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氧氩流量比对RF溅射ZnO：Mg薄膜结构及光学性能的影响
被引量：
4
1
作者
自兴发
叶青
+1 位作者
刘瑞明
何永泰
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期883-888,共6页
利用射频（RF）磁控溅射技术,采用单质Zn靶和MgO陶瓷靶共溅射,在O2和Ar气的混合气氛下制备了Mg掺杂ZnO（ZnO：Mg）薄膜,并通过改变O2和Ar的流量比O2/Ar,研究了对ZnO：Mg薄膜的物相结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明,室温下O2/Ar...
利用射频（RF）磁控溅射技术,采用单质Zn靶和MgO陶瓷靶共溅射,在O2和Ar气的混合气氛下制备了Mg掺杂ZnO（ZnO：Mg）薄膜,并通过改变O2和Ar的流量比O2/Ar,研究了对ZnO：Mg薄膜的物相结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明,室温下O2/Ar在1∶1~3∶1范围内制备的薄膜均为单相的ZnO（002）薄膜,薄膜具有三维（3D）的结核生长模式;沉积的ZnO：Mg薄膜在N2氛下200℃退火处理后,O2/Ar为3∶1制备的薄膜在380~1200nm光谱范围内具有较高的透过率,可见光区平均透过率约为85%、最大透过率达90%;薄膜的光学带隙Eg为3.51eV,Mg掺杂对ZnO薄膜的光学带隙具有较为明显的调制作用;采用极值包络线法计算表明,薄膜在589.3nm处的折射率为1.963,膜厚约285nm。
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关键词
射频(RF)磁控溅射
zno
:
mg
薄膜
透射光谱
光学带隙
原文传递
题名
氧氩流量比对RF溅射ZnO：Mg薄膜结构及光学性能的影响
被引量：
4
1
作者
自兴发
叶青
刘瑞明
何永泰
机构
楚雄师范学院物理与电子科学学院
云南师范大学太阳能研究所
出处
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期883-888,共6页
基金
国家自然科学基金(61271159)资助项目
文摘
利用射频（RF）磁控溅射技术,采用单质Zn靶和MgO陶瓷靶共溅射,在O2和Ar气的混合气氛下制备了Mg掺杂ZnO（ZnO：Mg）薄膜,并通过改变O2和Ar的流量比O2/Ar,研究了对ZnO：Mg薄膜的物相结构、表面形貌及光学性能的影响。结果表明,室温下O2/Ar在1∶1~3∶1范围内制备的薄膜均为单相的ZnO（002）薄膜,薄膜具有三维（3D）的结核生长模式;沉积的ZnO：Mg薄膜在N2氛下200℃退火处理后,O2/Ar为3∶1制备的薄膜在380~1200nm光谱范围内具有较高的透过率,可见光区平均透过率约为85%、最大透过率达90%;薄膜的光学带隙Eg为3.51eV,Mg掺杂对ZnO薄膜的光学带隙具有较为明显的调制作用;采用极值包络线法计算表明,薄膜在589.3nm处的折射率为1.963,膜厚约285nm。
关键词
射频(RF)磁控溅射
zno
:
mg
薄膜
透射光谱
光学带隙
Keywords
radio frequency （RF） magnetron sputtering
zno
：
mg
thin film
transmission spectrum
op-tical band gap
分类号
TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氧氩流量比对RF溅射ZnO：Mg薄膜结构及光学性能的影响
自兴发
叶青
刘瑞明
何永泰
《光电子．激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
4
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