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添加剂竞争吸附机理研究及通孔电镀应用 被引量：3
1
作者 向静 阮海波 +5 位作者 王翀 陈苑明 何为 杨文耀 石东平 赵勇 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2022年第11期85-90,共6页
本文研究了电镀添加剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)、3-巯基-1-丙烷磺酸钠(MPS)和整平剂(L)对通孔电镀的均镀能力(TP)影响。借助多物理场耦合方法,计算出不同厚径比通孔内外的流场和电场分布,结合电化学测试手段和通孔电镀实验,研究不同厚... 本文研究了电镀添加剂聚二硫二丙烷磺酸钠(SPS)、3-巯基-1-丙烷磺酸钠(MPS)和整平剂(L)对通孔电镀的均镀能力(TP)影响。借助多物理场耦合方法,计算出不同厚径比通孔内外的流场和电场分布,结合电化学测试手段和通孔电镀实验,研究不同厚径比通孔电镀TP与电镀添加剂体系的相对关系。结果表明,厚径比越大,孔内外的对流差距越大;对于低厚径比(1∶5)通孔,MPS得到的TP最大(2.85);对于高厚径比(6∶1)通孔,整平剂得到的TP最大(0.9)。 展开更多
关键词 电镀铜 通孔厚径比 均镀能力 添加剂 多物理场耦合
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高深径比通孔脉冲电镀添加剂及电镀参数的优化
2
作者 杨凯 陈际达 +4 位作者 陈世金 许伟廉 郭茂桂 廖金超 吴熷坤 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期110-118,共9页
本文采用毒性小,价格低廉的2,2′-二硫代二吡啶(2,2′-Dithiodipyridine,DTDP)作为通孔电镀铜添加剂,对添加剂体系的浓度及脉冲电镀参数进行了优化。首先,对DTDP能否在高深径比通孔脉冲电镀过程中起到整平作用进行探究,并对包含其在内... 本文采用毒性小,价格低廉的2,2′-二硫代二吡啶(2,2′-Dithiodipyridine,DTDP)作为通孔电镀铜添加剂,对添加剂体系的浓度及脉冲电镀参数进行了优化。首先,对DTDP能否在高深径比通孔脉冲电镀过程中起到整平作用进行探究,并对包含其在内的四种添加剂的浓度进行正交优化,得到了当电镀效果较好时的最优添加剂浓度,但是该条件电镀后的通孔呈“狗骨状”。其次再利用正交优化后的电镀液,采用单因素分析法对脉冲电镀参数进行优化,得出此时较优的脉冲电镀参数,并消除上述通孔“狗骨”现象。在电镀试验后,通过采用扫描电子显微镜(SEM)和浸锡热应力实验对电镀后的实验板进行性能测试。 展开更多
关键词 电镀添加剂 脉冲电镀 高深径比通孔 正交设计试验 深镀能力
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