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大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造
被引量:
9
1
作者
兰红波
郭良乐
+1 位作者
许权
钱垒
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第4期894-905,共12页
为了解决大面积纳米压印所面临的大尺寸晶圆级复合软模具低成本制造的难题,对于当前广泛使用的大尺寸晶圆级双层复合软模具开展了理论分析、数值模拟和制造方法的系统研究。提出并建立了复合软模具脱模过程和气泡缺陷理论模型;利用ABAQU...
为了解决大面积纳米压印所面临的大尺寸晶圆级复合软模具低成本制造的难题,对于当前广泛使用的大尺寸晶圆级双层复合软模具开展了理论分析、数值模拟和制造方法的系统研究。提出并建立了复合软模具脱模过程和气泡缺陷理论模型;利用ABAQUS工程模拟软件,揭示了大尺寸复合软模具影响脱模的因素和内在规律;提出一种大尺寸晶圆级双层复合软模具低成本制造方法,并完成了10.16cm(4inch)满片双层复合软模具复制的实验验证。研究结果为大尺寸复合软模具制造奠定了理论基础,并提供了一种低成本高质量制造大尺寸晶圆级双层复合软模具切实可行的方法。
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关键词
大面积纳米压印
复合软模具
抗粘附
揭开式脱模
晶圆级
下载PDF
职称材料
面向大面积微结构批量化制造的复合压印光刻
被引量:
4
2
作者
兰红波
刘明杨
+1 位作者
郭良乐
许权
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第7期1516-1527,共12页
为了解决在大尺寸非平整刚性衬底和易碎衬底上高效低成本批量化制造大面积微纳结构这一难题,提出一种面向大面积微结构批量化制造的复合微纳压印光刻工艺。阐述了复合压印光刻的基本原理和工艺流程,通过实验揭示了主要工艺参数(覆模速...
为了解决在大尺寸非平整刚性衬底和易碎衬底上高效低成本批量化制造大面积微纳结构这一难题,提出一种面向大面积微结构批量化制造的复合微纳压印光刻工艺。阐述了复合压印光刻的基本原理和工艺流程,通过实验揭示了主要工艺参数(覆模速度、压印力、压印速度、固化时间)对于压印结构的影响及规律。最后,利用课题组自主研发的复合压印光刻机,并结合优化的工艺参数,在3种不同的硬质基材(玻璃、PMMA、蓝宝石)上实现了微尺度柱状结构(最大图形区域为132mm×119mm)、微尺度光栅结构(最大直径为15.24cm的圆形区域)和纳尺度柱状结构(图形区域为47mm×47mm)的大面积微纳结构制造。研究结果表明,提出的复合微纳米压印工艺为大面积微纳结构宏量可控制备、以及大尺寸非平整刚性衬底/易碎衬底大面积图形化提供了一种全新的解决方案,具有广阔的工业化应用前景。
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关键词
复合微纳米压印光刻
大面积纳米压印
复合软模具
非平整衬底
大面积微结构
下载PDF
职称材料
题名
大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造
被引量:
9
1
作者
兰红波
郭良乐
许权
钱垒
机构
青岛理工大学纳米制造与纳光电子实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018年第4期894-905,共12页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.51375250,No.51775288)
青岛市创新领军人才资助项目(No.13-CX-18)
文摘
为了解决大面积纳米压印所面临的大尺寸晶圆级复合软模具低成本制造的难题,对于当前广泛使用的大尺寸晶圆级双层复合软模具开展了理论分析、数值模拟和制造方法的系统研究。提出并建立了复合软模具脱模过程和气泡缺陷理论模型;利用ABAQUS工程模拟软件,揭示了大尺寸复合软模具影响脱模的因素和内在规律;提出一种大尺寸晶圆级双层复合软模具低成本制造方法,并完成了10.16cm(4inch)满片双层复合软模具复制的实验验证。研究结果为大尺寸复合软模具制造奠定了理论基础,并提供了一种低成本高质量制造大尺寸晶圆级双层复合软模具切实可行的方法。
关键词
大面积纳米压印
复合软模具
抗粘附
揭开式脱模
晶圆级
Keywords
large
area
nanoimprint
lithographt
composite
flexible
mold
anti-adhesion
peel
off
de
mold
ing
wafer-level
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
面向大面积微结构批量化制造的复合压印光刻
被引量:
4
2
作者
兰红波
刘明杨
郭良乐
许权
机构
青岛理工大学山东省增材制造工程技术研究中心
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第7期1516-1527,共12页
基金
国家自然科学基金资助项目(51775288)
文摘
为了解决在大尺寸非平整刚性衬底和易碎衬底上高效低成本批量化制造大面积微纳结构这一难题,提出一种面向大面积微结构批量化制造的复合微纳压印光刻工艺。阐述了复合压印光刻的基本原理和工艺流程,通过实验揭示了主要工艺参数(覆模速度、压印力、压印速度、固化时间)对于压印结构的影响及规律。最后,利用课题组自主研发的复合压印光刻机,并结合优化的工艺参数,在3种不同的硬质基材(玻璃、PMMA、蓝宝石)上实现了微尺度柱状结构(最大图形区域为132mm×119mm)、微尺度光栅结构(最大直径为15.24cm的圆形区域)和纳尺度柱状结构(图形区域为47mm×47mm)的大面积微纳结构制造。研究结果表明,提出的复合微纳米压印工艺为大面积微纳结构宏量可控制备、以及大尺寸非平整刚性衬底/易碎衬底大面积图形化提供了一种全新的解决方案,具有广阔的工业化应用前景。
关键词
复合微纳米压印光刻
大面积纳米压印
复合软模具
非平整衬底
大面积微结构
Keywords
composite
imprint
lithography
large-area
nanoimprint
lithography
composite
flexible
mold
non-planar
substrates
large-area
microstructures
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造
兰红波
郭良乐
许权
钱垒
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2018
9
下载PDF
职称材料
2
面向大面积微结构批量化制造的复合压印光刻
兰红波
刘明杨
郭良乐
许权
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
4
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职称材料
已选择
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