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大型发电机组最佳灭磁的新研究
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作者 吴华峰 夏勇强 《水电站机电技术》 2013年第6期27-29,67,共3页
针对国内出现的大量发变组事故,通过对SiC非线性灭磁电阻灭磁性能的详细试验,结合ZnO与SiC两种非线性电阻的优点,研究出ZnO&SiC最佳灭磁器件,可以作为大型发电机组实现可靠快速灭磁的一种较为理想的方案。
关键词 非线性灭磁 zno&sic 换流 快速灭磁
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Dip-coating of SiO2 onto ZnO-SiC Composite Membrane
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作者 Hyeyoun Hwang Hyunji Choi Miewon Jung 《Journal of Energy and Power Engineering》 2015年第6期562-565,共4页
SiC composite membrane was fabricated by mixing with SiC and ZnO powder. This mixture was pressed and sintered at 1,300 ℃ under air condition. This sintered ZnO-SiC membrane was dip-coated by silica sol and followed ... SiC composite membrane was fabricated by mixing with SiC and ZnO powder. This mixture was pressed and sintered at 1,300 ℃ under air condition. This sintered ZnO-SiC membrane was dip-coated by silica sol and followed by heat-treatment. This membrane was characterized by XRD (X-ray diffraction), FE-SEM (field emission scanning electron microscopy) and BET (Brunauer-Emmett-Teller) instruments. Hydrogen permeation test was conducted at 0.1 MPa pressure and also variation of temperatures. The obtained value of heat-treated membrane after dip-coating at 298 K was obtained as 1.61 × 10-6 mol/(m2·s·Pa). 展开更多
关键词 zno-sic membrane dip-coated hydrogen permeation test.
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ZnO/SiC/Si(111)异质外延 被引量:5
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作者 朱俊杰 林碧霞 +2 位作者 姚然 赵国亮 傅竹西 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第12期1662-1665,共4页
使用 Si C作为过渡层 ,采用自行设计建造的连通式双反应室高温 MOCVD系统很好地克服了 Zn O和 Si C生长时的交叉污染问题 ,在 Si基片上外延出高质量的 Zn O薄膜 .测量了样品的 XRD和摇摆曲线 ,以及室温下的 PL谱 .实验结果表明 ,Si C过... 使用 Si C作为过渡层 ,采用自行设计建造的连通式双反应室高温 MOCVD系统很好地克服了 Zn O和 Si C生长时的交叉污染问题 ,在 Si基片上外延出高质量的 Zn O薄膜 .测量了样品的 XRD和摇摆曲线 ,以及室温下的 PL谱 .实验结果表明 ,Si C过渡层的引入大大提高了 Zn O薄膜的质量和发光性能 ,并有望实现在 Si上制备 Zn O单晶薄膜 . 展开更多
关键词 低压MOCVD zno/sic/Si 结构特性 光致发光
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Si衬底上ZnO外延膜结构性质的比较 被引量:2
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作者 王坤 姚淑德 +2 位作者 丁志博 朱俊杰 傅竹西 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1386-1390,共5页
采用连通式双反应室高温MOCVD系统在Si衬底上外延ZnO薄膜,通过卢瑟福背散射/沟道(RBS/C)及高分辨X射线衍射(HR-XRD)技术对不同衬底条件的ZnO外延膜进行了组分及结构分析,结果表明在采用SiC缓冲层后,Si(111)衬底上ZnO(0002)面衍射峰半高... 采用连通式双反应室高温MOCVD系统在Si衬底上外延ZnO薄膜,通过卢瑟福背散射/沟道(RBS/C)及高分辨X射线衍射(HR-XRD)技术对不同衬底条件的ZnO外延膜进行了组分及结构分析,结果表明在采用SiC缓冲层后,Si(111)衬底上ZnO(0002)面衍射峰半高宽明显减小,缺陷密度降低,单晶质量显著变好,c轴方向应变由0·49%变为-0·16%,即由拉应变变为压应变且应变值变小,说明SiC缓冲层可以有效地减小ZnO与Si衬底晶格失配带来的应变,改善外延膜质量,实现Si衬底上单晶ZnO的生长. 展开更多
关键词 zno/sic/Si 卢瑟福背散射/沟道 高分辨X射线衍射 结构性质
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6H-SiC单晶表面ZnO薄膜的制备及其结构表征 被引量:1
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作者 孙柏 李锐鹏 +5 位作者 赵朝阳 徐彭寿 张国斌 潘国强 陈秀芳 徐现刚 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期753-757,共5页
利用脉冲激光淀积(PLD)技术在6H-SiC单晶衬底上制备了ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD),反射式高能电子衍射(RHEED)和同步辐射掠入射X射线衍射(SRGID)Φ扫描等实验技术研究了ZnO薄膜的结构.结果表明:在单晶6H-SiC衬底上制备的ZnO薄膜已经达... 利用脉冲激光淀积(PLD)技术在6H-SiC单晶衬底上制备了ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD),反射式高能电子衍射(RHEED)和同步辐射掠入射X射线衍射(SRGID)Φ扫描等实验技术研究了ZnO薄膜的结构.结果表明:在单晶6H-SiC衬底上制备的ZnO薄膜已经达到单晶水平,不同入射角的SRGID结果,显示了ZnO薄膜内部不同深度处α方向的晶格弛豫是不一致的,从接近衬底界面处到薄膜的中间部分再到薄膜的表面处,α方向的晶格常数分别为0.3264、0.3272和0.3223nm.通过计算得到ZnO薄膜的泊松比为0.504,ZnO薄膜与单晶6H-SiC衬底在平行于衬底表面α轴方向的实际晶格失配度为5.84%. 展开更多
关键词 脉冲激光淀积 氧化锌 碳化硅 掠入射X射线衍射
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Photoelectric conversion characteristics of ZnO/SiC/Si heterojunctions
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作者 邬小鹏 陈小庆 +2 位作者 孙利杰 毛顺 傅竹西 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期10-13,共4页
A series ofn-ZnO/n-SiC/p-Si and n-ZnO/p-Si heterojunctions were prepared by DC sputtering. Their structural properties, I-V curves, photovoltaic effects and photo-response spectra were studied. The photoelectric conve... A series ofn-ZnO/n-SiC/p-Si and n-ZnO/p-Si heterojunctions were prepared by DC sputtering. Their structural properties, I-V curves, photovoltaic effects and photo-response spectra were studied. The photoelectric conversion characteristics of n-ZnO/n-SiC/p-Si and n-ZnO/p-Si heterojunctions were investigated. It is found that the photoelectric conversion efficiency of the n-ZnO/n-SiC/p-Si heterojunction is about four times higher than that of the n-ZnO/p-Si heterojunction. The photovoltaic response spectrum indicated that the photoresponse curve of n-ZnO/n- SiC/p-Si increased more strongly than that of n-ZnO/p-Si with the wavelength increasing. It shows that the photoresponse ofn-ZnO/p-Si can be enhanced when inserting a 3C-SiC layer between ZnO and Si. There is one inflexion in the photocurrent response curve of the n-ZnO/p-Si heterojunction and two inflexions in that of the n-ZnO/n-SiC/p-Si heterojunction. It is clear that the 3C-SiC plays an important role in the photoelectric conversion of the n-ZnO/n-SiC/p-Si heterojunction. 展开更多
关键词 zno/sic/Si heteroiunction ohotoelectric conversion photoresnonse spectrum
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MOCVD法制备的p-ZnO/n-SiC异质结器件及其电致发光性能 被引量:2
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作者 史志锋 伍斌 +7 位作者 蔡旭浦 张金香 王辉 王瑾 夏晓川 董鑫 张宝林 杜国同 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期514-518,共5页
采用光辅助金属有机化学汽相沉积(PA-MOCVD)法在n-SiC(6H)衬底上制备出As掺杂的p型ZnO薄膜,并制备出相应的p-ZnO∶As/n-SiC异质结器件。X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)测试表明,ZnO薄膜具有较好的结构和光学特性。电流-电压(I-V)测试结... 采用光辅助金属有机化学汽相沉积(PA-MOCVD)法在n-SiC(6H)衬底上制备出As掺杂的p型ZnO薄膜,并制备出相应的p-ZnO∶As/n-SiC异质结器件。X射线衍射(XRD)和光致发光(PL)测试表明,ZnO薄膜具有较好的结构和光学特性。电流-电压(I-V)测试结果表明,该型异质结器件具有良好的整流特性,开启电压为5.0 V,反向击穿电压约为-13 V。正向偏压下,器件的电致发光(EL)谱表现出两个分别位于紫外和可见光区域的发光峰,通过和ZnO、SiC的PL谱对照,证实异质结器件的发光峰来源于ZnO侧的辐射复合。 展开更多
关键词 As掺杂 p-zno/n-sic 电致发光 金属有机化学汽相沉积
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