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磁控溅射制备(Ti,Al,Cr)N硬质薄膜及其力学性能的研究 被引量：4
1
作者 宋庆功 程立军 《真空》 CAS 北大核心 2009年第5期26-29,共4页
用反应磁控溅射的方法通过改变Cr靶溅射功率在不锈钢基体上沉积不同Cr含量TiAlCrN薄膜。采用台阶仪测量薄膜厚度;采用纳米压痕仪测量薄膜的硬度、弹性模量和薄膜与基体的结合力。沉积的TiAlCrN薄膜随着Cr含量增加,薄膜硬度先增大,而后减... 用反应磁控溅射的方法通过改变Cr靶溅射功率在不锈钢基体上沉积不同Cr含量TiAlCrN薄膜。采用台阶仪测量薄膜厚度;采用纳米压痕仪测量薄膜的硬度、弹性模量和薄膜与基体的结合力。沉积的TiAlCrN薄膜随着Cr含量增加,薄膜硬度先增大,而后减小;TiAlCrN薄膜的第一临界载荷和第二临界载荷均随Cr含量增加而增大。 展开更多
关键词 反应磁控共溅射 tiaicrn薄膜 硬度 临界载荷
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