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Surface morphology and composition studies in InGaN/GaN film grown by MOCVD 被引量:2
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作者 陶涛 张曌 +9 位作者 刘炼 苏辉 谢自力 张荣 刘斌 修向前 李毅 韩平 施毅 郑有炓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期14-17,共4页
InGaN films were deposited on(0001) sapphire substrates with GaN buffer layers under different growth temperatures by metalorganic chemical vapor deposition.The In-composition of InGaN film was approximately control... InGaN films were deposited on(0001) sapphire substrates with GaN buffer layers under different growth temperatures by metalorganic chemical vapor deposition.The In-composition of InGaN film was approximately controlled by changing the growth temperature.The connection between the growth temperature,In content,surface morphology and defect formation was obtained by X-ray diffraction,scanning electron microscopy(SEM) and atomic force microscopy(AFM).Meanwhile,by comparing the SEM and AFM surface morphology images,we proposed several models of three different defects and discussed the mechanism of formation.The prominent effect of higher growth temperature on the quality of the InGaN films and defect control were found by studying InGaN films at various growth temperatures. 展开更多
关键词 InGaN film MOCvD surface morphology v-defects
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Anomalous temperature-dependent photoluminescence peak energy in InAlN alloys
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作者 李维 金鹏 +6 位作者 王维颖 毛德丰 刘贵鹏 王占国 王嘉铭 许福军 沈波 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第9期16-20,共5页
InA1N has been studied by means of temperature-dependent time-integrated photoluminescence and time-resolved photoluminescence. The variation of PL peak energy did not follow the behavior predicted by Varshni formula,... InA1N has been studied by means of temperature-dependent time-integrated photoluminescence and time-resolved photoluminescence. The variation of PL peak energy did not follow the behavior predicted by Varshni formula, and a faster redshift with increasing temperature was observed. We used a model that took account of the thermal activation and thermal transfer of localized excitons to describe and explain the observed behavior. A good fitting to the experiment result is obtained. We believe the anomalous temperature dependence of PL peak energy shift can be attributed to the temperature-dependent redistribution of localized excitons induced by thermal activation and thermal transfer in the strongly localized states. V-shaped defects are thought to be a major factor causing the strong localized states in our ln0.153Al0.847N sample. 展开更多
关键词 InA1N PHOTOLUMINESCENCE thermal activation v-defects
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Advantages of InGaN/GaN light emitting diodes with p-GaN grown under high pressure
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作者 付丙磊 刘乃鑫 +2 位作者 刘喆 李晋闽 王军喜 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2014年第11期70-73,共4页
The advantages of InGaN/GaN light emitting diodes (LEDs) with p-GaN grown under high pressures are studied. It is shown that the high growth pressure could lead to better electronic properties of p-GaN layers due to... The advantages of InGaN/GaN light emitting diodes (LEDs) with p-GaN grown under high pressures are studied. It is shown that the high growth pressure could lead to better electronic properties of p-GaN layers due to the eliminated compensation effect. The contact resistivity of p-GaN layers are decreased due to the reduced donor-like defects on the p-GaN surface. The leakage current is also reduced, which may be induced by the better filling of V-defects with p-GaN layers grown under high pressures. The LED efficiency thus could be enhanced with high pressure grown p-GaN layers. 展开更多
关键词 light emitting diodes v-defects growth pressure P-GAN
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氧离子注入微晶金刚石薄膜的微结构与光电性能研究 被引量:2
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作者 王峰浩 胡晓君 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第15期439-445,共7页
本文系统研究了氧离子注入剂量和退火温度对含有Si-V发光中心的微晶金刚石薄膜的微结构和光电性能的影响.结果表明,氧离子注入并在较高温度退火有利于提高薄膜中Si-V中心的发光强度.当氧离子注入剂量从1014cm2增加到1015cm2时,薄膜中Si-... 本文系统研究了氧离子注入剂量和退火温度对含有Si-V发光中心的微晶金刚石薄膜的微结构和光电性能的影响.结果表明,氧离子注入并在较高温度退火有利于提高薄膜中Si-V中心的发光强度.当氧离子注入剂量从1014cm2增加到1015cm2时,薄膜中Si-V发光强度增强.Hall效应测试结果表明退火后薄膜的面电阻率降低.不同温度退火时,氧离子注入薄膜的Si-V发光强度较强时,薄膜的面电阻率增加,说明Si-V发光中心不利于提高薄膜的导电性能.Raman光谱测试结果表明,薄膜中缺陷数量的增多会增强Si-V的发光强度,而降低薄膜的导电性能. 展开更多
关键词 金刚石薄膜 氧离子注入 电学性能 Si-v缺陷
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Defect types and room-temperature ferromagnetism in undoped rutile TiO_2 single crystals 被引量:1
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作者 李东翔 秦秀波 +5 位作者 郑黎荣 李玉晓 曹兴忠 李卓昕 杨静 王宝义 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期491-494,共4页
Room-temperature ferromagnetism has been experimentally observed in annealed rutile TiO2 single crystals when a magnetic field is applied parallel to the sample plane.By combining X-ray absorption near the edge struct... Room-temperature ferromagnetism has been experimentally observed in annealed rutile TiO2 single crystals when a magnetic field is applied parallel to the sample plane.By combining X-ray absorption near the edge structure spectrum and positron annihilation lifetime spectroscopy,Ti^3+-V O defect complexes(or clusters) have been identified in annealed crystals at a high vacuum.We elucidate that the unpaired 3d electrons in Ti^3+ ions provide the observed room-temperature ferromagnetism.In addition,excess oxygen ions in the TiO2 lattice could induce a number of Ti vacancies which obviously increase magnetic moments. 展开更多
关键词 ANNEALING oxygen vacancies Ti^3+-v O defect complexes FERROMAGNETISM
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GaN基LED中V形坑缺陷的研究进展
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作者 刘青明 尚林 +5 位作者 邢茹萍 侯艳艳 张帅 黄佳瑶 马淑芳 许并社 《中国材料进展》 CAS CSCD 北大核心 2020年第12期968-973,共6页
自低温AlN、GaN形核技术和高温热退火技术实现了外延高质量GaN薄膜和激活p型GaN受主以来,GaN基光电器件得到了迅猛发展。但是,GaN基光电器件依然存在诸多基础性问题,特别是基于异质衬底外延的GaN基LED外延层中的位错密度高达10^(8) cm^(... 自低温AlN、GaN形核技术和高温热退火技术实现了外延高质量GaN薄膜和激活p型GaN受主以来,GaN基光电器件得到了迅猛发展。但是,GaN基光电器件依然存在诸多基础性问题,特别是基于异质衬底外延的GaN基LED外延层中的位错密度高达10^(8) cm^(-2),内量子效率却超过50%。V形坑是GaN基LED外延层中一种常见的倒金字塔缺陷,6个侧面与c面的夹角均为62°。基于V形坑缺陷对LED光电性能影响的研究成果,介绍了V形坑中侧壁量子阱屏蔽位错理论:侧壁量子阱的In含量较低,其势垒高度大于c面量子阱,故在穿透位错周围形成了高势垒,阻挡载流子被非辐射复合中心所捕获。此外,还综述了V形坑缺陷的形成机理、附近区域的发光特性、对LED电学特性的影响以及通过优化V形坑调控LED光电性能的研究。 展开更多
关键词 氮化镓 v形坑缺陷 非辐射复合 光电性能
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室间隔缺损儿童心房胶原的组织学和数字图像分析 被引量:4
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作者 徐振平 张艳芬 +2 位作者 郭志坤 韩培立 席鸿钧 《新乡医学院学报》 CAS 2004年第2期77-79,共3页
目的 探讨正常和室间隔缺损儿童心房胶原纤维的分布及其含量。方法 应用Mas son染色及数字图像分析方法 ,光镜观测 6例正常和 12例室间隔缺损儿童心房胶原纤维网络构筑。结果  (1)正常心房心肌细胞周围有较细的胶原纤维膜 ,彼此连接... 目的 探讨正常和室间隔缺损儿童心房胶原纤维的分布及其含量。方法 应用Mas son染色及数字图像分析方法 ,光镜观测 6例正常和 12例室间隔缺损儿童心房胶原纤维网络构筑。结果  (1)正常心房心肌细胞周围有较细的胶原纤维膜 ,彼此连接成蜂窝状。粗的胶原纤维包绕着若干个心肌细胞 ,分割形成心肌细胞群 ,细纤维以粗纤维为支架 ,编织成纤细的胶原网。(2 )室间隔缺损儿童心房胶原纤维的形态构筑与正常基本相似 ,但部分区域胶原纤维发生重排、消失或出现大量的不规则斑块及团块。 (3 )数字图像分析表明 ,室间隔缺损组胶原纤维的含量均较正常明显增多 (P <0 .0 1)。结论 室间隔缺损儿童心房胶原纤维部分区域明显改变 ,含量显著增加。 展开更多
关键词 胶原纤维 组织学 数字图像分析 室间隔缺损 心脏
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位错类型对GaN基蓝光LED光效衰减效应的影响 被引量:3
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作者 朱学亮 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第8期597-601,616,共6页
蓝光LED的光效衰减可以使器件在高电流密度下的发光效率急剧降低。研究了GaN材料中不同位错类型对蓝光LED光效衰减效应的影响。通过控制物理气相沉积AlN缓冲层厚度及GaN缓冲层的有无,得到了两组不同螺位错和刃位错密度的GaN样品,其中螺... 蓝光LED的光效衰减可以使器件在高电流密度下的发光效率急剧降低。研究了GaN材料中不同位错类型对蓝光LED光效衰减效应的影响。通过控制物理气相沉积AlN缓冲层厚度及GaN缓冲层的有无,得到了两组不同螺位错和刃位错密度的GaN样品,其中螺位错密度为1.5×107~1×108 cm-2,而刃位错密度为2×108~7×108 cm-2。LED芯片测试结果表明,外量子效率维持率随着螺位错密度的增加而提升,从46.1%增加到54.9%;但随着刃位错密度的增加而降低。刃位错是非辐射复合中心,会加剧高电流密度下的光效衰减效应;而螺位错不是明显的非辐射复合中心,较高的螺位错密度可以改善LED的光效衰减效应。因此可以通过适当增加螺位错密度来提升LED的外量子效率。 展开更多
关键词 光效衰减 GAN基LED 外量子效率 位错 v型缺陷
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不同方案治疗前牙残根Ⅴ类缺损的临床疗效观察
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作者 卢勇士 《中国现代药物应用》 2023年第14期47-49,共3页
目的观察不同方案治疗前牙残根Ⅴ类缺损的临床疗效。方法180例前牙残根Ⅴ类缺损患者,按照治疗方案的不同分为对照组及研究组,各90例。研究组接受种植修复治疗,对照组接受残根保存修复治疗。比较两组修复后6、12个月的修复体稳定性评分... 目的观察不同方案治疗前牙残根Ⅴ类缺损的临床疗效。方法180例前牙残根Ⅴ类缺损患者,按照治疗方案的不同分为对照组及研究组,各90例。研究组接受种植修复治疗,对照组接受残根保存修复治疗。比较两组修复后6、12个月的修复体稳定性评分、修复体牙周组织健康状况评分、修复体美学效果评分、口腔健康影响程度评分及修复效果。结果修复后12个月,研究组修复体稳定性评分(0.46±0.11)分、修复体牙周组织健康状况评分(0.55±0.05)分及口腔健康影响程度评分(0.38±0.04)分均低于对照组的(0.86±0.17)、(0.94±0.06)、(0.94±0.06)分,修复体美学效果评分(21.96±1.71)分高于对照组的(18.75±1.36)分,差异具有统计学意义(P<0.05)。修复后6个月,两组修复成功率比较,差异无统计学意义(P>0.05);修复后12个月,研究组修复成功率98.89%高于对照组的91.11%,差异具有统计学意义(P<0.05)。结论前牙残根Ⅴ类缺损患者采用种植修复治疗、残根保存修复治疗均可获得较好的近期修复效果,在远期修复效果比较中,种植修复治疗更具有优势,值得临床推广。 展开更多
关键词 种植修复 残根保存修复 前牙残根Ⅴ类缺损 修复体稳定性 修复体牙周组织健康状况 修复效果
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应用DyractAP修复前牙切缘V形缺损
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作者 刘正刚 刘莉娟 曹慧琴 《中国美容医学》 CAS 2005年第2期201-202,i007,共3页
目的:寻找一种少磨牙体修复前牙切缘V形缺损的方法。方法:采用登士柏公司生产的Prime & Bond NT粘结剂和DyractAP复合体修复前牙切缘V形缺损。结果:半年内修复成功率95.93%,二年后成功率为88.62%。结论:DyractAP粘结性强、耐磨、色... 目的:寻找一种少磨牙体修复前牙切缘V形缺损的方法。方法:采用登士柏公司生产的Prime & Bond NT粘结剂和DyractAP复合体修复前牙切缘V形缺损。结果:半年内修复成功率95.93%,二年后成功率为88.62%。结论:DyractAP粘结性强、耐磨、色泽好,适用于前牙切缘V形缺损的修复。 展开更多
关键词 前牙 切缘v形缺损 DYRACT AP
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