期刊导航
期刊开放获取
cqvip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
制备工艺参数对TiN_x/Ag/TiN_x低辐射膜性能的影响
被引量：
2
1
作者
蒋攀
黄佳木
+1 位作者
郝晓培
董思勤
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第22期87-91,共5页
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能。结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm...
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能。结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm(氮气流量为55sccm)、Ag层厚度为16nm时,制备的低辐射膜系具有优良的透过率、低辐射性能和耐腐蚀性能。
展开更多
关键词
磁控溅射
tinx
/
ag
/
tinx
低辐射
耐腐蚀性能
透过率
下载PDF
职称材料
题名
制备工艺参数对TiN_x/Ag/TiN_x低辐射膜性能的影响
被引量：
2
1
作者
蒋攀
黄佳木
郝晓培
董思勤
机构
重庆大学材料科学与工程学院
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第22期87-91,共5页
基金
科技部863计划项目(2008AA031101)
文摘
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能。结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm(氮气流量为55sccm)、Ag层厚度为16nm时,制备的低辐射膜系具有优良的透过率、低辐射性能和耐腐蚀性能。
关键词
磁控溅射
tinx
/
ag
/
tinx
低辐射
耐腐蚀性能
透过率
Keywords
m
ag
netron sputtering,
tinx
/
ag
/
tinx
, low-E, corrosion-resistance, optical property
分类号
TB43 [一般工业技术]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
制备工艺参数对TiN_x/Ag/TiN_x低辐射膜性能的影响
蒋攀
黄佳木
郝晓培
董思勤
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
2
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
