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ZrO_2瓷-Cu接合体界面结构及其机理 被引量:1
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作者 吴英齐 高陇桥 胡美华 《真空电子技术》 北大核心 1995年第4期1-7,共7页
本文成功地研究了TiH2活性金属法对ZrO2陶瓷和Cu的接合技术,叙述了其接合界面的微观结构层及其反应,对接合机理也进行了某些讨论。
关键词 氧化锆陶瓷 界面结构 接合机理
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