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靶电流对非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的影响
被引量：
5
1
作者
刘衡平
徐均琪
严一心
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期8-10,53,共4页
利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究。试验结果表明:随着靶电流的增...
利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究。试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小。靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素。
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关键词
非平衡磁控溅射
类金刚石
性能
结构
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职称材料
题名
靶电流对非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的影响
被引量：
5
1
作者
刘衡平
徐均琪
严一心
机构
西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期8-10,53,共4页
基金
西安市科技创新支撑计划项目(YF07051)
陕西省科技计划项目(2007K07-17)
文摘
利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究。试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小。靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素。
关键词
非平衡磁控溅射
类金刚石
性能
结构
Keywords
unbalance
magnetron
sputtering
（
ubms
）
Diamond-like
carbon
（DLC）
Properties
Structures
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
O484.4 [金属学及工艺—金属学]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
靶电流对非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的影响
刘衡平
徐均琪
严一心
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
5
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职称材料
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