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40CrNiMoA高强钢氢脆敏感性和氢含量的关系 被引量:7
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作者 丁有元 张维 +4 位作者 李成涛 刘艳 徐科 方可伟 薛飞 《腐蚀与防护》 北大核心 2017年第7期547-550,共4页
测试了40CrNiMoA高强钢在湿空气环境中的应力腐蚀性能,采用扫描电子显微镜(SEM)、俄歇电子能谱(AES)和拉伸冲击试验等方法,研究试样断裂形貌及其脱氢前后的力学性能。结果表明:40CrNiMoA高强钢在湿空气中发生了沿晶应力腐蚀开裂,断口形... 测试了40CrNiMoA高强钢在湿空气环境中的应力腐蚀性能,采用扫描电子显微镜(SEM)、俄歇电子能谱(AES)和拉伸冲击试验等方法,研究试样断裂形貌及其脱氢前后的力学性能。结果表明:40CrNiMoA高强钢在湿空气中发生了沿晶应力腐蚀开裂,断口形貌特征为氢脆;俄歇电子能谱结果提示晶界偏聚不是发生氢脆的主要原因;脱氢处理后,抗拉强度和屈服强度明显下降,断面收缩率明显上升,冲击功也有所上升。 展开更多
关键词 40CrNiMoA高强钢 氢脆 俄歇能谱
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用于软X射线激光实验的铝衰减膜的测量 被引量:7
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作者 杜杰 王珏 +3 位作者 杜保旗 周斌 华荫曾 陈玲燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 1993年第1期81-87,共7页
对不同方法制备的不同厚度的铝衰减膜,用微机控制α测厚仪测量了膜的质量厚度以及膜厚均匀性,用Auser电子能谱(AES)对铝膜进行了组分的表面和深度分布分析,根据铝KLL Auger特征谱揭示了氧化膜的化学组分并测量了氧化膜厚度随放置时间的... 对不同方法制备的不同厚度的铝衰减膜,用微机控制α测厚仪测量了膜的质量厚度以及膜厚均匀性,用Auser电子能谱(AES)对铝膜进行了组分的表面和深度分布分析,根据铝KLL Auger特征谱揭示了氧化膜的化学组分并测量了氧化膜厚度随放置时间的变化,还讨论了膜中其它杂质含量的上限。 展开更多
关键词 X射线激光 衰减膜 俄歇电子谱法
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合金元素对Cr-Mo钢第二类回火脆性影响研究综述 被引量:6
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作者 李小兵 董鑫 +3 位作者 邢炜伟 陈波 刘奎 马颖澈 《钢铁》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期1-12,共12页
对于一些长期在中温条件下服役的Cr-Mo钢(2.25Cr1Mo),由于钢中P、S等有害杂质元素在服役过程中不断向晶界偏聚,降低了晶界结合力,致使该类钢出现第二类回火脆性这一关键问题。为了探寻降低这类Cr-Mo钢第二类回火脆性倾向的有效方法,提... 对于一些长期在中温条件下服役的Cr-Mo钢(2.25Cr1Mo),由于钢中P、S等有害杂质元素在服役过程中不断向晶界偏聚,降低了晶界结合力,致使该类钢出现第二类回火脆性这一关键问题。为了探寻降低这类Cr-Mo钢第二类回火脆性倾向的有效方法,提高材料安全服役可靠性,从溶质元素偏聚机制出发,总结分析了合金元素晶界偏聚及改善钢第二类回火脆性的内在本质,重点归纳了几种常见元素的晶界偏聚行为及其对钢回火脆性的影响,同时还客观分析了理论计算和试验研究在阐释合金元素对晶界脆性影响存在差异的主要原因,期望能为中温用钢长期服役过程中存在的回火脆性提供一些有效控制方法,也为合金元素晶界偏聚行为的研究提供一些参考。 展开更多
关键词 第二类回火脆性 晶界偏聚 CR-MO钢 合金元素 俄歇电子谱仪(aes)
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CO处理对铀在40℃和70℃潮湿空气中抗蚀性能的影响 被引量:3
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作者 杨江荣 邹觉生 +1 位作者 蒋春丽 肖红 《核化学与放射化学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第1期34-37,共4页
采用增重法研究了金属铀表面经CO处理后在 4 0℃和 70℃潮湿空气中的抗蚀能力。研究结果表明 ,在70℃潮湿空气中 ,其抗蚀能力增加不明显 ;而在 4 0℃环境中 ,金属铀表面的抗蚀能力得到明显提高 ,且在实验范围内其抗蚀能力随CO剂量的增... 采用增重法研究了金属铀表面经CO处理后在 4 0℃和 70℃潮湿空气中的抗蚀能力。研究结果表明 ,在70℃潮湿空气中 ,其抗蚀能力增加不明显 ;而在 4 0℃环境中 ,金属铀表面的抗蚀能力得到明显提高 ,且在实验范围内其抗蚀能力随CO剂量的增加而增强。用俄歇电子谱 (AES)分析了铀试样处理前后表层的成分变化。分析结果表明 ,铀表面经CO处理后 ,其表层形成了一定厚度的富碳层 ,并显示该富碳层对提高铀表面抗蚀能力起着重要作用。 展开更多
关键词 金属铀 CO 氧化 俄歇电子能谱 一氧化碳 表面处理 潮湿空气 抗蚀性能
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X光电子能谱研究氧离子束辅助PLD共淀积ZnO薄膜 被引量:3
5
作者 吴正龙 李庚伟 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期373-376,372,共5页
在ZnO的XPS分析中,ZnLMM俄歇峰能很好地指认氧化锌淀积膜中Zn的价态,结合O1s光电子峰的分析,可表征ZnO中缺氧程度。通过XPS的对比实验,表明采用氧(O)离子辅助PLD共淀积ZnO薄膜,能明显改善淀积ZnO膜的缺氧问题,降低薄膜层中的孔隙率,提... 在ZnO的XPS分析中,ZnLMM俄歇峰能很好地指认氧化锌淀积膜中Zn的价态,结合O1s光电子峰的分析,可表征ZnO中缺氧程度。通过XPS的对比实验,表明采用氧(O)离子辅助PLD共淀积ZnO薄膜,能明显改善淀积ZnO膜的缺氧问题,降低薄膜层中的孔隙率,提高淀积ZnO薄膜质量。XPS深度剖析结果还表明采用O离子辅助PLD共淀积后膜层中Zn的氧化组分和孔隙率随深度变化平缓。 展开更多
关键词 X光电子能谱 俄歇电子能谱 氧化锌 氧离子束辅助PLD共淀积
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金属铀初始氧化过程研究 被引量:2
6
作者 陆雷 白彬 +2 位作者 邹觉生 唐世红 肖红 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期16-18,共3页
利用俄歇电子能谱(AES)和电子能量损失谱(EELS)研究了高真空室中不同温度下金属铀与氧的初始氧化过程,并分析了环境温度以及表面与界面的化学组成等因素对金属铀表面氧化过程的影响。用Ar+溅射可以获得铀的清洁表面,在高真空(小于10-7Pa... 利用俄歇电子能谱(AES)和电子能量损失谱(EELS)研究了高真空室中不同温度下金属铀与氧的初始氧化过程,并分析了环境温度以及表面与界面的化学组成等因素对金属铀表面氧化过程的影响。用Ar+溅射可以获得铀的清洁表面,在高真空(小于10-7Pa)室中,温度为673K时,表面氧化结构发生了明显变化,氧化层表面主要由铀碳化合物、金属态铀和少量UO2组成。 展开更多
关键词 初始氧化 高温 俄歇电子能谱
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Adsorption of Gold on Iridium
7
作者 Khalil Ismaiel Hashim 《Journal of Applied Mathematics and Physics》 2018年第6期1324-1331,共8页
The work described in this paper is a study of gold adsorption on the whole tip surface of iridium field emitter. The study has been carried out using field emission microscope. Changes in electron work function of th... The work described in this paper is a study of gold adsorption on the whole tip surface of iridium field emitter. The study has been carried out using field emission microscope. Changes in electron work function of the iridium substrate which are produced by vapor of deposition of submonolayers of gold in ultra high vacuum have been measured by noting the changes in the slope of Fowler-Nordheim plots. The same procedure for studying the adsorption of copper on iridium?[1] was followed to study the adsorption of gold on iridium. Adsorption of gold was examined on the iridium surface containing the (100) ring which could not be removed thermally. 展开更多
关键词 FIELD EMISSION Microscope electron Work Function Fowler-Nordheim Plots COADSORPTION Pulsed TEMPERATURE-FIELD (T-F) EMISSION MICROSCOPY Low Energy electron Diffraction (LEED) auger electron spectroscopy (aes) FIELD Ion MICROSCOPY (FIM)
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Surface Analysis of ZIRLO Alloy Implanted with Carbon
8
作者 彭德全 白新德 +2 位作者 潘峰 孙辉 陈宝山 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第S1期373-377,共5页
ZIRLO alloy specimens were implanted with carbon ions with fluence range from 1×10 16 to 1×10 18ions·cm -2, using a MEVVA source at an extraction voltage of 40 kV at maximum temperature of 380 ℃. The s... ZIRLO alloy specimens were implanted with carbon ions with fluence range from 1×10 16 to 1×10 18ions·cm -2, using a MEVVA source at an extraction voltage of 40 kV at maximum temperature of 380 ℃. The surfaces of the implanted samples were then analyzed and the TRIM 96 computer code was used to simulate the depth distribution of carbon. The valences of elements in the implanted surface of ZIRLO alloy were analyzed by X-ray photoemission spectroscopy (XPS); and then the depth distributions of the elements on the surface of the samples were obtained by Auger electron spectroscopy (AES). Scanning electron microscopy (SEM) was used to examine the micro-morphology of implanted samples. Glancing angle X-ray diffraction (GAXRD) at 0.30 incident angles was employed to examine the phase transformations of implanted samples. It shows that the as-received ZIRLO alloy is mainly composed of hexagonal alpha zirconium, as for implanted samples, there appeared hexagonal zirconia (H-ZrO_ 0.35) and sigma zirconium carbide (δ-Zr_3C_2), and the δ-Zr_3C_2 increased when increasing the fluence. When the fluence reached 1×10 18 ions·cm -2, the concentration of δ-Zr_3C_2 is the maximum in all the samples. The micro-morphology of implanted samples are similar, there are many pits with diameters ranging from 1 to 3 μm on the implanted surfaces. 展开更多
关键词 ZIRLO alloy carbon ion implantation X-ray photoemission spectroscopy (XPS) auger electron spectroscopy (aes) glancing angle X-ray diffraction (GAXRD)
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Influence of Aluminum Ions Implantation on Corrosion Behavior of Zircaloy-2 Alloy in 1 M H_2SO_4
9
作者 彭德全 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2007年第3期394-399,共6页
The specimens were implanted with aluminum ions with fluence ranging from 1× 10^16 to 1× 10^17 ions/cm^2 to study the effect of aluminum ion implantation on the aqueous corrosion behavior of zircaloy-2 by me... The specimens were implanted with aluminum ions with fluence ranging from 1× 10^16 to 1× 10^17 ions/cm^2 to study the effect of aluminum ion implantation on the aqueous corrosion behavior of zircaloy-2 by metal vapor vacuum arc source (MEVVA) at an extraction voltage of 40 kV. The valence states and depth distributions of elements in the surface layer of the samples were analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Auger electron spectroscopy (AES), respectively. Transmission electron microscopy (TEM) was used to examine the microstructure of the aluminum-implanted samples. Glancing angle X-ray diffraction (GAXRD) was employed to examine the phase transformation due to the aluminum ion implantation. The potentiodynamic polarization technique was employed to evaluate the aqueous corrosion resistance of implanted zircaloy-2 in a 1 M H2SO4 solution. It is found that a significant improvement was achieved in the aqueous corrosion resistance of zircaloy-2 implanted with aluminum ions. Finally, the mechanism of the corrosion behavior of aluminum- implanted zircaloy-2 was discussed. 展开更多
关键词 zircaloy-2 corrosion resistance aluminum ion implantation X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) auger electron spectroscopy aes
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Effect of copper ions implantation on the corrosion behavior of ZIRLO alloy in 1 mol/L H_2SO_4
10
作者 Dequan Peng Xinde Bai Baoshan Chen 《Journal of University of Science and Technology Beijing》 CSCD 2006年第2期158-163,共6页
In order to study the effect of copper ion implantation on the aqueous corrosion behavior of ZIRLO alloy, specimens were implanted with copper ions with fluences ranging from 1×10^16 to 1×10^ ions/cm^2, usin... In order to study the effect of copper ion implantation on the aqueous corrosion behavior of ZIRLO alloy, specimens were implanted with copper ions with fluences ranging from 1×10^16 to 1×10^ ions/cm^2, using a metal vapor vacuum arc source (MEVVA) at an extraction voltage of 40 kV, The valence states and depth distributions of elements in the surface layer of the samples were analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Auger electron spectroscopy (AES), respectively. Glancing angle X-ray diffraction (GAXRD) was employed to examine the phase transformation due to the copper ion implantation. The potcntiodynamic polarization technique was used to evaluate the aqueous corrosion resistance of implanted ZIRLO alloy in a 1 mol/L H2SO4 solution. It was found that a significant improvement was achieved in the aqueous corrosion resistance of ZIRLO alloy implanted with copper ions when the fluence is 5×10^16 ions/cm^2. When the fluence is 1×10^16 or 1×10^17 ions/cm^2, the corrosion resistance of implanted sanaples was bad. Finally, the mechanism of the corrosion behavior of copper-implanted ZIRLO alloy was discussed. 展开更多
关键词 ZIRLO alloy corrosion resistance copper ion implantation X-ray photoemission spectroscopy (XPS) auger electron spectroscopy aes
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铀铌合金真空热氧化膜的俄歇电子能谱研究 被引量:2
11
作者 陆雷 白彬 +3 位作者 邹觉生 杨江荣 肖红 蒋春丽 《核化学与放射化学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期220-224,共5页
用俄歇电子能谱(AES)研究了高真空下,环境温度对铀铌合金真空氧化膜的影响。当温度高于603K时,氧化膜表面结构发生明显改变,表面主要由铀碳化合物、金属态的U和Nb组成。利用Ar+溅射铀铌合金真空热氧化膜进行深度分布分析,发现在热氧化... 用俄歇电子能谱(AES)研究了高真空下,环境温度对铀铌合金真空氧化膜的影响。当温度高于603K时,氧化膜表面结构发生明显改变,表面主要由铀碳化合物、金属态的U和Nb组成。利用Ar+溅射铀铌合金真空热氧化膜进行深度分布分析,发现在热氧化膜的表面氧含量很小,而在热氧化膜的内部有氧增多的现象。 展开更多
关键词 铀铌合金氧化膜 真空热处理 俄歇电子能谱 表面结构
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离子注入碳对铀表面初始氧化行为影响的研究 被引量:2
12
作者 王茜 蒙大桥 +2 位作者 刘柯钊 肖红 张厚亮 《核动力工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期66-69,95,共5页
用俄歇电子能谱(AES)分别对高真空室中铀样品及多能量叠加离子注入碳铀样品与氧气吸附及初始氧化过程进行了研究。结果表明,在高真空室中,清洁铀表面很容易吸附氧化,发生氧化反应,当O2暴露剂量为40 L时,清洁铀表面就会形成一层UO2;离子... 用俄歇电子能谱(AES)分别对高真空室中铀样品及多能量叠加离子注入碳铀样品与氧气吸附及初始氧化过程进行了研究。结果表明,在高真空室中,清洁铀表面很容易吸附氧化,发生氧化反应,当O2暴露剂量为40 L时,清洁铀表面就会形成一层UO2;离子注入碳后铀表面的抗氧化能力增强。 展开更多
关键词 离子注入 铀表面 初始氧化 俄歇电子能谱
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AlSb薄膜的潮解机制研究
13
作者 常璐 王朋伟 +2 位作者 刘竞艳 苗壮 田弋纬 《西安文理学院学报(自然科学版)》 2022年第2期100-103,共4页
锑化铝(AlSb)薄膜具有优良的光电特性,但因其极易潮解从而极大地限制了AlSb薄膜的应用.采用共溅射的方法制备AlSb薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及俄歇电子能谱(AES)等表征了其镜头结构、形貌及成份等性质特征,并分析... 锑化铝(AlSb)薄膜具有优良的光电特性,但因其极易潮解从而极大地限制了AlSb薄膜的应用.采用共溅射的方法制备AlSb薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及俄歇电子能谱(AES)等表征了其镜头结构、形貌及成份等性质特征,并分析了其在空气中的潮解机制.实验表明AlSb薄膜在空气中潮解后在其表面存在有Al(OH)_(3),这说明AlSb与空气中水发生反应,并生成了Al(OH)_(3)和SbH_(3).通过研究AlSb薄膜潮解机制可以选择合适的方式对其潮解过程进行延缓甚至抑制. 展开更多
关键词 ALSB 潮解 aes XRD SEM
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渐进因子分析法及其在Au/Ni/Si薄膜俄歇深度剖面研究中的应用 被引量:1
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作者 谢舒平 杨得全 范垂祯 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1997年第1期26-33,共8页
将渐进因子分析法应用于俄歇深度剖面的化学态研究。通过对Au/Ni/Si薄膜样品深度剖析过程的渐进因子分析,最终获得了各元素的化学状态和深度分布,并发现Au/Ni/Si样品中Ni/Si界面在室温下已发生反应,生成富Si的NixSi化合物层。... 将渐进因子分析法应用于俄歇深度剖面的化学态研究。通过对Au/Ni/Si薄膜样品深度剖析过程的渐进因子分析,最终获得了各元素的化学状态和深度分布,并发现Au/Ni/Si样品中Ni/Si界面在室温下已发生反应,生成富Si的NixSi化合物层。样品经真空退火处理后,Ni/Si界面进一步反应生成Ni2Si合金,而原有的NixSi化合物含量相对减少,并向Si基体侧扩展,同时Ni穿透Au膜在样品表面富集。渐进因子分析的结果与XPS分析相一致。 展开更多
关键词 俄歇电子能谱 深度剖面 铜/铌/硅 薄膜
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一种利用夹层Ta难熔金属提高NiSi薄膜热稳定性的新方法 被引量:1
15
作者 黄伟 张树丹 许居衍 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期2502-2506,共5页
本文首次给出了一种具有规律性的能用来提高镍硅化物热稳定性的方法.依据此方法,首次摸索出在Ni中掺入夹层金属Ta来提高NiSi硅化物的热稳定性.Ni/Ta/Ni/Si样品经600~800℃快速热退火后,薄层电阻率保持较小值,约2Ω/□.XRD衍射分析结果表... 本文首次给出了一种具有规律性的能用来提高镍硅化物热稳定性的方法.依据此方法,首次摸索出在Ni中掺入夹层金属Ta来提高NiSi硅化物的热稳定性.Ni/Ta/Ni/Si样品经600~800℃快速热退火后,薄层电阻率保持较小值,约2Ω/□.XRD衍射分析结果表明,在600~800℃快速热退火温度下形成的Ni(Ta)Si薄膜中只存在低阻NiSi相,而没有高阻NiSi2相生成,从而将NiSi薄膜的低阻温度窗口的上限从700℃提高到800℃,使形成高阻NiSi2相的最低温度提高到850℃.AES俄歇能谱,RBS卢瑟福背散射和AFM原子力显微镜分析表明,夹层金属层Ta在镍硅化反应中向表面移动,其峰值距离薄膜顶层2nm左右,在阻止氧原子参与镍硅化反应中起到很好的屏蔽层作用.Ni(Ta)Si薄膜中Ta与Ni的原子比约为2.1∶98,硅化物薄膜界面平整,均方根粗糙度仅为1.11nm.研制的高压Ni(Ta)Si/Si肖特基硅器件在650~800℃温度跨度范围内保留了与NiSi/Si肖特基相近的整流特性,因此Ni(Ta)Si硅化物在深亚微米集成电路制造中是一种令人满意的互连和接触材料. 展开更多
关键词 镍硅化物 快速热退火 X射线衍射分析 俄歇能谱分析 卢瑟福背散射 原子力显微镜
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XPS和AES研究黄铜表面PMTA防变色膜(英文)
16
作者 方景礼 叶向荣 +1 位作者 方晶 陈玉銮 《南京大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1992年第4期569-576,共8页
通过比较各种黄铜的防变色剂,发现1-苯基-5-巯基四氮唑(PMTA)的防变色效果优于苯骈三氮唑、羟基苯骈三氮唑。2-巯基苯骈咪唑、2-巯基苯骈噻唑和铬酸。用PMTA处理黄铜的最佳条件为PMTA1.2g/L,30~40℃,4-5min.XPS和AES分析表明,PMTA是在C... 通过比较各种黄铜的防变色剂,发现1-苯基-5-巯基四氮唑(PMTA)的防变色效果优于苯骈三氮唑、羟基苯骈三氮唑。2-巯基苯骈咪唑、2-巯基苯骈噻唑和铬酸。用PMTA处理黄铜的最佳条件为PMTA1.2g/L,30~40℃,4-5min.XPS和AES分析表明,PMTA是在Cu_2O和ZnO-Zn上形成配合物膜,PMTA分子中的N和S均参与配位.从膜的AES元素深度分布曲线的恒定组成区求得表面配合物膜的组成(A.C%)为:C47%;Cu20%;N12.5%;S10%;Zn6.5%;O4.0%。 展开更多
关键词 防变色膜 aes XPS 黄铜 表面 PMTA
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Si基Er_2O_3薄膜初始生长的原位RHEED和AES研究
17
作者 苑军军 仇庆林 朱燕艳 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2015年第2期98-102,共5页
采用分子束外延(MBE)法在Si(001)衬底上生长Er2O3高k薄膜材料。X射线衍射结果表明,用这一方法得到的硅基Er2O3薄膜是(440)取向的单晶,电学测试预示在Si和Er2O3薄膜的界面有一层很薄的界面层。为了研究Si/Er2O3异质结的界面,通过原位反... 采用分子束外延(MBE)法在Si(001)衬底上生长Er2O3高k薄膜材料。X射线衍射结果表明,用这一方法得到的硅基Er2O3薄膜是(440)取向的单晶,电学测试预示在Si和Er2O3薄膜的界面有一层很薄的界面层。为了研究Si/Er2O3异质结的界面,通过原位反射式高能电子衍射(RHEED)和俄歇能谱(AES)的方法对Er2O3薄膜在Si衬底上的初始生长情况进行研究。发现在清洁的Si衬底和有SiO2的Si衬底上生长Er2O3薄膜,原位RHEED图谱和AES都有不同的结果,预示着这两种不同的衬底上生长Er2O3薄膜的初始阶段有不同的化学反应。这一现象可能阐释了界面的演变和控制机理。 展开更多
关键词 Er2O3 高K材料 界面演变 反射式高能电子衍射(RHEED) 俄歇能谱(aes)
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用超高真空扫描隧道显微镜UHV—STM研究多晶铌和单晶铌的表面结构
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作者 李艳宁 安白 +3 位作者 福山诚司 横川清志 吉村雅满 胡小唐 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期429-433,共5页
作者使用超高真空扫描隧道显微镜UHV STM和表面成分分析仪器俄歇谱仪 (AugerElectronSpectroscopy(AES) )研究了多晶铌和Nb(0 0 1)。实验中采用净化样品的主要方法是离子轰击和高温加热。经过重结晶后 ,在多晶铌和Nb(0 0 1)表面形成了... 作者使用超高真空扫描隧道显微镜UHV STM和表面成分分析仪器俄歇谱仪 (AugerElectronSpectroscopy(AES) )研究了多晶铌和Nb(0 0 1)。实验中采用净化样品的主要方法是离子轰击和高温加热。经过重结晶后 ,在多晶铌和Nb(0 0 1)表面形成了特征性的表面超结构。在多晶铌表面 ,作者观测到了 (110 )和 (10 0 )面 ,在 (10 0 )面上形成的是 (n× 1)超结构 ,而在 (110 )面上形成的是 0 2 8nm× 0 4 0nm的周期性超结构。在Nb(0 0 1)表面作者观测到C(2× 2 )的典型结构。AES实验表明 ,不纯物“氧”仍然以氧化物的形式存在于单晶和多晶铌样品中。基于这些实验结果 ,结合铌的微观晶格结构 ,作者给出了所观测到的超结构的合理的解释 。 展开更多
关键词 多晶铌 单晶铌 扫描隧道显微镜 STM 俄歇谱仪 aes 超高真空 UHV Nb 表面超结构
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等离子体浸没离子注入对金属表面的改性
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作者 施芸城 陈英方 +2 位作者 谢涵坤 吴知非 蒋向荣 《纺织高校基础科学学报》 CAS 1996年第3期211-217,共7页
报道用自制等离子体浸没离子注入设备进行三种不同处理以改善金属表面性质的研究:氮离子注入、钛的离子束增强沉积(IBED)和氮及钛离子混合(IBM)注入.俄歇浓度分布表明氮离子在金属表面层的注入是非常光滑的.X-光电子能... 报道用自制等离子体浸没离子注入设备进行三种不同处理以改善金属表面性质的研究:氮离子注入、钛的离子束增强沉积(IBED)和氮及钛离子混合(IBM)注入.俄歇浓度分布表明氮离子在金属表面层的注入是非常光滑的.X-光电子能谱指出IBED和IBM处理后样品表面有TiN薄层形成.实验显示所有处理后金属的表面硬度和抗磨损性能都大为改善. 展开更多
关键词 等离子体 浸没 离子注入 金属 表面改性
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Ti/ZrN_2/Si薄膜界面扩散反应的研究
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作者 王莉 殷木省 朱永法 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第7期641-646,共6页
利用直流磁控反应溅射法在Si基底上制备了Ti/ZrN_2/Si多层薄膜,利用俄歇深度剖析和线形分析研究了真空热处理前后膜层间的界面状态及相互作用.研究结果表明,Ti膜和ZrN2膜均在沉积过程中发生了界面扩散作用,真空热处理可以显著地增强Ti/Z... 利用直流磁控反应溅射法在Si基底上制备了Ti/ZrN_2/Si多层薄膜,利用俄歇深度剖析和线形分析研究了真空热处理前后膜层间的界面状态及相互作用.研究结果表明,Ti膜和ZrN2膜均在沉积过程中发生了界面扩散作用,真空热处理可以显著地增强Ti/ZrN2/Si膜层间的界面扩散和化学反应,并分别在界面层生成了TiNx和SiNx等物种. 展开更多
关键词 Ti/ZrN2/Si薄膜 界面扩散反应 俄歇电子能诺 氮化锆薄膜 化学沉积
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