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SiO_2/TiO_2减反膜系的制备和性能测试 被引量：4
1
作者 王曦雯 何晓雄 胡佳宝 《合肥工业大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2012年第4期496-498,551,共4页
由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大,文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料,采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系,研究了制备工艺对薄膜性能的影响,从理论和实验2个方面得出了制备的多层减反射膜系在450～625nm... 由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大,文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料,采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系,研究了制备工艺对薄膜性能的影响,从理论和实验2个方面得出了制备的多层减反射膜系在450～625nm波段具有明显的增透效果,在520nm处有98%的透过率。 展开更多
关键词 减反射薄膜 磁控溅射 制备工艺 薄膜性能
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