缩短,快速可靠的短路保护电路已成为其推广应用的关键技术之一。为应对不同... SiC MOSFET因其高击穿电压、高开关速度、低导通损耗等性能优势而被广泛应用于各类电力电子变换器中。然而,由于其短路耐受时间仅为2~7μs,且随母线电压升高而缩短,快速可靠的短路保护电路已成为其推广应用的关键技术之一。为应对不同母线电压下的Si C MOSFET短路故障,文中提出一种基于漏源电压积分的自适应快速短路保护方法(drain-sourcevoltageintegration-basedadaptivefast short-circuit protection method,DSVI-AFSCPM),研究所提出的DSVI-AFSCPM在硬开关短路(hardswitchingfault,HSF)和负载短路(fault under load,FUL)条件下的保护性能,进而研究不同母线电压对DSVI-AFSCPM的作用机理。同时,探究Si CMOSFET工作温度对其响应速度的影响。最后,搭建实验平台,对所提出的DSVI-AFSCPM在发生硬开关短路和负载短路时不同母线电压、不同工作温度下的保护性能进行实验测试。实验结果表明,所提出的DSVI-AFSCPM在不同母线电压下具有良好的保护速度自适应性,即母线电压越高,短路保护速度越快,并且其响应速度受Si CMOSFET工作温度影响较小,两种短路工况下工作温度从25℃变化到125℃,短路保护时间变化不超过90 ns。因此,该文为Si CMOSFET在不同母线电压下的可靠使用提供一定技术支撑。 展开更多
关键词 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管 短路保护 漏源电压积分 母线电压 自适应
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基于通态漏源电压的SiC MOSFET结温估计方法 被引量:3
10
作者 信金蕾 杜明星 王颖丽 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 2020年第10期17-20,共4页
以通态漏源电压为热敏感电参数(TSEP)来估计碳化硅(SiC)金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)模块的结温。首先,将SiC MOSFET模块的通态漏源电阻分为芯片通态漏源电阻和封装电路电阻两部分。当漏极电流在导通电路中流过时,相应产生芯... 以通态漏源电压为热敏感电参数(TSEP)来估计碳化硅(SiC)金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)模块的结温。首先,将SiC MOSFET模块的通态漏源电阻分为芯片通态漏源电阻和封装电路电阻两部分。当漏极电流在导通电路中流过时,相应产生芯片通态漏源电压降和封装电路电压降,从而得到SiC MOSFET模块的通态漏源电压降的测量及计算方法。其次,分析SiC MOSFET模块的芯片通态漏源电阻和封装电路电阻的温度特性,并得到整个模块通态漏源电阻的温度特性。最后,提取SiC MOSFET模块的通态漏源电阻、芯片通态漏源电阻和封装电路电阻,利用芯片通态漏源电压降和封装电路电压降的温度特性关系得到SiC MOSFET模块通态漏源电压解析模型,该方法可以实现实时监测结温的目的。理论和实验结果证明了该方法的可行性。 展开更多
关键词 金属氧化物半导体场效应晶体管 结温 通态漏源电压
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基于恒定漏-源电压的LC-Tank幅度控制方法 被引量:1
11
作者 王德志 张科峰 +1 位作者 石琴琴 邹雪城 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第2期48-52,共5页
运用电压受限区和电流受限区的原理,提出了一种用于宽带LC-VCOs中基于恒定漏-源电压的LC-Tank幅度控制方法.通过检测交叉耦合管漏-源电压的变化值选择不同的尾偏置电压,避免LC-VCOs在高频处工作在电压受限区,达到优化相位噪声和功耗的目... 运用电压受限区和电流受限区的原理,提出了一种用于宽带LC-VCOs中基于恒定漏-源电压的LC-Tank幅度控制方法.通过检测交叉耦合管漏-源电压的变化值选择不同的尾偏置电压,避免LC-VCOs在高频处工作在电压受限区,达到优化相位噪声和功耗的目的.该方法应用于谐振频率为1.52~3.20GHz的LC-VCO,在3.2GHz载波处,10kHz和600kHz频偏的相位噪声为-77.0dBc/Hz和-118.4dBc/Hz,较没有幅度控制的情形分别改进了8.0dB和1.4dB,且在整个频段内的最大功耗为8.6mW. 展开更多
关键词 宽带压控振荡器 幅度控制 恒定漏-源电压 低相位噪声 低功耗
原文传递
一种高压PMOS器件低剂量辐照效应分析
12
作者 高炜祺 刘虹宏 《空间电子技术》 2019年第2期79-82,共4页
对MOS器件总剂量辐照机理的研究,多从γ射线在SiO_2中产生电子-空穴对,以及γ射线作用在SiO_2-Si界面上产生新生界面态方面出发,分析γ射线对MOS器件的阈值影响,但很少分析γ射线对高压MOS器件漏源击穿电压的影响。文章针对低剂量γ射... 对MOS器件总剂量辐照机理的研究,多从γ射线在SiO_2中产生电子-空穴对,以及γ射线作用在SiO_2-Si界面上产生新生界面态方面出发,分析γ射线对MOS器件的阈值影响,但很少分析γ射线对高压MOS器件漏源击穿电压的影响。文章针对低剂量γ射线对高压PMOS器件中漏源击穿电压的作用进行综合分析;重点研究了低剂量辐照情况下高压PMOS器件的漏源击穿电压特性相对于常规剂量辐照后的变化。研究表明:低剂量的γ射线会引起高压PMOS器件漏源发生严重漏电;高压PMOS器件版图设计不当时,长期的低剂量γ射线会引起高压CMOS集成电路发生功能失效的风险。 展开更多
关键词 高压PMOS器件 低剂量辐照 PMOS版图 漏源击穿电压
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GaAs MESFET的漏源电压对旁栅阈值电压的影响
13
作者 丁勇 赵福川 +2 位作者 毛友德 夏冠群 赵建龙 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第4期28-30,共3页
研究了改变MESFET漏源电压大小和交换源漏电极对旁栅阈值电压的影响,并从理论上解释了与高场下衬底深能级EL2的碰撞电离关系。
关键词 旁栅效应 漏源电压 砷化镓 MESFET
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高电流密度Ga2O3 MOSFET器件的研制
14
作者 田秀伟 马春雷 +3 位作者 刘沛 韩婷婷 宋旭波 吕元杰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第10期740-744,786,共6页
研制了一款具有高漏源饱和电流密度的Ga2O3MOSFET器件。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在Fe掺杂半绝缘(010) Ga2O3同质衬底上外延得到n型β-Ga2O3薄膜材料,n型Ga2O3沟道层Si掺杂浓度为2. 0×10^(18)cm^(-3),n型沟道... 研制了一款具有高漏源饱和电流密度的Ga2O3MOSFET器件。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在Fe掺杂半绝缘(010) Ga2O3同质衬底上外延得到n型β-Ga2O3薄膜材料,n型Ga2O3沟道层Si掺杂浓度为2. 0×10^(18)cm^(-3),n型沟道厚度为80 nm。采用Si离子注入工艺,器件欧姆特性得到大幅改善,欧姆接触电阻降至1. 0Ω·mm。采用原子层沉积(ALD)厚度为25 nm的Hf O2作为器件的栅下绝缘介质层。测试结果表明,在栅偏压为0 V时,器件的开态导通电阻仅为65Ω·mm,漏源饱和电流密度达到173 m A/mm,器件的三端关态击穿电压达到120 V。 展开更多
关键词 氧化镓(Ga2O3) 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET) 漏源饱和电流密度 离子注入 击穿电压
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温度对SiC MOSFET电流和电压变化率影响分析 被引量:6
15
作者 廖兴林 李辉 +3 位作者 黄樟坚 王坤 胡姚刚 曾正 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第8期2368-2375,共8页
由于SiC MOSFET的半导体物理和器件内部参数会随着温度的变化而发生变化,导致温度变化也会影响SiC MOSFET的动态特性。该文以其漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt这2个动态性能参数为例,重点从实验的角度分析其随温度变化... 由于SiC MOSFET的半导体物理和器件内部参数会随着温度的变化而发生变化,导致温度变化也会影响SiC MOSFET的动态特性。该文以其漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt这2个动态性能参数为例,重点从实验的角度分析其随温度变化的规律。首先,搭建基于电感钳位双脉冲的SiC MOSFET动态特性测试电路,测试不同温度下漏极电流和漏源极电压,得到温度对其的影响规律;其次,基于器件物理方程建立SiC MOSFET漏极电流变化率dID/dt、漏源极电压变化率dVDS/dt的温度特性解析模型,且通过实验测试得到SiC MOSFET的阈值电压VTH、跨导gm的温度特性;最后,根据所建立的SiC MOSFET dID/dt、dVDS/dt温度特性解析模型及其VTH、gm的温度特性从理论上对实验所得结果进行定性解释。所得结果对SiC MOSFET器件选型、建立准确的器件模型及实际系统的设计具有指导意义。 展开更多
关键词 碳化硅 MOSFET 温度 漏极电流 漏源极电压
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大功率VDMOS(200V)的设计研究 被引量:2
16
作者 黄京才 陈骞 许允亮 《现代电子技术》 2011年第18期195-197,共3页
介绍了大功率VDMOS(200 V)的设计方法。对设计参数进行了理论分析,并使用仿真工具对设计参数进行了验证和优化。设计中主要考虑了漏源电压和导通电阻等参数指标,通过器件和工艺的仿真,确定了该器件合理的参数范围:外延厚度为20μm,外延... 介绍了大功率VDMOS(200 V)的设计方法。对设计参数进行了理论分析,并使用仿真工具对设计参数进行了验证和优化。设计中主要考虑了漏源电压和导通电阻等参数指标,通过器件和工艺的仿真,确定了该器件合理的参数范围:外延厚度为20μm,外延电阻率为5Ω.cm;栅氧厚度为52 nm;P阱注入剂量为3×313cm-2,推阱时间65 min。将流片结果与仿真结果进行了比较。 展开更多
关键词 纵向双扩散金属氧化物半导体 漏源电压 导通电阻 封装
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漏源间距对AlGaN/GaN HEMT器件特性的影响
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作者 马灵 吕元杰 +4 位作者 王丽 宋旭波 顾国栋 谭鑫 郭红雨 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期19-23,共5页
采用相同的欧姆接触,栅长为100 nm的T型栅以及50 nm的氮化硅(Si N)表面钝化等器件工艺,制备了漏源间距分别为2和3μm的AlGaN/Ga N高电子迁移率场效应晶体管(HEMT)。研究发现,当漏源间距从2μm增加至3μm后,器件的直流特性略有下降,如在... 采用相同的欧姆接触,栅长为100 nm的T型栅以及50 nm的氮化硅(Si N)表面钝化等器件工艺,制备了漏源间距分别为2和3μm的AlGaN/Ga N高电子迁移率场效应晶体管(HEMT)。研究发现,当漏源间距从2μm增加至3μm后,器件的直流特性略有下降,如在Vgs为1 V下的饱和电流密度从1.4 A/mm下降至1.3 A/mm。此外,器件的射频特性也略有下降,电流增益截止频率(fT)从121 GHz降至116 GHz,最大振荡频率(fmax)从201 GHz下降至189 GHz。然而,器件的击穿特性却有显著提升,击穿电压从44 V提升至87 V。在实际器件设计制备过程中可考虑适当增加漏源间距,在保持直流和射频特性的前提下,提升器件的击穿特性。 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 漏源间距 T型栅 射频特性 击穿电压
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MOSFET漏源极电压反馈限流
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作者 万文斌 王民康 文明 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 2006年第6期134-135,共2页
介绍了一种脉宽调制(PWM)电机调速系统的电流控制方法。根据MOSFET的自身导通电压与电流之间的关系特性,对MOSFET漏-源极电压进行采样,并结合控制触发脉冲,实现了对功率器件的脉宽限制,达到了电流限制目的,从而省去了电流直接检测元件,... 介绍了一种脉宽调制(PWM)电机调速系统的电流控制方法。根据MOSFET的自身导通电压与电流之间的关系特性,对MOSFET漏-源极电压进行采样,并结合控制触发脉冲,实现了对功率器件的脉宽限制,达到了电流限制目的,从而省去了电流直接检测元件,具有很好的实际应用价值。 展开更多
关键词 脉宽凋制 控制/金属-氧化物-半导体-场效应晶体管 漏-源极电压
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