期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到3篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
超声化学法合成Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O以及高温转化ZnO和光催化性能研究 被引量：6
1
作者 郑桾 王树林 +2 位作者 侯臣 李生娟 李来强 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期7138-7142,共5页
在室温条件下,以锌粉1g、四氯化碳10mL和纯净水2 mL为比例,使用超声法制备出了Zn5(OH)8Cl2·H2O纳米片。探究了超声环境下Zn5(OH)8Cl2·H2O的生长机理,并对产物的形貌和结构进行了表征。研究了温度对Zn5(OH)8Cl2·H2O转化为... 在室温条件下,以锌粉1g、四氯化碳10mL和纯净水2 mL为比例,使用超声法制备出了Zn5(OH)8Cl2·H2O纳米片。探究了超声环境下Zn5(OH)8Cl2·H2O的生长机理,并对产物的形貌和结构进行了表征。研究了温度对Zn5(OH)8Cl2·H2O转化为ZnO的影响,发现产物在600℃下完全转化为六方结构纤锌矿ZnO,且高温有助于规则ZnO六方棱柱晶体的形成。使用Zn5(OH)8Cl2·H2O对初始浓度为20mg/L的甲基橙溶液进行光催化降解,结果表明,在15min时降解效率达到98.63%,30 min完全降解。 展开更多
关键词 zn5(oh)8cl2·h2o 超声化学法 焙烧 光催化降解
下载PDF
Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O微纳米片的超声合成与热解以及光致发光性能研究
2
作者 侯臣 王树林 +2 位作者 郑桾 李生娟 张熙 《电子元件与材料》 CAS CSCD 2015年第12期31-35,共5页
运用超声化学法,以细化后的Zn、CCl_4和H_2O为原料合成了Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O微纳米片,将Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O微纳米片在500℃下高温裂解,收集并表征了所得固相产物的结构形貌和光致发光性能,同时重点分析了所得固相产物的形... 运用超声化学法,以细化后的Zn、CCl_4和H_2O为原料合成了Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O微纳米片,将Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O微纳米片在500℃下高温裂解,收集并表征了所得固相产物的结构形貌和光致发光性能,同时重点分析了所得固相产物的形成过程和生长机理。结果表明:该制备方法反应迅速,合成的Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O纳米片径向尺寸分布在400 nm到3μm;所得到的固相产物为形貌不同的ZnO微纳米晶体,形成过程经历了高温裂解和置换反应;晶体生长符合VS生长机理。Si基底和Al_2O_3基底ZnO晶体在约515 nm处均出现了较宽绿峰,前者带边发光峰与深能级发光峰强度比相对较大,表明其缺陷较少结晶较好,该结果可指导Zn_5(OH)_8Cl_2·H_2O和多形貌ZnO微纳米晶体的可控制备与应用。 展开更多
关键词 zn5(oh)8cl2·h2o 超声化学法 zno 热解 形成过程 光致发光
下载PDF
腐蚀产物中Zn_(5)(OH)_(8)Cl_(2)对纯Zn腐蚀行为的影响 被引量：1
3
作者 杨元成 王友彬 +4 位作者 赵晋玮 周佳顺 冯济强 高峰 韦悦周 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第4期98-109,151,共13页
目的探究纯Zn腐蚀产物中碱式氯化锌(Zn_(5)(OH)_(8)Cl_(2),ZHC)对其腐蚀防护性能的影响以及腐蚀防护机理。方法通过原位生长法在纯Zn表面制备一层ZHC膜。通过X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(ED... 目的探究纯Zn腐蚀产物中碱式氯化锌(Zn_(5)(OH)_(8)Cl_(2),ZHC)对其腐蚀防护性能的影响以及腐蚀防护机理。方法通过原位生长法在纯Zn表面制备一层ZHC膜。通过X射线光电子能谱仪(XPS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能谱仪(EDS),分析了样品的物相组成和微观形貌。通过电化学阻抗谱(EIS)和动电位极化曲线(Tafel),评估了ZHC膜对纯Zn腐蚀防护性能的影响。结果纯Zn表面先形成了一层致密细小的ZHC纳米片,铺满整个纯Zn表面后,在第一层ZHC上形成第二层较大尺寸的ZHC纳米片。预制备的ZHC膜可以使纯Zn的腐蚀电流密度从78.23μA/cm^(2)降低到2.08μA/cm^(2),腐蚀电位从‒1.050V(vs.SCE)提升到‒0.998V(vs.SCE),并且随着ZHC制备时间的增加,阴极斜率(βc)逐渐增大,这表明ZHC可以有效阻碍电荷转移,抑制阴极的氧还原,减缓纯Zn的腐蚀速率,对Zn基体的腐蚀起到防护作用。在浸泡腐蚀过程中,ZHC可以抑制HZ的生成,减少絮状腐蚀产物的生成。在短期浸泡过程中,纯Zn的阻抗值随着预制备ZHC的增加而逐渐增大,这是因为生成的腐蚀产物填补ZHC纳米片的空隙,使腐蚀产物膜致密,ZHC膜对Zn基体能起到较好的防护作用。在长期浸泡过程中,ZHC/Zn的阻抗值下降,这是因为ZHC膜破裂,提供了新的腐蚀通道,导致ZHC膜对纯Zn的防护作用下降。结论ZHC膜可以减缓纯Zn的腐蚀速率。对比纯Zn和ZHC/Zn在浸泡过程中的腐蚀行为可知,在短期浸泡过程中,随着预制备ZHC的增加,对纯Zn的防护性能逐渐提高;在长期浸泡腐蚀过程中,ZHC膜对纯Zn腐蚀的防护作用逐渐下降。 展开更多
关键词 腐蚀产物 zn_(5)(oh)_(8)cl_(2) 纯zn 原位生长 腐蚀防护
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部