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题名阴极离子镀制备TiN薄膜及其光电性能的研究
被引量：4
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作者
陈胜男
林威豪
汪建勋
宋晨路
韩高荣
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机构
浙江大学材料科学与工程学院
浙江大学硅材料国家重点实验室
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出处
《燕山大学学报》
CAS
北大核心
2017年第4期371-376,共6页
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基金
"十三五"国家重点研发计划资助项目(2016YFB0303900)
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文摘
氮化钛(TiN)由于其独特的物理、化学、光、电和机械等性能,近年来已成为材料研究热点。本文采用阴极离子镀膜法在304不锈钢基片上制备均匀致密的TiN薄膜。采用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、扫描探针显微镜、紫外可见分光光度计、红外光谱仪等方法研究了薄膜的物相、结构以及光电特性。结果表明,薄膜主要物相为TiN,在(111)晶面具有取向性,同时薄膜中含有少量的O杂质。薄膜表面较平整,颗粒结合紧密,有部分孔洞和小尺寸突起,表面粗糙度Rq约为21.21 nm,薄膜平均厚度约为0.896μm,在红外波段的反射率可达到80%以上,红外辐射率约为0.19,椭偏结果显示TiN薄膜的消光系数k和折射率n与Ag有相似的光学特性,是一种性能优异的低辐射镀膜材料。
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关键词
阴极离子溅射
TIN薄膜
低辐射
光电性能
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Keywords
cathodic ion sputtering
TiN thin film
low-emission
optical and electrical properties
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分类号
TB43
[一般工业技术]
TU524
[建筑科学—建筑技术科学]
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