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题名双靶共溅射TiAl系高温耐磨薄膜制备与研究
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作者
张晔
殷春云
李长生
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机构
常州机电职业技术学院模具技术系
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出处
《真空》
CAS
2013年第5期21-24,共4页
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文摘
在同一次双靶共溅射过程中,通过改变基体相对于靶材的位置制备了不同化学成份TiAl系金属间化合物薄膜。采用EDS、XRD、SEM、AFM等手段对薄膜的成分、物相结构和表面形貌进行了表征,并对薄膜的高温摩擦行为进行了分析研究。实验结果表明:薄膜的化学成分、物相结构、表面形貌都随着溅射位置的改变而发生变化,500℃以下时位于双靶中间位置的薄膜具有体系中最佳的性能。
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关键词
双靶共溅射
金属间化合物薄膜
物相结构
高温摩擦行为
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Keywords
double target co-sputtering
intermetallic films
microstructure
friction behavior under high temperature
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分类号
TH117.43
[机械工程—机械设计及理论]
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题名应用于转角传感器的Cu-DLC电阻体制备技术研究
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作者
王洋洋
徐冬
杨思远
咸婉婷
宋成君
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机构
中国电子科技集团公司第四十九研究所
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出处
《传感器世界》
2021年第7期18-21,共4页
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文摘
采用双靶共溅的方法在陶瓷基底上制备了Cu-DLC电阻体。该电阻体具有类金刚石镀膜的硬度,同时,因掺杂的Cu降低了类金刚石镀膜的电阻率,使其兼具耐磨性和电阻特性。文中对Cu-DLC电阻体薄膜的制备工艺进行了介绍,并对薄膜的表面形貌、膜的微观组成、力学性能以及功率对电阻率的影响展开了研究。研究结果表明,该方法制备的Cu-DLC镀膜微观形貌均匀致密,具有较高的硬度、阻值可控性,且具有良好的基底结合力,可作为转角传感器的电阻体材料。
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关键词
双靶共溅
电阻体
转角传感器
耐磨性
电阻率
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Keywords
double target co sputtering
resistor
angle sensor
wear resistance
resistivity
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分类号
TP212.2
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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