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新型双沟槽抗弯曲大模场扇形瓣状光纤研究 被引量:2
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作者 王冠利 宁提纲 +5 位作者 郑晶晶 李晶 许建 魏淮 裴丽 马绍朔 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第10期132-140,共9页
提出了一种新型的抗弯曲大模场面积光纤方案--双沟槽辅助型扇形瓣状光纤。与传统的扇形瓣状光纤及单沟槽辅助扇形瓣状光纤相比,该结构具有更大的模场面积和更好的高阶模抑制能力。研究结果表明:在弯曲半径为20 cm,波长为1.55μm时,光纤... 提出了一种新型的抗弯曲大模场面积光纤方案--双沟槽辅助型扇形瓣状光纤。与传统的扇形瓣状光纤及单沟槽辅助扇形瓣状光纤相比,该结构具有更大的模场面积和更好的高阶模抑制能力。研究结果表明:在弯曲半径为20 cm,波长为1.55μm时,光纤的有效模场面积可达1096μm^2,高阶模与基模损耗比大于100;此外,所提出的光纤对弯曲方向不敏感,弯曲方向在[-180°,180°]范围内变化时,光纤性能保持稳定。 展开更多
关键词 光纤光学 光纤设计与制造 大模场面积 抗弯曲 单模运转
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