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氮流量对采用独立钛靶制备的(Ti,Al)N薄膜结构与性能的影响 被引量：2
1
作者 黄晓辉 左秀荣 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期395-400,共6页
采用直流反应磁控溅射系统,选择独立Ti靶在3003AlMn合金表面在不同氮流量下制备(Ti,Al)N薄膜,采用扫描电镜、能谱分析、X射线衍射、极化曲线试验、磨损试验、薄膜厚度和显微硬度试验等手段表征了薄膜的沉积速率、化学成分、微结构和力... 采用直流反应磁控溅射系统,选择独立Ti靶在3003AlMn合金表面在不同氮流量下制备(Ti,Al)N薄膜,采用扫描电镜、能谱分析、X射线衍射、极化曲线试验、磨损试验、薄膜厚度和显微硬度试验等手段表征了薄膜的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能。结果表明,以独立Ti靶在铝衬底表面可以直接生成晶粒尺寸细小与基底结合良好的(Ti,Al)N薄膜,同时可以增加铝合金的表面硬度,提高表面耐蚀性能及表面光泽度。氮流量对(Ti,Al)N薄膜影响显著,氮流量为7cm3/min时制备的(Ti,Al)N薄膜晶粒最细小、致密,小尺寸纳米化的晶粒对提高3003AlMn合金耐磨损性和耐蚀性最佳,但沉积速率低,硬度增幅小。 展开更多
关键词 直流反应磁控溅射 3003AlMn合金 ti靶 氮流量
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Ti靶电流对CrTiAlN镀层组织结构及硬度的影响 被引量：6
2
作者 贠柯 蒋百灵 白力静 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期149-153,共5页
利用磁控溅射技术在高速钢和单晶硅基体上沉积CrTiAlN梯度镀层,研究Ti靶电流对CrTiAlN镀层组织、相结构及硬度的影响。利用EDS、XRD和SEM分析镀层的成分、相结构及形貌,采用显微硬度计测量镀层的硬度。结果表明:随着Ti靶电流的增大,镀... 利用磁控溅射技术在高速钢和单晶硅基体上沉积CrTiAlN梯度镀层,研究Ti靶电流对CrTiAlN镀层组织、相结构及硬度的影响。利用EDS、XRD和SEM分析镀层的成分、相结构及形貌,采用显微硬度计测量镀层的硬度。结果表明:随着Ti靶电流的增大,镀层中的Ti原子逐渐置换CrN中的Cr原子形成Cr-Ti-N体系,同时出现少量的TiN相;镀层生长的择优取向由(111)晶面逐渐转变为(200)晶面;镀层柱状晶的结构更为致密,其表面形貌由三棱锥结构逐步变为胞状结构;随Ti靶电流的增大,镀层硬度逐渐由1267HV升至1876HV。 展开更多
关键词 ti靶电流 CrtiAlN镀层 组织结构 硬度
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MoS_2/Ti复合膜的制备和性能
3
作者 李永良 Kin Sunkyu 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1308-1310,共3页
为了克服MoS2薄膜在大气环境下极易氧化失效且耐磨性能差的缺点,采用非平衡直流磁控溅射技术制备了MoS2/Ti复合膜,研究了Ti靶电流对复合膜结构和性能的影响。电子探针(EPMA)测定表明,膜中Ti的含量随着Ti靶电流的增加而增加。场发射扫描... 为了克服MoS2薄膜在大气环境下极易氧化失效且耐磨性能差的缺点,采用非平衡直流磁控溅射技术制备了MoS2/Ti复合膜,研究了Ti靶电流对复合膜结构和性能的影响。电子探针(EPMA)测定表明,膜中Ti的含量随着Ti靶电流的增加而增加。场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)对膜的表面和截面形貌观察发现,膜的表面由尺寸为几十～几百纳米的颗粒组成,而膜的截面呈柱状晶结构。膜的致密性和Ti靶电流有关,电流越高,膜的致密性越好,从而膜的硬度也越高。 展开更多
关键词 MoS2/ti复合膜 直流磁控溅射 ti靶电流 性能
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8—9.5 keV正电子致Ti的K壳层电离截面的实验研究 被引量：2
4
作者 钱宇瑞 吴英 +5 位作者 杨夏童 陈秋香 尤俊栋 王宝义 况鹏 张鹏 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第19期110-116,共7页
低能正电子碰撞原子内壳层电离截面的实验数据目前还很缺乏,从而影响了对近年来发展的各相关理论模型的检验,限制了慢正电子束流技术在诸多领域中的应用.本文采用慢正电子束流装置产生的8—9.5 keV正电子束碰撞纯厚Ti靶,利用硅漂移探测... 低能正电子碰撞原子内壳层电离截面的实验数据目前还很缺乏,从而影响了对近年来发展的各相关理论模型的检验,限制了慢正电子束流技术在诸多领域中的应用.本文采用慢正电子束流装置产生的8—9.5 keV正电子束碰撞纯厚Ti靶,利用硅漂移探测器(SDD)收集正电子碰撞Ti靶产生的X射线,同时采用高纯锗探测器在线获得与靶碰撞的入射正电子数,从而得到Ti的K壳层实验产额,并基于蒙特卡罗模拟程序PENELOPE获得模拟产额.将实验产额分别与内壳层电离截面数据库采用经典光学数据模型(ODM)和扭曲波玻恩近似理论模型(DWBA)的蒙特卡罗模拟产额进行对比,发现基于ODM理论模型的模拟产额与实验值有较大的偏差,基于DWBA理论模型的模拟产额与实验结果符合较好.根据实验产额和基于DWBA理论模型的模拟产额的比较结果,对蒙特卡罗模拟程序使用的DWBA理论模型数据库进行修正后再进行模拟和比较,从而得到可靠的8—9.5 keV正电子致Ti原子K壳层电离截面数据. 展开更多
关键词 正电子碰撞厚ti靶 K壳层电离 蒙特卡罗模拟 扭曲波玻恩近似理论模型
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非超高本底真空条件下沉积低氧含量ZrB2薄膜 被引量：1
5
作者 王倩 夏虎峰 +1 位作者 董战胜 田广科 《真空与低温》 2020年第2期96-100,共5页
磁控溅射制备易氧化质薄膜一般需要超高本底真空条件,而超高真空条件在大面积、大批量镀膜工程中存在成本过高或较难实现的问题。通过在磁控溅射镀膜室内部附加1套辅助Ti靶,利用从Ti靶溅射出的Ti原子对氧的亲合作用,消耗镀膜腔内残余气... 磁控溅射制备易氧化质薄膜一般需要超高本底真空条件,而超高真空条件在大面积、大批量镀膜工程中存在成本过高或较难实现的问题。通过在磁控溅射镀膜室内部附加1套辅助Ti靶,利用从Ti靶溅射出的Ti原子对氧的亲合作用,消耗镀膜腔内残余气氛特别是氧的含量,以期能够达到近似超高本底真空条件下的镀膜效果。以磁控溅射制备ZrB2薄膜为研究对象,对比研究了辅助Ti靶开启与否对制成ZrB2薄膜成分与微观组织及性能的影响,发现在相同的工艺条件下,辅助Ti靶开启可使ZrB2薄膜中的O含量由辅助Ti靶不开启的24.77 at.%降低为2.94 at.%;组织结构与性能对比分析结果表明,Ti靶不开启制成的高O含量ZrB2薄膜呈非晶结构,电阻率为682μΩ·cm,而Ti靶开启制成的低O含量ZrB2薄膜为多晶结构,电阻率降低至348μΩ·cm。 展开更多
关键词 非超高本底真空 磁控溅射 辅助ti靶 ZrB2薄膜 低含氧量
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Ti靶电流对CrTiAlN涂层摩擦磨损性能的影响 被引量：1
6
作者 罗艳艳 施雯 万紫 《上海金属》 CAS 北大核心 2019年第2期76-80,85,共6页
在不同Ti靶电流下,采用非平衡磁控溅射技术在SDC99冷作模具钢表面制备CrTiAlN涂层。采用X射线衍射仪、原位纳米力学测试系统和摩擦磨损试验机等测试分析了Ti靶电流对涂层的相结构、力学性能及摩擦磨损性能的影响。结果表明:随着Ti靶电... 在不同Ti靶电流下,采用非平衡磁控溅射技术在SDC99冷作模具钢表面制备CrTiAlN涂层。采用X射线衍射仪、原位纳米力学测试系统和摩擦磨损试验机等测试分析了Ti靶电流对涂层的相结构、力学性能及摩擦磨损性能的影响。结果表明:随着Ti靶电流的增加,涂层的厚度及Ti含量呈非线性增加,涂层的纳米硬度与弹性模量分别增至26.08与302.86 GPa,Cr(Ti,Al) N涂层均为单相fcc结构;在Ti靶电流4 A下沉积的涂层的摩擦磨损性能最好,干摩擦因数和磨损率分别为不含Ti涂层的69.77%和65.31%;油磨26 h后磨损率为不含Ti涂层的25.67%,磨损机制为磨粒磨损与疲劳磨损的综合。 展开更多
关键词 ti靶电流 冷作模具钢 CrtiAlN涂层 摩擦磨损
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