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新型回光反射标志的工业摄影测量精度测试
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作者 豆世豪 黄高爽 +2 位作者 王伟峰 黄桂平 王新萍 《宇航计测技术》 CSCD 2022年第6期34-40,共7页
针对传统型回光反射标志圆度差造成的测量精度低的问题,设计了一种新型回光反射标志,即将圆度误差较小的圆孔模切片覆盖到玻璃微珠反光膜上制作而成,并通过测试得出新型回光反射标志比传统型回光反射标志的圆度误差平均减少了0.03 mm。... 针对传统型回光反射标志圆度差造成的测量精度低的问题,设计了一种新型回光反射标志,即将圆度误差较小的圆孔模切片覆盖到玻璃微珠反光膜上制作而成,并通过测试得出新型回光反射标志比传统型回光反射标志的圆度误差平均减少了0.03 mm。建立了新型回光反射标志的像点中心定位模型,分析了模切片的厚度对像点中心定位精度的影响,并从内符合精度和外符合精度两方面对新型回光反射标志进行精度评估。试验结果表明,新型回光反射标志相对于传统型回光反射标志重复性测量精度与标准长度测量精度分别提高了25.0%和28.1%,证明了新型回光反射标志较高的测量性能。 展开更多
关键词 工业摄影测量 回光反射标志 标志圆度 内符合精度 外符合精度
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