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数控抛光技术中抛光盘的去除函数
被引量：
32
1
作者
王权陡
刘民才
张洪霞
《光学技术》
CAS
CSCD
2000年第1期32-34,共3页
抛光盘去除函数的确定是数控抛光技术的应用基础，以Ｐｒｅｓｔｏｎ 方程为基础，应用运动学原理推导了抛光盘在行星运动及平转动两种运动方式下的材料去除函数，并通过计算机模拟出相应的工作特性曲线。结果表明，两种运动方式下工作...
抛光盘去除函数的确定是数控抛光技术的应用基础，以Ｐｒｅｓｔｏｎ 方程为基础，应用运动学原理推导了抛光盘在行星运动及平转动两种运动方式下的材料去除函数，并通过计算机模拟出相应的工作特性曲线。结果表明，两种运动方式下工作特性曲线均在不同程度上趋近于高斯曲线。因而行星运动及平转动都可作为抛光盘的运动方式应用在ＣＣＯＰ技术中，使加工中的面形误差得到收敛。
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关键词
数控抛光
去除函数
特性曲线
非球面
抛光盘
原文传递
数控抛光中不同运动方式下小抛光盘抛光特性之比较
被引量：
28
2
作者
王权陡
余景池
+1 位作者
张峰
刘民才
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999年第5期73-79,共7页
阐述行星运动与平转动两种运动方式下数控抛光中小抛光盘的工作函数，论述了抛光盘本身在不同运动方式下的材料磨损情况。通过采用计算机对抛光盘工作函数及磨损曲线的模拟将抛光盘的两种运动方式进行了分析与比较。
关键词
数控抛光
工作函数
行星运动
光学元件
小抛光盘
下载PDF
职称材料
平面元件数控加工技术研究
被引量：
2
3
作者
刘民才
申艳辉
+2 位作者
胡晓阳
鄢定尧
敬守勇
《光学技术》
CAS
CSCD
2000年第1期59-61,共3页
利用从俄罗斯引进的ＡＤ１０００ 数控研磨抛光机对Φ３３０ｍｍ ×３５ｍ ｍ 、２３０ｍ ｍ ×２３０ｍ ｍ ×４０ｍ ｍ 两块Ｋ９材料平面光学元件进行计算机控制抛光工艺研究。通过工艺研究全面熟悉了设备的技术特性和...
利用从俄罗斯引进的ＡＤ１０００ 数控研磨抛光机对Φ３３０ｍｍ ×３５ｍ ｍ 、２３０ｍ ｍ ×２３０ｍ ｍ ×４０ｍ ｍ 两块Ｋ９材料平面光学元件进行计算机控制抛光工艺研究。通过工艺研究全面熟悉了设备的技术特性和工艺软件特性，验证了ＡＤ１０００ 数控研磨抛光机在加工高精度光学元件基板方面ＰＶ、ＲＭＳ值收敛效果明显，较传统加工方法在效率上有极大提高。
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关键词
计算机控制抛光
平面元件
数控加工
光学元件
原文传递
题名
数控抛光技术中抛光盘的去除函数
被引量：
32
1
作者
王权陡
刘民才
张洪霞
机构
中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
成都精密光学工程研究中心
柯尼卡(大连)有限公司
出处
《光学技术》
CAS
CSCD
2000年第1期32-34,共3页
基金
中国工程物理研究院基金
文摘
抛光盘去除函数的确定是数控抛光技术的应用基础，以Ｐｒｅｓｔｏｎ 方程为基础，应用运动学原理推导了抛光盘在行星运动及平转动两种运动方式下的材料去除函数，并通过计算机模拟出相应的工作特性曲线。结果表明，两种运动方式下工作特性曲线均在不同程度上趋近于高斯曲线。因而行星运动及平转动都可作为抛光盘的运动方式应用在ＣＣＯＰ技术中，使加工中的面形误差得到收敛。
关键词
数控抛光
去除函数
特性曲线
非球面
抛光盘
Keywords
computer
controlled
optical
polishing
removing
function
performance
cure
aspherics
分类号
TG580.692 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
原文传递
题名
数控抛光中不同运动方式下小抛光盘抛光特性之比较
被引量：
28
2
作者
王权陡
余景池
张峰
刘民才
机构
中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
成都精密光学工程研究中心
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999年第5期73-79,共7页
文摘
阐述行星运动与平转动两种运动方式下数控抛光中小抛光盘的工作函数，论述了抛光盘本身在不同运动方式下的材料磨损情况。通过采用计算机对抛光盘工作函数及磨损曲线的模拟将抛光盘的两种运动方式进行了分析与比较。
关键词
数控抛光
工作函数
行星运动
光学元件
小抛光盘
Keywords
computer
controlled
optical
polishing
,
Working
function,
Planet
motion,
Translation
分类号
TH740.6 [机械工程—光学工程]
TQ171.684 [机械工程—仪器科学与技术]
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职称材料
题名
平面元件数控加工技术研究
被引量：
2
3
作者
刘民才
申艳辉
胡晓阳
鄢定尧
敬守勇
机构
成都精密光学工程研究中心
出处
《光学技术》
CAS
CSCD
2000年第1期59-61,共3页
文摘
利用从俄罗斯引进的ＡＤ１０００ 数控研磨抛光机对Φ３３０ｍｍ ×３５ｍ ｍ 、２３０ｍ ｍ ×２３０ｍ ｍ ×４０ｍ ｍ 两块Ｋ９材料平面光学元件进行计算机控制抛光工艺研究。通过工艺研究全面熟悉了设备的技术特性和工艺软件特性，验证了ＡＤ１０００ 数控研磨抛光机在加工高精度光学元件基板方面ＰＶ、ＲＭＳ值收敛效果明显，较传统加工方法在效率上有极大提高。
关键词
计算机控制抛光
平面元件
数控加工
光学元件
Keywords
computer
controlled
optical
polishing
(CCOP)
technology
experiment
分类号
TG659 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
TH740.6 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
数控抛光技术中抛光盘的去除函数
王权陡
刘民才
张洪霞
《光学技术》
CAS
CSCD
2000
32
原文传递
2
数控抛光中不同运动方式下小抛光盘抛光特性之比较
王权陡
余景池
张峰
刘民才
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999
28
下载PDF
职称材料
3
平面元件数控加工技术研究
刘民才
申艳辉
胡晓阳
鄢定尧
敬守勇
《光学技术》
CAS
CSCD
2000
2
原文传递
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