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偏压对TiBN纳米复合涂层结构及力学性能的影响 被引量:1
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作者 刘怡飞 李助军 +2 位作者 李兆南 蔡海鉴 田灿鑫 《装备制造技术》 2019年第5期61-63,92,共4页
采用多弧离子镀技术,在单晶硅和硬质合金衬底上制备Ti-B-N涂层,使用XRD,SEM,硬度计和划痕仪系统研究了偏压对TiBN涂层结构、表面形貌、硬度和附着力的影响。在不同的基体偏压下,涂层表现了(111)面择优生长。-100V偏压时沉积的TiBN涂层... 采用多弧离子镀技术,在单晶硅和硬质合金衬底上制备Ti-B-N涂层,使用XRD,SEM,硬度计和划痕仪系统研究了偏压对TiBN涂层结构、表面形貌、硬度和附着力的影响。在不同的基体偏压下,涂层表现了(111)面择优生长。-100V偏压时沉积的TiBN涂层表面最平滑。随着基体偏压升高,TiBN涂层硬度逐渐增大,膜基结合力逐渐减小。-200V制备的TiBN涂层硬度最大3600HV,-50V制备的TiBN涂层膜基结合力接近40N。 展开更多
关键词 多弧离子镀 tibn纳米复合层 硬度 附着力
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