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氮化铜薄膜的掺杂研究及进展
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作者 李晓峰 李兴鳌 《广州化工》 CAS 2013年第4期1-2,43,共3页
由于氮化铜薄膜潜在的光存储应用前景,成为近十年来研究的热点材料之一,许多研究小组开始了对氮化铜薄膜掺杂展开了研究。本文综述了3d型过渡金属及其他原子掺杂对氮化铜薄膜结构和性能的影响,鉴于此对其应用前景进行了展望。
关键词 氮化铜薄膜 过渡金属掺杂 前景展望
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