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TFT-LCD一种条纹Mura的研究与改善 被引量：1
1
作者 张正林 曹淑辉 +2 位作者 王炎 吕琛 封振宇 《光电子技术》 CAS 2022年第1期47-52,共6页
针对A机种生产过程中发生的一种条纹Mura问题,通过不良品的解析和数据统计分析,发现Mura异常区的黑色矩阵层(BM)图案边缘有内切(Undercut)问题,是因为制造过程中显影机导轮与玻璃接触部分发生静电累积,静电干扰使BM光阻与玻璃之间的接... 针对A机种生产过程中发生的一种条纹Mura问题,通过不良品的解析和数据统计分析,发现Mura异常区的黑色矩阵层(BM)图案边缘有内切(Undercut)问题,是因为制造过程中显影机导轮与玻璃接触部分发生静电累积,静电干扰使BM光阻与玻璃之间的接触角变小,造成显影后背面曝光工艺中BM未固化层发生热融溢流(Melt Flow)现象,固化工艺后形成BM边缘内切。研究发现,通过优化背面曝光工艺参数和关闭曝光上灯可以有效改善条纹Mura的程度;且将显影机导轮“平行式”排列改造成“之字式”排列,可以进一步改善条纹Mura现象。改善后条纹Mura的发生率由0.8%降至0,改善效果显著。 展开更多
关键词 条纹缺陷 内切 背面曝光 静电积累 “之字式”排列
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背向曝光表面等离子体激元干涉光刻系统中银层超透镜的优化设计 被引量：2
2
作者 肖啸 张志友 +2 位作者 何明阳 肖志刚 许德富 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期230-234,共5页
利用表面等离子体激元(SPP)的局域能量增强效应可提高现有光学光刻的分辨率。背向曝光SPP干涉光刻技术可以大面积制备低成本的纳米周期性结构。理论分析了SPP在背向曝光系统中的共振透射特性,提出了背向曝光SPP干涉光刻系统核心元件—... 利用表面等离子体激元(SPP)的局域能量增强效应可提高现有光学光刻的分辨率。背向曝光SPP干涉光刻技术可以大面积制备低成本的纳米周期性结构。理论分析了SPP在背向曝光系统中的共振透射特性,提出了背向曝光SPP干涉光刻系统核心元件———银层超透镜的优化设计方法,并利用时域有限差分法和理论解析式模拟计算了背向曝光SPP干涉光场分布,通过优化设计银层超透镜厚度和共振角,实验获得了较好的周期性光刻线条。 展开更多
关键词 表面光学 表面等离波子激元干涉光刻 背向曝光 银层超透镜
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背面夹缝曝光的光学模拟及其实验
3
作者 朱军 陈翔 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期367-371,共5页
背面夹缝曝光是利用光学衍射效应来制备三维微结构的新方法.采用Matlab对曝光时间和夹缝对三维SU-8结构形貌的影响进行了模拟,并开展了相应的实验研究.结果表明:背面夹缝曝光是获得三维微结构的简便方法.模拟与实验揭示了相同的规律性,... 背面夹缝曝光是利用光学衍射效应来制备三维微结构的新方法.采用Matlab对曝光时间和夹缝对三维SU-8结构形貌的影响进行了模拟,并开展了相应的实验研究.结果表明:背面夹缝曝光是获得三维微结构的简便方法.模拟与实验揭示了相同的规律性,即微结构的侧壁倾斜角度取决于夹缝大小;当夹缝不变时,微结构的侧壁倾斜度不变,但微结构的大小随曝光时间而变化. 展开更多
关键词 背面夹缝曝光 三维微结构 SU-8胶
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