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使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形
1
作者
齐晶
史峥
+1 位作者
林斌
罗凯升
《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第3期365-369,共5页
在亚波长光刻领域,基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形,且不考虑光学邻近校正的效果。提出了一种新的利用测试图形优化亚分辨率辅助图形的方法。与一般的光学邻近校正流程结合...
在亚波长光刻领域,基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形,且不考虑光学邻近校正的效果。提出了一种新的利用测试图形优化亚分辨率辅助图形的方法。与一般的光学邻近校正流程结合,该方法能解决工艺窗口过小和亚分辨率辅助图形刻出等问题。通过对标准电路版图的测试,对边放置误差和工艺窗口进行了测量。边放置误差相比传统方法减小了10%,同时,不同工艺窗条件下的边放置误差也有改善。
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关键词
可制造性设计
光刻
亚分辨率辅助图形
光学邻近校正
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职称材料
题名
使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形
1
作者
齐晶
史峥
林斌
罗凯升
机构
浙江大学超大规模集成电路设计研究所
出处
《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第3期365-369,共5页
基金
国家"十一五"高端通用芯片科技重太专项(2008ZX01035-001-06)
文摘
在亚波长光刻领域,基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形,且不考虑光学邻近校正的效果。提出了一种新的利用测试图形优化亚分辨率辅助图形的方法。与一般的光学邻近校正流程结合,该方法能解决工艺窗口过小和亚分辨率辅助图形刻出等问题。通过对标准电路版图的测试,对边放置误差和工艺窗口进行了测量。边放置误差相比传统方法减小了10%,同时,不同工艺窗条件下的边放置误差也有改善。
关键词
可制造性设计
光刻
亚分辨率辅助图形
光学邻近校正
Keywords
design
for
manufaeturability
（
dfm
）
lithography
sub-resolution
assist
features
（SRAF）
optical
proximity
correction
（OPC）
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形
齐晶
史峥
林斌
罗凯升
《华东理工大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2012
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