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Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究
被引量：
3
1
作者
姚文清
张立武
+6 位作者
牟豪杰
张川
严谨
朱永法
杨江荣
刘柯钊
鲜晓斌
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期134-137,共4页
通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长。薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6 nm。扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没...
通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长。薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6 nm。扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没有微裂纹存在。扫描俄歇电子能谱及X射线光电子能谱的研究表明,Zr/Nb/Si薄膜样品具有清晰的界面结构。在薄膜表面形成了致密的氧化层物种,而在膜层内部少量氧则以吸附态形式存在。
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关键词
zr
/
nb
/
si
薄膜
磁控溅射法
界面
扫描电镜
X射线衍射
俄歇电子能谱
X射线光电子能谱
下载PDF
职称材料
题名
Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究
被引量：
3
1
作者
姚文清
张立武
牟豪杰
张川
严谨
朱永法
杨江荣
刘柯钊
鲜晓斌
机构
清华大学化学系
表面物理与化学国家重点实验室
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期134-137,共4页
基金
表面物理与化学国家重点实验室基金项目(90000460200503)
文摘
通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料。X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长。薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6 nm。扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没有微裂纹存在。扫描俄歇电子能谱及X射线光电子能谱的研究表明,Zr/Nb/Si薄膜样品具有清晰的界面结构。在薄膜表面形成了致密的氧化层物种,而在膜层内部少量氧则以吸附态形式存在。
关键词
zr
/
nb
/
si
薄膜
磁控溅射法
界面
扫描电镜
X射线衍射
俄歇电子能谱
X射线光电子能谱
Keywords
zr
/
nb
/
si
thin film
Magnetron sputtering
Interface
SEM
XRD
AES
XPS
分类号
O64 [理学—物理化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究
姚文清
张立武
牟豪杰
张川
严谨
朱永法
杨江荣
刘柯钊
鲜晓斌
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
3
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职称材料
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