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氟化物玻璃中Tm^(3+)离子敏化Ho^(3+)离子的红外发光性质 被引量:5
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作者 李毛和 祁长鸿 +1 位作者 林凤英 胡和方 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第10期1454-1458,共5页
研究了氟化物玻璃中Tm3+和Ho3+离子的红外吸收光谱性质。用钛宝石激光器作为激发源,研究了Tm3+离子的交叉弛豫过程和Tm3+敏化Ho3+的2μm的红外发射光谱。研究结果表明:只有当Tm3+离子浓度较高(~2wt%... 研究了氟化物玻璃中Tm3+和Ho3+离子的红外吸收光谱性质。用钛宝石激光器作为激发源,研究了Tm3+离子的交叉弛豫过程和Tm3+敏化Ho3+的2μm的红外发射光谱。研究结果表明:只有当Tm3+离子浓度较高(~2wt%)时,才能发生较强的交叉弛豫过程:随Ho3+离子浓度的增加,2μm的发光强度增大;当激发光波长为813nm时。 展开更多
关键词 氟化物玻璃 红外光谱 三氟化铥 红外发光
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ZnS:TmF_3薄膜电致发光特性的研究 被引量:1
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作者 苑庆国 杨胜 +1 位作者 何大伟 成正维 《北方交通大学学报》 CSCD 北大核心 2001年第3期70-72,共3页
为了提高蓝色薄膜电致发光器件 (TFEL)的发光亮度 ,自行配制了氟化铥 (TmF3) ,并制备了以ZnS :TmF3为发光层的薄膜电致发光器件 ,研究了TmF3的掺杂浓度对ZnS :TmF3发光器件发光特性的影响 .实验结果显示 ,当掺杂浓度为 1.2 %mol时 。
关键词 薄膜电致发光 氟化铥 掺杂浓度 硫化锌 发光强度 显示技术
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融合网络的故障管理接口技术研究
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作者 袁静 梁双春 《互联网天地》 2013年第9期26-32,共7页
结合NGMN、3GPP、TMF国际3大标准组织在融合网络故障管理方面的研究进展,在分析融合网络故障管理接口需求以及3GPP、TMF故障管理接口差异性的基础上,根据中国移动融合网络故障管理需求,研究并提出融合网络故障管理接口和信息模型技术。
关键词 融合网络 NGMN 3GPP tmf 故障管理接口 信息模型
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射频磁控溅射CaS∶TmF_3薄膜的电致发光及其激发过程的研究
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作者 孙甲明 钟国柱 +1 位作者 范希武 郑陈玮 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第1期31-35,共5页
首次报道了射频磁控溅射CaS∶TmF3薄膜的蓝色交流电致发光.电致发光谱包含位于480、653、703和803nm的四组发光峰,分别对应着三价Tm3+离子的1G4→3H6、1G4→3H4、3F3→3H6和3F4→3H... 首次报道了射频磁控溅射CaS∶TmF3薄膜的蓝色交流电致发光.电致发光谱包含位于480、653、703和803nm的四组发光峰,分别对应着三价Tm3+离子的1G4→3H6、1G4→3H4、3F3→3H6和3F4→3H6的电子跃迁发光.通过对CaS∶TmF3粉末的激发光谱的研究,我们发现由于蓝峰和红外峰的激发峰的能量不同导致不同能量的光子激发下的光致发光光谱的红外/蓝峰的强度比有较大的差别.通过对电致发光光谱中红外/蓝峰强度比与不同波长的激发光激发下CaS∶TmF3粉末的光致发光光谱的红外/蓝峰强度比的对比研究,我们判断主要激发过程为从基质到Tm3+中心的能量传递. 展开更多
关键词 电致发光 硫化钙 氟化铥 磁控溅射 激发过程
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3TMF排序问题的计算复杂性及分支定界算法 被引量:1
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作者 吕绪华 粟勤农 胡荣 《数学杂志》 CSCD 北大核心 2008年第6期659-662,共4页
本文研究了TMF排序问题是NP-完全问题.利用混合定界方法,获得了求解该模型的分支定界算法,改进了复合并行机排序模型和装配式流水作业排序模型.
关键词 3tmf排序问题 NP-完全问题 分支定界法
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