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基于多功率源梯度过渡层的Si-DLC的制备及水润滑性能研究 被引量:5
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作者 吴行阳 邓兆星 +2 位作者 黄一鸣 华子恺 张建华 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期684-688,共5页
采用溅射、反应溅射与RF-CVD技术相结合的多功率源沉积了梯度过渡层,在此基础上用RF-CVD法沉积了掺硅类金刚石膜,研究了梯度过渡层对薄膜结构、力学性能及水中摩擦学性能的影响.结果表明:梯度过渡层的引入可在一定程度上提高薄膜的sp3... 采用溅射、反应溅射与RF-CVD技术相结合的多功率源沉积了梯度过渡层,在此基础上用RF-CVD法沉积了掺硅类金刚石膜,研究了梯度过渡层对薄膜结构、力学性能及水中摩擦学性能的影响.结果表明:梯度过渡层的引入可在一定程度上提高薄膜的sp3成分含量、硬度和杨氏模量,对增强膜基结合力,提高薄膜在水中的抗剥落性能有较显著的效果. 展开更多
关键词 梯度过渡层 多功率源 非晶碳基薄膜 水润滑 摩擦磨损
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基体表面粗糙度对非晶碳薄膜摩擦磨损性能的影响
2
作者 李一治 刘京周 +3 位作者 丁子珊 江小辉 郭维诚 鞠鹏飞 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第6期68-73,80,共7页
为了探究不同基体表面粗糙度对非晶碳薄膜摩擦磨损性能的影响,改善2Cr13试样表面在601EF润滑脂润滑下的摩擦学性能,使用机加工、抛光等方式在2Cr13试样表面制备不同的表面粗糙度,然后采用磁控溅射法在不同粗糙度样件表面制备非晶碳薄膜... 为了探究不同基体表面粗糙度对非晶碳薄膜摩擦磨损性能的影响,改善2Cr13试样表面在601EF润滑脂润滑下的摩擦学性能,使用机加工、抛光等方式在2Cr13试样表面制备不同的表面粗糙度,然后采用磁控溅射法在不同粗糙度样件表面制备非晶碳薄膜,采用球-盘接触的摩擦磨损试验研究了在601EF润滑脂润滑条件下非晶碳薄膜及氮化硅球的摩擦磨损性能,通过光学显微镜对磨损处进行分析。结果表明:与基体表面对摩的Si_(3)N_(4)球均磨出了明显的平台,而基体表面并未出现明显的磨痕,Ra范围在0.20~0.75μm样品对偶球的磨损量要小,磨斑面积范围为0.152~0.165 mm^(2),磨损形式为黏着磨损,Ra范围在0.95~3.19μm样品对偶球的磨损量要大,磨斑面积范围为0.228~0.275 mm^(2),出现了犁沟状磨痕,磨损较为严重;在相同的工况条件下,随着基体表面粗糙度的增大,两摩擦副间的启动、平均摩擦系数以及Si_3N_4球的磨损量均呈先减小后增大再减小的趋势,当Ra为0.56μm时,非晶碳薄膜的摩擦学性能最好,摩擦系数曲线较为稳定,平均摩擦系数为0.162,其对偶球磨损量最小,为0.152 mm^(2)。基体表面粗糙度影响非晶碳薄膜的摩擦学性能,通过机加工、抛光等手段在基体表面制备合适的粗糙度可以得到具有良好减摩性能的表面。 展开更多
关键词 基体表面粗糙度 非晶碳薄膜 摩擦磨损 601EF润滑脂 Si_3N_4球
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氟化非晶碳基薄膜摩擦学行为对配副材料的依赖性 被引量:4
3
作者 王福 鲁志斌 +2 位作者 张广安 王立平 薛群基 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期357-363,共7页
为了系统研究氟掺杂对非晶碳基薄膜摩擦学行为的影响,以C_2H_2和CF_4为气源,通过等离子体增强化学气相沉积方法制备不同F含量的非晶碳基薄膜.采用XPS、SEM、Raman光谱以及纳米压痕等技术测定薄膜的微观结构、化学组成和力学性能,利用球... 为了系统研究氟掺杂对非晶碳基薄膜摩擦学行为的影响,以C_2H_2和CF_4为气源,通过等离子体增强化学气相沉积方法制备不同F含量的非晶碳基薄膜.采用XPS、SEM、Raman光谱以及纳米压痕等技术测定薄膜的微观结构、化学组成和力学性能,利用球-盘式往复摩擦试验机评价薄膜与不同配副材料的摩擦磨损性能.结果显示:较低F含量并未显著影响薄膜与强碳黏着对偶Ti、WC和Si_3N_4的摩擦系数;少量F原子掺杂明显增加了薄膜与弱碳黏着对偶ZrO_2和Al_2O_3的摩擦系数;薄膜与GCr15对偶的摩擦系数随F含量增加而明显升高;高F含量导致薄膜与Cu对偶的摩擦系数产生明显波动,而导致薄膜与Al对偶的摩擦系数显著增加;值得注意的是,高F含量薄膜在不同体系中都表现出高摩擦低磨损的特点.高活性F原子与对偶材料的摩擦化学作用能够合理解释不同体系摩擦学行为. 展开更多
关键词 非晶碳基薄膜 摩擦 磨损 摩擦化学
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Structural and mechanical properties of amorphous carbon films deposited by the dual plasma technique
4
作者 Yaohui Wang,Xu Zhang,Xianying Wu,Huixing Zhang,and Xiaoji Zhang Key Laboratory of the Ministry of Education of China for Beam Technology and Material Modification,Institution of Low Energy Nuclear Physics,Beijing Normal University Beijing Radiation Center,Beijing 100875,China 《Journal of University of Science and Technology Beijing》 CSCD 2008年第5期622-626,共5页
Direct current metal filtered cathodic vacuum arc (FCVA) and acetylene gas (C2H2) were wielded to synthesize Ti-containing amorphous carbon films on Si (100). The influence of substrate bias voltage and acetylen... Direct current metal filtered cathodic vacuum arc (FCVA) and acetylene gas (C2H2) were wielded to synthesize Ti-containing amorphous carbon films on Si (100). The influence of substrate bias voltage and acetylene gas on the microstructure and mechanical properties of the films were investigated. The results show that the phase of TiC in the (111) preferential crystallographic orientation exists in the film,and the main existing pattern of carbon is sp2. With increasing the acetylene flow rate,the contents of Ti and TiC phase of the film gradually reduce; however,the thickness of the film increases. When the substrate bias voltage reaches -600 V,the internal stress of the film reaches 1.6 GPa. The micro-hardness and elastic modulus of the film can reach 33.9 and 237.6 GPa,respectively,and the friction coefficient of the film is 0.25. 展开更多
关键词 metal containing amorphous carbon amorphous carbon films filtered arc ACETYLENE flow rate bias voltage structure and properties
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TiC/a-C:H薄膜的性能研究 被引量:3
5
作者 余宇楠 宋贵宏 沈波涛 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第3期384-388,共5页
在电弧离子镀技术沉积富碳TiC薄膜的过程中研究了不同乙炔流量对沉积膜的形貌、成分性能的影响。结果表明,利用电弧离子镀技术在铝合金衬底上能够成功的沉积出含有富碳的TiC膜层,并且沉积的薄膜与衬底的结合良好。实验表明,随沉积时乙... 在电弧离子镀技术沉积富碳TiC薄膜的过程中研究了不同乙炔流量对沉积膜的形貌、成分性能的影响。结果表明,利用电弧离子镀技术在铝合金衬底上能够成功的沉积出含有富碳的TiC膜层,并且沉积的薄膜与衬底的结合良好。实验表明,随沉积时乙炔流量的增大,膜层中C和Ti原子比逐渐增加,同时膜层成分由较纯的TiC结构的薄膜逐渐转变为含非晶碳的TiC膜层,在乙炔流量为50,100,150和200ml.min-1时,膜层的C和Ti的原子分数比分别为1∶1,9.5∶1.0,15∶1和19.4∶1.0。膜层中富余的碳是以非晶碳的形式存在的,TiC与非晶碳以一定量的配比使这层复合膜达到了较好的表面光洁度。 展开更多
关键词 电弧离子镀 TiC薄膜 非晶碳薄膜
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钢基表面磁控溅射法3C-SiC薄膜制备研究 被引量:2
6
作者 邵红红 高建昌 +1 位作者 华戟云 李宁 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1625-1627,共3页
采用磁控溅射的方法溅射SiC靶材所制备的碳化硅薄膜由于制备过程中碳易被溅射气体带走而很难形成结构较好的晶态结构。采用纯物理方法实时增碳又非常困难,实验采用先对衬底升温射频磁控溅射沉积碳化硅,然后再用直流法在表面沉积碳——... 采用磁控溅射的方法溅射SiC靶材所制备的碳化硅薄膜由于制备过程中碳易被溅射气体带走而很难形成结构较好的晶态结构。采用纯物理方法实时增碳又非常困难,实验采用先对衬底升温射频磁控溅射沉积碳化硅,然后再用直流法在表面沉积碳——两步法在钢基体表面制备薄膜。对所制备的薄膜结构采用X射线衍射和傅立叶红外吸收光谱表征;并通过扫描电镜观察了薄膜的表面形貌。结果表明,通过这种方法所得出的薄膜在XRD图像中显示了很明显的3C-SiC的晶态峰,在红外分析中也得到了其相应的吸收峰。 展开更多
关键词 SIC薄膜 非晶碳膜 磁控溅射 X射线衍射 傅立叶红外吸收光谱
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致密非晶碳氢薄膜的结构 被引量:1
7
作者 刘东平 俞世吉 马腾才 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期553-557,共5页
利用完全抑制网络结构(FCN)模拟计算氢化非晶碳(a-C:H)膜的组成.形成致密 a-C:H膜的条件是 H、sp2C和sp3C应在其三元相图中的一个三角形区域内.实验数据表明,模拟结果与实验结果吻合得很好.在 a-C:... 利用完全抑制网络结构(FCN)模拟计算氢化非晶碳(a-C:H)膜的组成.形成致密 a-C:H膜的条件是 H、sp2C和sp3C应在其三元相图中的一个三角形区域内.实验数据表明,模拟结果与实验结果吻合得很好.在 a-C:H中存在氢、四面体碳、乙烯、苯环和双苯等结构,它们的相对含量在三角形区域内变化。该理论模拟对薄膜光学间隙的实验分析给出了很好的解释. 展开更多
关键词 致密非晶碳氢薄膜 结构 FCN理论
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采用双等离子体制备非晶态碳膜的研究 被引量:1
8
作者 王耀辉 张旭 +3 位作者 吴先映 徐元直 张荟星 张孝吉 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期154-157,共4页
采用直流金属磁过滤阴极真空弧(FCVA)制造出Ti和乙炔(C2H2)气体的双等离子体在单晶硅(100)上制备非晶态碳膜.重点研究了乙炔气体和过滤线圈电流对非晶态碳膜的结构、形貌和机械性能的影响.研究结果表明,薄膜中主要成分是TiC,... 采用直流金属磁过滤阴极真空弧(FCVA)制造出Ti和乙炔(C2H2)气体的双等离子体在单晶硅(100)上制备非晶态碳膜.重点研究了乙炔气体和过滤线圈电流对非晶态碳膜的结构、形貌和机械性能的影响.研究结果表明,薄膜中主要成分是TiC,并以(111)作为主晶向;随着过滤线圈电流的增大,薄膜的晶粒度越来越小;薄膜表面的粗糙度逐渐减小,变得更加平整;薄膜的应力减小,可以下降到2.5GPa.薄膜的显微硬度和弹性模量随着C2H2体积流qy(C2H2)的增大而降低,硬度和弹性模量分别可以达到33.9GPa和237.6GPa.非晶态碳膜的摩擦因数在0.1~0.25之间,大大低于衬底材料单晶硅片的摩擦因数0.6.随着过滤线圈电流增大,摩擦因数减小. 展开更多
关键词 非晶态碳膜 磁过滤阴极真空弧 过滤线圈电流 乙炔的体积流量 结构和性能
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空气等离子预处理改善橡胶表面碳膜结合强度和耐磨性研究 被引量:1
9
作者 白常宁 强力 +2 位作者 唐宏亮 张斌 张俊彦 《真空与低温》 2019年第5期324-330,共7页
为增强橡胶在动密封环境服役的耐磨性,采用等离子体增强化学气相沉积技术在丁腈橡胶表面制备非晶碳膜。利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、显微共焦拉曼光谱仪、扫描电子显微镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、划痕测试仪、球盘摩... 为增强橡胶在动密封环境服役的耐磨性,采用等离子体增强化学气相沉积技术在丁腈橡胶表面制备非晶碳膜。利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、显微共焦拉曼光谱仪、扫描电子显微镜(SEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、划痕测试仪、球盘摩擦磨损试验机等表征空气等离子体预处理偏压对薄膜结构、膜基结合力和摩擦学性能的影响。结果表明:随空气等离子体预处理偏压升高,薄膜趋于石墨化。预处理偏压为-900V时,薄膜/橡胶呈现最优的膜基结合力(46N)和摩擦性能(平均摩擦系数0.24),比原始橡胶的摩擦系数降低了70%,摩擦曲线稳定、耐磨性较强。说明空气等离子体预处理能够提高膜基结合强度,有效增强橡胶的耐磨性。 展开更多
关键词 丁腈橡胶 空气等离子体预处理 非晶碳膜 膜基结合力 摩擦性能
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非晶碳涂层在不同环境下的摩擦磨损行为研究
10
作者 柳清亮 何嘉武 +1 位作者 张伟 汪勇 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2007年第5期32-36,共5页
采用多源磁控溅射物理气相沉积法在单晶硅表面制备梯度变化的非晶碳涂层(类金刚石薄膜),通过调整工艺参数获得厚度在1~2μm的非晶碳涂层;采用球-盘式摩擦磨损试验机探讨了非晶碳涂层在干燥空气、水润滑和油润滑环境下的摩擦磨损行为。... 采用多源磁控溅射物理气相沉积法在单晶硅表面制备梯度变化的非晶碳涂层(类金刚石薄膜),通过调整工艺参数获得厚度在1~2μm的非晶碳涂层;采用球-盘式摩擦磨损试验机探讨了非晶碳涂层在干燥空气、水润滑和油润滑环境下的摩擦磨损行为。结果表明:非晶碳涂层的摩擦因数基本保持在0.1左右,摩擦环境的变化对涂层的磨损率影响较大;非晶碳涂层在水润滑环境中的磨损率在10-7mm3/Nm数量级;在干燥空气摩擦环境中具有稳定的耐磨损性能,磨损率在10-9mm3/Nm数量级;特别在油润滑的环境下,非晶碳涂层的耐磨损性能更加优异。 展开更多
关键词 非晶碳涂层 梯度变化涂层 摩擦磨损性能
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制备温度对(a-C∶Fe)/Al_2O_3/Si结构光电转换效应影响的研究
11
作者 谭新玉 刘琴琴 +1 位作者 石玉洁 田兴瑞 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期382-386,共5页
采用脉冲激光沉积法在n-Si(100)衬底上制备氧化铝膜(Al2O3)和不同温度下的铁掺杂非晶碳薄膜(a-C∶Fe)。I-V特性曲线表明:制备的a-C∶Fe/Al2O3/Si异质结结构具有明显的整流特性和光伏效应,碳膜的制备温度对a-C∶Fe/Al2O3/Si结构电池光伏... 采用脉冲激光沉积法在n-Si(100)衬底上制备氧化铝膜(Al2O3)和不同温度下的铁掺杂非晶碳薄膜(a-C∶Fe)。I-V特性曲线表明:制备的a-C∶Fe/Al2O3/Si异质结结构具有明显的整流特性和光伏效应,碳膜的制备温度对a-C∶Fe/Al2O3/Si结构电池光伏性能有显著影响。合适的沉积温度能显著增大异质结的开路电压和短路电流,进而增大异质结的光电转换效率,在碳膜制备温度为350℃时,异质结获得最佳光电转换效率。当制备温度超过350℃时,电池的开路电压与短路电流大幅度减小。通过对a-C∶Fe膜的拉曼光谱分析显示,随着制备温度的升高,非晶碳膜的结构经历了从类金刚石向类石墨化的转变,从而对电池的光电转换特性造成显著影响。 展开更多
关键词 制备温度 光伏效应 非晶碳膜 异质结
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液相等离子沉积非晶态碳膜的试验研究
12
作者 陈祝平 杨光 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A10期4061-4063,共3页
应用简单的电镀槽,通过阴极/电解液界面前沿气泡鞘的形成而建立辉光放电,促成非晶态碳薄膜在电极表面的沉积。沉积物宏观上分布不均匀,在阴极浸入电解液的末端,由于电流的尖端效应,导致生成物为石墨。而远离末端为正常沉积区,表... 应用简单的电镀槽,通过阴极/电解液界面前沿气泡鞘的形成而建立辉光放电,促成非晶态碳薄膜在电极表面的沉积。沉积物宏观上分布不均匀,在阴极浸入电解液的末端,由于电流的尖端效应,导致生成物为石墨。而远离末端为正常沉积区,表面平整光滑,生成物为非。晶态碳膜。结论:液相等离子沉积行为可发生在辉光放电条件下的阴极过程,从而可应用于非晶态薄膜如非晶态碳的制备。 展开更多
关键词 等离子 液相 沉积 非晶态碳薄膜
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氩气流量对(a-C:Fe)/Al_2O_3/Si异质结太阳能电池光伏效应的影响研究
13
作者 向然 谭新玉 +1 位作者 姜礼华 肖业权 《三峡大学学报(自然科学版)》 CAS 2016年第2期83-87,共5页
采用射频磁控溅射法在n-Si(100)衬底上依次沉积氧化铝膜(Al2O3)和铁掺杂非晶碳薄膜(aC:Fe),制成(a-C:Fe)/Al2O3/Si异质结太阳能电池,研究了氩气流量对光伏性能的影响.在20sccm到40sccm范围内调节氩气流量,结果表明,氩气流量的大小对异... 采用射频磁控溅射法在n-Si(100)衬底上依次沉积氧化铝膜(Al2O3)和铁掺杂非晶碳薄膜(aC:Fe),制成(a-C:Fe)/Al2O3/Si异质结太阳能电池,研究了氩气流量对光伏性能的影响.在20sccm到40sccm范围内调节氩气流量,结果表明,氩气流量的大小对异质结太阳能电池的光伏性能有显著的影响,合适的氩气流量能显著增大(a-C:Fe)/Al2O3/Si异质结太阳能电池的开路电压和短路电流密度,进而增大异质结太阳能电池的光电转换效率.在氩气流量为30sccm时,异质结太阳能电池光电转化效果达到最佳.随后随着氩气流量的增大,电池的开路电压与短路电流密度均大幅度减小.铁掺杂非晶碳膜(a-C:Fe)的拉曼光谱与光学带隙的分析表明,光伏效应随氩气流量变化敏感的原因源于:随着通入氩气流量的改变,铁掺杂非晶碳膜(a-C:Fe)的微观结构、光学性能发生较大的变化,进而对电池的光电转换特性造成了显著影响. 展开更多
关键词 氩气流量 非晶碳薄膜 光伏效应 异质结 磁控溅射
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电子回旋共振等离子体增强沉积氟化非晶碳薄膜的光学性质 被引量:8
14
作者 叶超 宁兆元 程珊华 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第10期2017-2022,共6页
用紫外 可见光透射光谱 (UV VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱 (XPS)和红外谱 (FTIR)分析 ,研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备的氟化非晶碳薄膜的光吸收和光学带隙性质 .在微波功率为 14 0—70 0W、源气体CHF3∶C6 ... 用紫外 可见光透射光谱 (UV VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱 (XPS)和红外谱 (FTIR)分析 ,研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备的氟化非晶碳薄膜的光吸收和光学带隙性质 .在微波功率为 14 0—70 0W、源气体CHF3∶C6 H6 比例为 1∶1— 10∶1条件下沉积的薄膜 ,光学带隙在 1.76— 2 .85eV之间 .薄膜中氟的引入对吸收边和光学带隙产生较大的影响 ,吸收边随氟含量的提高而增大 ,光学带隙则主要取决于CF键的含量 。 展开更多
关键词 电子回旋共振等离子体增强沉积 氟化非晶碳薄膜 光学性质 光吸收 光学带隙
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a-C∶H(N)类金刚石薄膜的结构及内应力分析 被引量:1
15
作者 陈建国 程宇航 +1 位作者 吴一平 乔学亮 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期224-229,共6页
采用射频等离子增强化学气相沉积法制备出a-C∶H(N)类金刚石薄膜 ,用X射线光电子能谱、红外吸收谱和慢正电子湮灭谱研究了薄膜的结构 ,用弯曲法测定了薄膜的内应力 .随着混合气体中N2 的含量从 0增加到 75 % ,薄膜中含N量可增加到 9.0 9... 采用射频等离子增强化学气相沉积法制备出a-C∶H(N)类金刚石薄膜 ,用X射线光电子能谱、红外吸收谱和慢正电子湮灭谱研究了薄膜的结构 ,用弯曲法测定了薄膜的内应力 .随着混合气体中N2 的含量从 0增加到 75 % ,薄膜中含N量可增加到 9.0 9% (摩尔分数 ) ,N原子与C原子以%DC—N ,C N和C≡N键的形式结合 .薄膜中的缺陷密度随含N量而增加 。 展开更多
关键词 类金刚石薄膜 掺氮大晶碳氢膜 内应力 等离子增强化学气相沉积 结构
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非晶碳氢薄膜结构及光学间隙 被引量:6
16
作者 刘东平 李芳 +1 位作者 俞世吉 马腾才 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2000年第2期58-61,共4页
利用完全抑制网络结构 (FCN)对氢化非晶碳 (α -C :H)膜组成进行模拟计算 ,得出形成质密α -C :H膜条件是H、SP2 C和SP3 C在其三元相图中应在一个三角形区域内 .大量实验数据表明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在α -C :H中主要存在氢... 利用完全抑制网络结构 (FCN)对氢化非晶碳 (α -C :H)膜组成进行模拟计算 ,得出形成质密α -C :H膜条件是H、SP2 C和SP3 C在其三元相图中应在一个三角形区域内 .大量实验数据表明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在α -C :H中主要存在氢、四面体碳、乙烯、苯环和双苯等结构 ,它们相对含量在三角形区域内变化 .该理论模拟对薄膜光学间隙的实验分析给予了很好的解释 . 展开更多
关键词 氢化非晶碳膜 光学间隙 FCN 结构 DLC
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含氢四面体非晶碳膜的制备与结构及力学性能 被引量:3
17
作者 许世鹏 占发琦 +2 位作者 郑月红 陈维铅 喇培清 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第10期2651-2656,共6页
采用化学气相沉积法制备具有优异力学性能的含氢四面体非晶碳膜有望满足工业应用的要求。通过自主设计的等离子体增强化学气相沉积实验系统制备含氢四面体非晶碳膜,并对其微观结构与力学性能进行研究。随着偏压从-200 V增加到-500 V,薄... 采用化学气相沉积法制备具有优异力学性能的含氢四面体非晶碳膜有望满足工业应用的要求。通过自主设计的等离子体增强化学气相沉积实验系统制备含氢四面体非晶碳膜,并对其微观结构与力学性能进行研究。随着偏压从-200 V增加到-500 V,薄膜硬度和弹性模量先增加后减少,最大达到34.0 GPa和282.0 GPa。压应力随着偏压的变化表现出相同的变化趋势。与传统等离子体增强化学气相沉积方法相比,自主设计的等离子体增强化学气相沉积系统制备的碳膜硬度和弹性模量明显提升,碳膜sp3含量(摩尔分数)超过62.3%,制备出的碳膜具有典型的含氢四面体非晶碳膜特征,而非含氢碳膜,主要是由于水冷射频双螺旋电极与平板电极结合增强了粒子的轰击和离化率,提高了薄膜sp3含量。这为在工业中应用制备高硬度和弹性模量的含氢四面体非晶碳膜提供了可能。 展开更多
关键词 含氢四面体非晶碳膜 力学性能 等离子增强化学气相沉积 微观结构
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Fe掺杂氢化非晶碳薄膜制备及其热稳定性能 被引量:2
18
作者 张洪亮 吴卫东 +6 位作者 何智兵 刘兴华 李俊 曹林洪 巨新 唐永建 谢二庆 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期621-624,共4页
以H2、反式-2-丁烯(T2B)和二茂铁混合气体为工作气体,用金属有机等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备了Fe掺杂氢化非晶碳(a-C:H:Fe)薄膜。使用X射线光电子能谱(XPS)对a-C:H:Fe薄膜成分进行了分析。使用台阶仪、场发射扫描电镜(FESEM... 以H2、反式-2-丁烯(T2B)和二茂铁混合气体为工作气体,用金属有机等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备了Fe掺杂氢化非晶碳(a-C:H:Fe)薄膜。使用X射线光电子能谱(XPS)对a-C:H:Fe薄膜成分进行了分析。使用台阶仪、场发射扫描电镜(FESEM)、热重分析和紫外可见分光光度计(UV-VIS),对比分析了a-C:H薄膜和a-C:H:Fe薄膜的沉积速率、表面形貌、热稳定性和光学带隙变化。研究表明:相同制备条件下,相比a-C:H薄膜,a-C:H:Fe薄膜的沉积速率高,表面颗粒小,容易碳化,光学带隙变窄。 展开更多
关键词 ICF靶 氢化非晶碳薄膜 等离子体增强化学气相沉积 FE掺杂 热重分析
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氟化非晶碳膜结构的Raman和FTIR研究 被引量:2
19
作者 肖剑荣 蒋爱华 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期685-689,共5页
利用反应射频磁控溅射法,以单晶Si片为衬底,在不同功率下制备了氟化非晶碳膜样品,并进行了不同温度的退火处理。采用拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱和原子力显微镜对样品的结构进行了表征。通过谱线Lorentzian分峰拟合方法,分析比较了不... 利用反应射频磁控溅射法,以单晶Si片为衬底,在不同功率下制备了氟化非晶碳膜样品,并进行了不同温度的退火处理。采用拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱和原子力显微镜对样品的结构进行了表征。通过谱线Lorentzian分峰拟合方法,分析比较了不同功率下制备的氟化非晶碳膜sp杂化结构,得到了薄膜生长过程功率控制与结构的关系,功率增大、退火温度升高,膜内sp2相对含量增加。退火温度达到350℃时,薄膜中石墨结构明显增加。 展开更多
关键词 氟化非晶碳膜 拉曼光谱 溅射功率 退火
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纳米非晶碳薄膜的制备及其场致电子发射特性 被引量:1
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作者 袁泽明 张永强 +1 位作者 姚宁 张兵临 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期1768-1771,共4页
采用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在涂有FeCl3的硅衬底上制备出了纳米非晶碳薄膜。通过SEM、XRD和拉曼光谱分析了薄膜材料的形貌和结构。并研究了薄膜材料的场发射特性。结果表明:薄膜的开启电场仅为0.39 V/μm;当电场强度... 采用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在涂有FeCl3的硅衬底上制备出了纳米非晶碳薄膜。通过SEM、XRD和拉曼光谱分析了薄膜材料的形貌和结构。并研究了薄膜材料的场发射特性。结果表明:薄膜的开启电场仅为0.39 V/μm;当电场强度为1.85 V/μm时,电流密度高达3.06 mA/cm2;且场发射点均匀、密集、稳定。迭代法计算表明薄膜材料的功函数为3.1 eV,发射点密度约为1.7×105个/cm2。这些均表明该薄膜是一种性能优良的场发射阴极材料。 展开更多
关键词 纳米非晶碳 场致电子发射 FECL3 微波等离子增强化学气相沉积
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