溶胶-凝胶法制备V_2O_5为基体的薄膜材料及其应用 被引量：14

1

作者 童茂松 戴国瑞 +2 位作者 高鼎三 GalinaZakharova OlgaPozdniakova 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期230-232,共3页

综述了以V2 O5为基体的薄膜材料的制备方法、结构及其特性 ,介绍了该材料在湿度传感器、电压开关和锂电池等领域的应用。

关键词 v2o5薄膜 溶胶-凝胶法 湿度传感器 电压开关

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V_2O_5薄膜在传感器上的研究进展 被引量：13

2

作者 李莉 童茂松 翁爱华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1482-1484,1488,共4页

V2O5薄膜具有优异的物理、化学性质,在化工催化、电子、电化学等许多领域有广泛的应用,由于V2O5薄膜对还原性气体和湿度具有良好的敏感特性,其在气体和湿度传感器上的研究也日渐广泛,因此本文综述了V2O5为基体的薄膜在气体传感器和湿度... V2O5薄膜具有优异的物理、化学性质,在化工催化、电子、电化学等许多领域有广泛的应用,由于V2O5薄膜对还原性气体和湿度具有良好的敏感特性,其在气体和湿度传感器上的研究也日渐广泛,因此本文综述了V2O5为基体的薄膜在气体传感器和湿度传感器上的研究进展及存在的问题和解决的思路。 展开更多

关键词 v2o5薄膜 气体传感器 湿度传感器

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溶胶-凝胶法制备V_2O_5薄膜的气敏特性研究 被引量：7

3

作者 童茂松 戴国瑞 +3 位作者 薛辉 何秀丽 吴元大 高鼎三 《传感技术学报》 CAS CSCD 2000年第3期225-229,共5页

本文研究了用无机溶胶凝胶法制备的 V2 O5 薄膜的 XRD结果及其气敏特性 .凝胶在 40 0℃下烧结 12 h后完全形成了 V2 O5 晶体 .掺 3wt% Pd+1wt% Au的 V2 O5 薄膜在较大范围内对乙醇具有较高的灵敏度 .加热电压为 5 .5 V时灵敏度达到最大... 本文研究了用无机溶胶凝胶法制备的 V2 O5 薄膜的 XRD结果及其气敏特性 .凝胶在 40 0℃下烧结 12 h后完全形成了 V2 O5 晶体 .掺 3wt% Pd+1wt% Au的 V2 O5 薄膜在较大范围内对乙醇具有较高的灵敏度 .加热电压为 5 .5 V时灵敏度达到最大值 .该气敏薄膜具有较好的选择性 ,NH3、H2 、CO、CH3COCH3等气体不干扰元件的测量 .元件的响应时间为15 s,恢复时间为 5 s. 展开更多

关键词 溶胶-凝胶法 v2o5薄膜 气体传感器 气敏特性

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V_2O_5薄膜在连续激光防护中的应用研究 被引量：6

4

作者 骆永全 王伟平 罗飞 《应用激光》 CSCD 北大核心 2005年第6期381-383,共3页

用磁控离子溅射法在玻片上沉积了V2O5薄膜,并进行了X射线衍射和常温下光谱透过率测量。分别用1064nm和1319nm连续激光辐照样品,实时测量了V2O5薄膜的温度变化,以及由于温度变化引起相变后对激光透过率的变化。结果表明:在平均入射功率为... 用磁控离子溅射法在玻片上沉积了V2O5薄膜,并进行了X射线衍射和常温下光谱透过率测量。分别用1064nm和1319nm连续激光辐照样品,实时测量了V2O5薄膜的温度变化,以及由于温度变化引起相变后对激光透过率的变化。结果表明:在平均入射功率为8.1W、光斑直径2mm时,V2O5薄膜对1064nm激光的透过率由相变前的55%变为相变后的25.5%,响应时间约24ms;在平均入射功率为8.9W、光斑直径2mm时,其对1319nm激光的透过率由相变前的63%变为相变后的27.9%,响应时间约40ms。对实验结果进行了分析并介绍了V2O5薄膜的相变原理及其在激光防护上的应用。 展开更多

关键词 激光防护 光限幅 v2o5薄膜 热致相变

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V_2O_5薄膜的结构和光电性能研究 被引量：5

5

作者 许旻 邱家稳 贺德衍 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 2003年第6期373-376,共4页

在O2 /Ar混合气氛中 ,用脉冲磁控溅射金属V靶沉积出非晶的V2 O5薄膜。对所沉积的薄膜进行 4 5 0℃退火。利用X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计和电阻测量等手段对薄膜的结构和性能进行了分析 ,从 2 0 0nm～ 2 5 0 0nm光谱的透射和... 在O2 /Ar混合气氛中 ,用脉冲磁控溅射金属V靶沉积出非晶的V2 O5薄膜。对所沉积的薄膜进行 4 5 0℃退火。利用X射线衍射、原子力显微镜、分光光度计和电阻测量等手段对薄膜的结构和性能进行了分析 ,从 2 0 0nm～ 2 5 0 0nm光谱的透射和反射测量结果 ,计算出薄膜的吸收系数。结果表明 ,V2 O5薄膜纯度高 ,结晶好 ,高低温电阻变化 2个量级。光学能隙为2 4 6eV。 展开更多

关键词 v2o5薄膜 电性能 吸收系数 脉冲磁控溅射 纯度 光学能隙

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磁控溅射法制备的五氧化二钒薄膜光电特性 被引量：5

6

作者 张圣斌 左敦稳 +1 位作者 卢文壮 左杨平 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第9期2438-2445,共8页

利用射频磁控溅射方法,选取溅射时间为15,25,30和45min,在蓝宝石衬底上沉积了V2O5薄膜。研究了其他实验参量不变,溅射时间不同对薄膜结构、薄膜厚度、表面形貌、电学及光学性能的影响。实验结果表明,制备出的薄膜为单一组分的V2O5薄膜,... 利用射频磁控溅射方法,选取溅射时间为15,25,30和45min,在蓝宝石衬底上沉积了V2O5薄膜。研究了其他实验参量不变,溅射时间不同对薄膜结构、薄膜厚度、表面形貌、电学及光学性能的影响。实验结果表明,制备出的薄膜为单一组分的V2O5薄膜,其在（001）面有明显的择优取向。随着溅身时间的增加,结晶性能逐渐变强,晶粒尺寸也逐渐变大,而表面粗糙度值会逐渐降低;在晶体结构完整的基础上,随着溅射时间的增加,相变温度和经历的温度范围会逐渐增加,电学突变性能会降低。测试了薄膜在中红外波段的高低温透过率,结果显示：当膜厚为350nm,波长为5μm时,薄膜的透过率从25℃时的81%变为300℃的7%,变化幅度可达74%;所有薄膜相变前后透过率的比值均为9~13,表现出了非常突出的光学开关特性。 展开更多

关键词 v2o5薄膜 磁控溅射 溅射时间 薄膜厚度 电学性能 红外透过率

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V_2O_5光电薄膜的溶胶-凝胶制备及性能研究 被引量：4

7

作者 方国家 王汉忠 吉向东 《襄樊学院学报》 2001年第2期16-21,共6页

以V_2O_5为原料，苯甲醇、异丁醇为溶剂，采用溶胶—凝胶（Sol-Gel）工艺制备了V_2O_5薄膜. 采用差热-失重（DTA-TG）、付里叶红外光谱(FT-IR)、X-射线衍射（XRD）等分析手段研究了V_2O_5薄膜的结构特性. 并研究了V_2O_5薄膜的透射光谱... 以V_2O_5为原料，苯甲醇、异丁醇为溶剂，采用溶胶—凝胶（Sol-Gel）工艺制备了V_2O_5薄膜. 采用差热-失重（DTA-TG）、付里叶红外光谱(FT-IR)、X-射线衍射（XRD）等分析手段研究了V_2O_5薄膜的结构特性. 并研究了V_2O_5薄膜的透射光谱、气敏、伏安特性及温阻特性. 实验发现沉积在ITO导电玻璃衬底上的V_2O_5薄膜，烧结温度越高，透光性能越好；V_2O_5薄膜在常温下对NOx气体具有一定的气敏性能. 展开更多

关键词 Sol-Gel工艺 v2o5薄膜 物相 晶格常数 结构分析 气敏性能 透射光谱 伏安特性 ITo导电玻璃衬底

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无机sol-gel法制备二氧化钒薄膜的研究 被引量：4

8

作者 葛振华 赵昆渝 +2 位作者 李智东 吴东 邹平 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2008年第11期46-49,共4页

采用无机sol-gel法,以分析纯V2O5为原料,在Si衬底、玻璃衬底上空气中加热制备了V2O5薄膜,在不同温度下真空退火,得到了具有择优取向的VO2薄膜。研究了其制备工艺和显微结构。结果表明:在玻璃衬底和硅衬底上薄膜的最佳真空退火工艺均为48... 采用无机sol-gel法,以分析纯V2O5为原料,在Si衬底、玻璃衬底上空气中加热制备了V2O5薄膜,在不同温度下真空退火,得到了具有择优取向的VO2薄膜。研究了其制备工艺和显微结构。结果表明:在玻璃衬底和硅衬底上薄膜的最佳真空退火工艺均为480℃/2h。所制备的VO2薄膜具有沿<110>晶向生长的择优取向。薄膜表面形貌良好,颗粒尺寸分布均匀。 展开更多

关键词 无机非金属材料 vo2薄膜 v2o5薄膜 无机sol-gel法

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V_2O_5薄膜结构和性能研究 被引量：3

9

作者 许旻 贺德衍 《科技通讯（上海）》 CSCD 2004年第1期19-23,共5页

关键词 v2o5薄膜 脉冲溅射 微结构 光电特性 XRD XPS AFM

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Sol-Gel V_2O_5薄膜的成膜和取向研究 被引量：1

10

作者 袁宁一 李金华 林成鲁 《江苏石油化工学院学报》 2001年第4期1-3,共3页

采用溶胶 -凝胶法在SiO2 /Si衬底上沉积V2 O5薄膜 ,详细介绍了对衬底表面作亲水处理的方法。以不同浓度溶胶 ,在不同温度和不同气氛下对薄膜进行热处理 ,得到以〈0 0 1〉向为主取向的高取向薄膜 ,从理论上解释了V2 O5薄膜的取向机理 。

关键词 溶胶-凝胶法 v2o5薄膜 结晶取向 氧化钒 衬底 沉积 硅 热蒸发

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脉冲准分子激光大面积扫描沉积V_2O_5光电薄膜及光谱分析 被引量：3

11

作者 方国家 刘祖黎 +2 位作者 王又青 夏清华 姚凯伦 《红外技术》 CSCD 北大核心 2000年第5期5-9,共5页

采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术 ,在透明导电玻璃 (ITO)及Si(1 1 1 )单晶基片上沉积了尺寸达 4× 4cm2 ,具有高c轴 (0 0 1 )取向生长的V2 O5薄膜。采用X射线衍射 (XRD)、拉曼光谱 (RS)、傅里叶红外光谱 (FT IR)对沉积及不同... 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术 ,在透明导电玻璃 (ITO)及Si(1 1 1 )单晶基片上沉积了尺寸达 4× 4cm2 ,具有高c轴 (0 0 1 )取向生长的V2 O5薄膜。采用X射线衍射 (XRD)、拉曼光谱 (RS)、傅里叶红外光谱 (FT IR)对沉积及不同温度下退火处理的样品结构和光谱特性进行了研究。 展开更多

关键词 v2o5薄膜 脉冲准分子激光 大面积扫描沉积

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溶胶-凝胶法制备V_2O_5薄膜经不同温度热处理后的微观结构 被引量：3

12

作者 彭雁 詹肇麟 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2011年第10期70-72,共3页

以分析纯V2O5粉体为原料、H2O2为溶剂,采用电磁-超声波搅拌方式的无机溶剂-凝胶工艺,在ITO导电玻璃衬底上制备了V2O5薄膜;并研究了热处理温度对其形貌和结构的影响。结果表明:室温下V2O5薄膜为非晶无定形结构,400℃热处理后,薄膜中出现... 以分析纯V2O5粉体为原料、H2O2为溶剂,采用电磁-超声波搅拌方式的无机溶剂-凝胶工艺,在ITO导电玻璃衬底上制备了V2O5薄膜;并研究了热处理温度对其形貌和结构的影响。结果表明:室温下V2O5薄膜为非晶无定形结构,400℃热处理后,薄膜中出现了β-V2O5相,450℃热处理后基本上全为β-V2O5相,500℃热处理后又出现了α-V2O5相;薄膜在350～400℃热处理后,表面较平滑、均匀,出现颗粒;450℃热处理后主要由瓣状、片状及短棒状多晶堆积而成;500℃热处理后主要由棒状多晶组成。 展开更多

关键词 v2o5薄膜 溶胶-凝胶法 电磁-超声波搅拌

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基于不同衬底的五氧化二钒薄膜光电特性 被引量：3

13

作者 张圣斌 左敦稳 +1 位作者 卢文壮 左杨平 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期321-328,共8页

利用射频磁控溅射方法,在红外石英、蓝宝石和光学单晶金刚石上制备了氧化钒薄膜,然后对其结构与厚度、表面形貌、电学及光学性能进行了表征。实验结果表明,制备出的薄膜均为单一组分的V_2O_5薄膜,在(001)面有明显的择优取向,单晶金刚石... 利用射频磁控溅射方法,在红外石英、蓝宝石和光学单晶金刚石上制备了氧化钒薄膜,然后对其结构与厚度、表面形貌、电学及光学性能进行了表征。实验结果表明,制备出的薄膜均为单一组分的V_2O_5薄膜,在(001)面有明显的择优取向,单晶金刚石衬底的薄膜结晶度和表面形貌最好;电学性能方面,金刚石衬底的薄膜相变温度最低经历的温度范围也最小,电学突变性能最为优异;光学性能方面,蓝宝石和金刚石衬底的薄膜光关闭时间均非常短,低于2.5 ms,回复时间在30 ms左右;单晶金刚石衬底的薄膜相变前后透射率比值为10.3,表现出了非常显著的光学突变性能。 展开更多

关键词 薄膜 v2o5薄膜 衬底 单晶金刚石 电学性能 光学突变性能

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薄膜厚度对V_2O_5薄膜电致变色性能的影响 被引量：2

14

作者 张雪峰 杨绍利 李会容 《四川师范大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2009年第2期243-245,共3页

采用溶胶-凝胶法制备V_2O_5薄膜,研究了薄膜厚度对V_2O_5薄膜电阻率、透射率和电致变色性的影响.研究结果表明:随着薄膜厚度的增大,V_2O_5薄膜的表面电阻率总体上呈降低趋势,而当厚度大于20μm时,薄膜的电阻率趋于常数.V_2O_5薄膜透光... 采用溶胶-凝胶法制备V_2O_5薄膜,研究了薄膜厚度对V_2O_5薄膜电阻率、透射率和电致变色性的影响.研究结果表明:随着薄膜厚度的增大,V_2O_5薄膜的表面电阻率总体上呈降低趋势,而当厚度大于20μm时,薄膜的电阻率趋于常数.V_2O_5薄膜透光性能随厚度的增加而降低.随薄膜厚度增加,V_2O_5薄膜的变色效率提高. 展开更多

关键词 v2o5薄膜 电致变色 溶胶-凝胶 电阻率 透射率

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磁控溅射法制备五氧化二钒薄膜的表面粗糙度研究 被引量：2

15

作者 张吴晖 卢文壮 +2 位作者 杨斌 杨凯 杨旭 《航空兵器》 2017年第2期60-64,共5页

V_2O_5是一种具有热致相变特性的新型非线性光学材料,被广泛应用于激光致盲防护领域。V_2O_5薄膜的表面粗糙度是影响其性能的重要因素。本文采用磁控溅射镀膜的方法在蓝宝石表面制备V_2O_5薄膜,通过控制氧氩比以及衬底温度,探究V_2O_5... V_2O_5是一种具有热致相变特性的新型非线性光学材料,被广泛应用于激光致盲防护领域。V_2O_5薄膜的表面粗糙度是影响其性能的重要因素。本文采用磁控溅射镀膜的方法在蓝宝石表面制备V_2O_5薄膜,通过控制氧氩比以及衬底温度,探究V_2O_5薄膜表面粗糙度与这两个因素之间的关系。实验表明,衬底温度较低(约300℃)时,表面粗糙度较小,且随氧含量变化不大;衬底温度较高(400℃以上)时,随着氧含量的增加,表面粗糙度变大。同时,当氧分压一定时,随着衬底温度的提高,薄膜的表面粗糙度也增大。 展开更多

关键词 磁控溅射 氧氩比 衬底温度 v2o5薄膜 表面粗糙度 激光防护技术

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金刚石衬底的V_2O_5薄膜激光损伤阈值研究 被引量：2

16

作者 张盛 张圣斌 +2 位作者 刘巍 庞婧 卢文壮 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第5期147-152,共6页

目的探究V_2O_5薄膜厚度对其抗激光损伤性能的影响。方法通过射频反应磁控溅射法在光学级单晶金刚石衬底表面制备了不同膜厚的V_2O_5薄膜。采用脉宽为10 ns、波长为1064 nm的脉冲激光器对薄膜样品进行光学响应曲线测试,测得薄膜相变前... 目的探究V_2O_5薄膜厚度对其抗激光损伤性能的影响。方法通过射频反应磁控溅射法在光学级单晶金刚石衬底表面制备了不同膜厚的V_2O_5薄膜。采用脉宽为10 ns、波长为1064 nm的脉冲激光器对薄膜样品进行光学响应曲线测试,测得薄膜相变前后透过率变化情况及相变开关时间,以判断薄膜是否发生损伤,并根据损伤几率得到激光损伤阈值。结果实验制备的薄膜为组分单一的多晶V_2O_5,在(001)面具有明显择优取向。同一膜厚下(350 nm),随着激光能量密度的增加,薄膜的相变关闭时间由1.48 ms单调减小至0.64 ms,相变回复时间则由11.6 ms单调增加至20.4 ms,相变后的透过率由19%单调减小至8%,回复后的透过率由77%单调减小至51%。薄膜膜厚在150～550 nm的范围内,其激光损伤阈值随着膜厚的增加呈现出先增后减的趋势;当膜厚等于250 nm时,激光损伤阈值达到最大值,为260 mJ/cm^2;膜厚为550 nm时,激光损伤阈值最小,仅为209 mJ/cm^2。结论 V_2O_5薄膜厚度对其抗激光损伤性能具有较大的影响,合理地控制膜厚,能够有效提高激光损伤阈值,从而提高基于金刚石衬底的V_2O_5薄膜的抗激光损伤能力。 展开更多

关键词 激光致盲 v2o5薄膜 膜厚 损伤阈值 金刚石衬底

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热处理对氧化钒薄膜成分和形貌的影响 被引量：1

17

作者 宋晶晶 张津 +2 位作者 孙智富 刘成龙 孙健 《武汉理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第13期19-21,63,共4页

二氧化钒薄膜特殊的可逆相变特性,决定其有着巨大的应用潜能,由于钒与氧结合可以形成几十种氧化物,因此制得严格化学配比的二氧化钒薄膜始终是一个难点,目前国际上制备此薄膜的方法虽多样化,但都不成熟,实验采用两步工艺,先用射频磁控... 二氧化钒薄膜特殊的可逆相变特性,决定其有着巨大的应用潜能,由于钒与氧结合可以形成几十种氧化物,因此制得严格化学配比的二氧化钒薄膜始终是一个难点,目前国际上制备此薄膜的方法虽多样化,但都不成熟,实验采用两步工艺,先用射频磁控溅射法制备高纯度的五氧化二钒薄膜,再在N2保护下进行后续热处理,得到二氧化钒含量较高的氧化钒薄膜,并对热处理前后薄膜的成分、形貌进行XRD,XPS,SEM,AFM分析,得出热处理对氧化钒薄膜的成分和形貌的影响。 展开更多

关键词 v2o5薄膜 vo2薄膜 热处理

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直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究 被引量：1

18

作者 杜明军 吴志明 +3 位作者 罗振飞 许向东 王涛 蒋亚东 《电子器件》 CAS 2010年第5期531-535,共5页

研究了直流反应磁控溅射工艺中衬底温度对氧化钒(V2O5)薄膜性能的影响,利用X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外可见光分光光度计(UV1700)分别对薄膜进行了表征。实验结果表明,除了组分和晶态,薄膜的形貌... 研究了直流反应磁控溅射工艺中衬底温度对氧化钒(V2O5)薄膜性能的影响,利用X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外可见光分光光度计(UV1700)分别对薄膜进行了表征。实验结果表明,除了组分和晶态,薄膜的形貌和光学性能受衬底温度的影响很大。随着衬底温度的升高,膜表面变得粗糙,膜厚减小。光学特性测试表明,当衬底温度从160℃升高到320℃,光学带隙从2.39 eV下降到2.18 eV。 展开更多

关键词 v2o5薄膜 衬底温度 磁控溅射 光学性能

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无机溶胶-凝胶途径制备V_2O_5薄膜的实验研究

19

作者 吉向东 方国家 +1 位作者 王汉忠 蔡从保 《襄樊学院学报》 2002年第5期18-21,共4页

以分析纯V2O5粉末为原料,H2O2为溶剂,采用溶胶—凝胶(Sol-Gel)工艺,以无机途径成功制备了V2O5 薄膜. 研究了在不同衬底上制备薄膜的可行性及工艺过程,不同温度热处理及不同厚度V2O5薄膜的透射光谱及300℃热处理薄膜的温阻特性. 实验发... 以分析纯V2O5粉末为原料,H2O2为溶剂,采用溶胶—凝胶(Sol-Gel)工艺,以无机途径成功制备了V2O5 薄膜. 研究了在不同衬底上制备薄膜的可行性及工艺过程,不同温度热处理及不同厚度V2O5薄膜的透射光谱及300℃热处理薄膜的温阻特性. 实验发现在石英玻璃及普通载玻片上可制备均匀透明度的薄膜,100℃热处理的V2O5薄膜透光性能最好,而300℃热处理V2O5薄膜在紫外及近紫外线区(350nm～450nm)的吸收率最高. 该工作对于V2O5光电薄膜的大面积、低成本制备具有一定的参考价值. 展开更多

关键词 Sol-Gel工艺 v2o5薄膜 无机途径 透光率 温阻特性

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CTAB辅助电沉积V_2O_5薄膜及储锂性能研究 被引量：1

20

作者 李延伟 蒙广伟 +3 位作者 姚金环 朱文凤 李世玉 张灵志 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2014年第11期4-7,23,共5页

以五氧化二钒、双氧水和十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为原料,采用溶胶凝胶法制备了V2O5溶胶,并通过电沉积法在不锈钢基体上制备了正交晶系的V2O5薄膜电极材料。采用X-射线衍射和场发射扫描电子显微镜表征了V2O5薄膜材料的微观结构和表面... 以五氧化二钒、双氧水和十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为原料,采用溶胶凝胶法制备了V2O5溶胶,并通过电沉积法在不锈钢基体上制备了正交晶系的V2O5薄膜电极材料。采用X-射线衍射和场发射扫描电子显微镜表征了V2O5薄膜材料的微观结构和表面形貌;采用循环伏安曲线、交流阻抗谱和充放电测试研究了V2O5薄膜作为锂离子电池正极材料的储锂性能。结果表明,在添加3%CTAB的V2O5溶胶中电沉积的V2O5薄膜比未添加CTAB的V2O5溶胶中电沉积的V2O5薄膜具有更高的电化学反应可逆性、更低的电化学反应阻抗、更好的嵌锂活性和倍率性能。 展开更多

关键词 CTAB 锂离子电池 正极材料 电沉积 v2o5薄膜 储锂性能

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