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题名环境因素对锗单晶抛光片表面质量的影响
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作者
杨洪星
王雄龙
索开南
杨静
陈晨
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机构
中国电子科技集团公司第四十六研究所
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出处
《半导体技术》
CAS
北大核心
2020年第11期880-885,共6页
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文摘
由于Ge材料具有较为活泼的化学性质,易与环境中的氧化剂发生化学反应,使Ge单晶抛光片表面质量因表面化学组成的变化而出现恶化,降低交付可靠性。通过实验验证了在氧化性氛围中,Ge单晶抛光片表面易产生雾,且随着时间延长而逐渐增多,直至表面完全被覆盖。从反应机理分析了Ge单晶抛光片表面可能发生的化学反应。通过X射线光电子能谱(XPS)验证了Ge单晶抛光片表面的价态发生了变化,发现Ge单晶抛光片表面发生了氧化反应。从环境因素入手,分析了净化等级和化学氛围对Ge单晶抛光片表面质量的影响,确定了Ge单晶抛光片的存放环境,保证了Ge单晶抛光片的交付可靠性。
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关键词
Ge
抛光片
净化等级
化学气氛
表面质量
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Keywords
Ge
polished wafer
cleanliness level
chemical ambience
surface quality
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分类号
TN304.11
[电子电信—物理电子学]
TN305.2
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