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题名小圆平面靶磁控溅射镀膜均匀性研究
被引量：7
- 1
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作者
张以忱
高士铁
陈旺
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机构
东北大学
中海石油(中国)东海西湖石油天然气作业公司
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出处
《真空》
CAS
北大核心
2010年第2期21-26,共6页
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文摘
本文从圆平面靶磁控溅射的原理出发,针对圆形平面靶面积小于基片面积的特点进行分析,建立膜厚分布的数学模型,并利用计算机进行模拟计算,目的在于探寻平面靶材面积小于基片面积时影响膜厚均匀性的因素。模拟计算的结果表明:基片偏心自转时,靶基距和偏心距对膜厚分布均有影响。偏心距一定时,随着靶基距的增大,薄膜厚度变小,膜厚均匀性有提高的趋势;靶基距一定时,随着偏心距的增大,膜厚均匀性先变好后变差。当基片自转复合公转时,随着转速比的增大,膜厚均匀性逐渐变好,转速比增大到一定程度后,它对膜厚均匀性的影响逐渐变小。圆形平面靶的刻蚀环范围的变化对薄膜的均匀性有一定的影响。这些理论为小圆平面磁控溅射系统的设计和实际应用提供了理论依据。
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关键词
薄膜
磁控溅射
圆平面靶
数学模型
膜厚均匀性
转速比
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Keywords
thin film
magnetron sputtering
circular plane target
mathematical model
thickness uniformity velocity ratio of axial rotation to revolution
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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题名小圆形平面靶倾斜磁控溅射镀膜均匀性研究
被引量：3
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作者
付学成
徐锦滨
乌李瑛
黄胜利
王英
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机构
上海交通大学先进电子材料与器件校级平台
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出处
《真空》
CAS
2021年第4期1-5,共5页
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基金
2018年度上海交通大学决策咨询立项课题(JCZXSJB2018-028)。
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文摘
基于小圆形平面靶倾斜磁控溅射的实际情况,针对靶材环形刻蚀槽与水平工件台存在夹角的特点,建立数学模型。利用MATLAB软件进行模拟仿真,研究靶材与工件台正对且高度固定时,不同夹角对膜厚分布的影响。我们发现在工件台相对靶材的水平距离上,膜厚先增加后降低。当靶材夹角适当时,在工件台固定的区域范围内,薄膜沉积速率的变化近似直线。根据薄膜厚度在工件台水平面呈圆弧状递减分布实际特点,模拟出在4英寸的衬底上片内均匀性。根据模拟结果,我们在4英寸的衬底上制备出片内非均匀性小于0.6%的氮化钽薄膜,验证了数学模型的合理性,并解释了非均匀性的实验结果优于模拟计算结果的原因。这为设计制造磁控溅射镀膜设备提供了参考。
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关键词
圆形平面靶
磁控溅射
倾斜溅射
数学模型
高均匀性
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Keywords
circular plane target
magnetron sputtering
inclined sputtering
mathematical model
high uniformity
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分类号
TB43
[一般工业技术]
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题名组合式金合金圆平面磁控靶的设计
被引量：1
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作者
程树英
郑文汀
施金凿
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机构
福州大学电子科学与应用物理系
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出处
《福州大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
1998年第4期35-37,共3页
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文摘
首先对传统的圆平面磁控靶的形状进行改进，设计一个靶材利用率高的纯金靶．利用金合金的色区图，计算沉积不同Ｋ值和颜色的镀金膜时，组合式Ｋ金靶上金、银、铜的面积比，从而在纯金靶上固定相应面积的扇形银片和铜片，研制出不同Ｋ值和色度的组合式金合金靶．
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关键词
磁控溅射
圆平面靶
组合式
沉积
金合金
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Keywords
magnetron sputtering
circular plane target
K-gold
deposition
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分类号
TG174.44
[金属学及工艺—金属表面处理]
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