期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到203篇文章
< 1 2 … 11 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
偏压对电弧离子镀薄膜表面形貌的影响机理 被引量：47
1
作者 黄美东 林国强 +2 位作者 董闯 孙超 闻立时 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期510-515,共6页
在不同偏压下用电弧离子镀沉积TiN薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜表面大颗粒污染情况,并分析偏压对大颗粒的影响。结果表明,偏压对大颗粒的影响主要来自电场的排斥作用。直流偏压下,等离子体鞘层基本稳定,电子对大颗粒表面充电... 在不同偏压下用电弧离子镀沉积TiN薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜表面大颗粒污染情况,并分析偏压对大颗粒的影响。结果表明,偏压对大颗粒的影响主要来自电场的排斥作用。直流偏压下,等离子体鞘层基本稳定,电子对大颗粒表面充电能力很弱,而脉冲偏压下,由于鞘层厚度不断变化,大颗粒不断进出于鞘层,电子对大颗粒表面的充电能力强,使其所带负电荷明显增多,受到基体的排斥力变大,大颗粒不易沉积到基体而使薄膜形貌得到有效改善。 展开更多
关键词 偏压 电弧离子镀 tin薄膜 表面形貌
下载PDF
脉冲偏压电弧离子低温沉积TiN硬质薄膜的力学性能 被引量：35
2
作者 黄美东 孙超 +2 位作者 林国强 董闯 闻立时 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期516-520,共5页
利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能。结果表明,与直流偏压相比,脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度,大大减少薄膜表面的大颗粒污染,改善表面形貌,而薄膜的... 利用直流和脉冲偏压电弧离子镀技术沉积TiN硬质薄膜,研究了不同偏压下基体的沉积温度、薄膜的表面形貌及力学性能。结果表明,与直流偏压相比,脉冲偏压可以明显降低基体的沉积温度,大大减少薄膜表面的大颗粒污染,改善表面形貌,而薄膜的综合力学性能仍保持良好,说明利用脉冲偏压技术是实现电弧离子镀低温沉积的有效途径。 展开更多
关键词 电弧离子镀 低温沉积 脉冲偏压 tin薄膜
下载PDF
TiN薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展 被引量：40
3
作者 季鑫 宓一鸣 周细应 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2009年第4期81-84,共4页
综述了TiN薄膜的制备方法及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种TiN薄膜的制备方法,评述了各种制备工艺的优缺点。介绍了TiN薄膜在超硬耐磨、耐腐蚀等方面研究的新进展,最后对TiN薄膜的... 综述了TiN薄膜的制备方法及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种TiN薄膜的制备方法,评述了各种制备工艺的优缺点。介绍了TiN薄膜在超硬耐磨、耐腐蚀等方面研究的新进展,最后对TiN薄膜的应用范围和领域作了展望。 展开更多
关键词 tin薄膜 气相沉积 激光熔融 离子镀
下载PDF
脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜摩擦磨损特性研究 被引量：24
4
作者 马胜利 马大衍 +2 位作者 王昕 徐可为 介万奇 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期179-182,共4页
对比研究了脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜的摩擦磨损特性,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪及销-盘摩擦磨损试验机分析薄膜形貌和结合力,考察了不同沉积条件下2种薄膜的摩擦磨损过程及其影响因素.结果表明,TiCN薄膜具有... 对比研究了脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积TiN和TiCN薄膜的摩擦磨损特性,用扫描电子显微镜、X射线衍射仪及销-盘摩擦磨损试验机分析薄膜形貌和结合力,考察了不同沉积条件下2种薄膜的摩擦磨损过程及其影响因素.结果表明,TiCN薄膜具有较高硬度、良好的膜基结合力,相对于TiN薄膜而言表现出更低的摩擦系数和更好的耐磨性能.在实际使用中应注重成分和结构优化设计,以保证薄膜具有良优良的减摩性能. 展开更多
关键词 硬质薄膜 PCVD 结合力 摩擦磨损性能 脉冲直流等离子体辅助化学气相沉积 tin薄膜 TiCN薄膜
下载PDF
电弧离子镀TiN薄膜中的缺陷及其形成原因 被引量：22
5
作者 史新伟 邱万奇 刘正义 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第1期43-46,共4页
分析了电弧离子镀(AIP)TiN薄膜中的主要缺陷-熔滴、孔洞和疏松等。结果表明:这些缺陷存在于晶内、晶界或者贯穿于整个薄膜;缺陷的存在极大地影响了薄膜的性能;缺陷密度与镀膜方法及具体的工艺参数有密切关系;使用磁过滤器镀制薄膜可显... 分析了电弧离子镀(AIP)TiN薄膜中的主要缺陷-熔滴、孔洞和疏松等。结果表明:这些缺陷存在于晶内、晶界或者贯穿于整个薄膜;缺陷的存在极大地影响了薄膜的性能;缺陷密度与镀膜方法及具体的工艺参数有密切关系;使用磁过滤器镀制薄膜可显著减少上述缺陷,从而提高薄膜的各种性能。认为使用磁过滤器镀制TiN及其各种复合或多层薄膜是一种切实有效的方法,是今后制备高性能TiN及其复合膜的发展方向,另外,缩短脉冲电弧在高值时的时间,用人工来减少薄膜缺陷也是一种行之有效的方法。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin薄膜 缺陷 磁过滤器
下载PDF
内表面栅极等离子体源离子注入TiN薄膜及其特性研究 被引量：17
6
作者 张谷令 王久丽 +3 位作者 杨武保 范松华 刘赤子 杨思泽 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第9期2213-2218,共6页
阐述了栅极增强等离子体源离子注入 (GEPSII)方法的基本思想 .利用GEPSII方法在 4 5号钢基底上生成了金黄色氮化钛 (TiNx)膜 .对不同条件下的TiN膜做电化学腐蚀 ,XPS ,AES ,XRD等分析 .电化学腐蚀实验显示TiN薄膜改善了 4 5号钢的耐腐... 阐述了栅极增强等离子体源离子注入 (GEPSII)方法的基本思想 .利用GEPSII方法在 4 5号钢基底上生成了金黄色氮化钛 (TiNx)膜 .对不同条件下的TiN膜做电化学腐蚀 ,XPS ,AES ,XRD等分析 .电化学腐蚀实验显示TiN薄膜改善了 4 5号钢的耐腐蚀性能 5— 10倍 ,且在高气压下效果更好 .结构分析显示TiN膜含有TiO2 ,TiN成分 ,主要沿( 111)和 ( 2 0 0 )晶向生长 ,深度分析显示膜的厚度只有二十几纳米 。 展开更多
关键词 腐蚀 栅极增强等离子体源离子注入 tin薄膜 氮化钛薄膜 GEPSⅡ 45号钢 内表面处理
原文传递
空心阴极离子镀TiAlN复合薄膜结构及抗氧化性能的研究 被引量：16
7
作者 李明升 陈柯伟 +1 位作者 王福会 徐家寅 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第z1期411-414,486,共5页
利用IPB30 / 30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例 ,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜 ;电子探针分析结果表明涂层为内层富铝 ,外层富TiN的梯度涂层 ;X -ray衍射分析表明 ,薄膜相结构主要为δ -TiN的B1NaCl结... 利用IPB30 / 30T型空心阴极离子镀膜机并改变蒸发源料中Ti、Al的比例 ,在不锈钢表面沉积了不同Al含量的TiAlN薄膜 ;电子探针分析结果表明涂层为内层富铝 ,外层富TiN的梯度涂层 ;X -ray衍射分析表明 ,薄膜相结构主要为δ -TiN的B1NaCl结构 ,薄膜的择优取向随着镀料中Al含量的增加由 (111)向 (2 2 0 )转变 .与TiN相似 ,TiAlN薄膜为柱状晶结构 ,但Al的引入使薄膜中使针孔数量和直径减小 ,致密性改善 .6 0 0℃～ 80 0℃下静态空气中恒温氧化实验表明 ,TiN和TiAlN薄膜氧化时都在表面形成金红石结构的TiO2 ,但添加Al的薄膜具有比TiN薄膜更好的抗氧化性 .扫描电镜观察表明 ,添加Al的薄膜表面的氧化膜平整致密 ,无孔洞 ;而TiN薄膜在氧化过程中形成数量众多的孔洞 .6 0 0℃时在NaCl和水蒸气的综合作用下 ,不锈钢基体材料腐蚀严重 ,TiN涂层对不锈钢基体有一定的保护作用 ,但其表面腐蚀产物部分脱落 ,出现大量的腐蚀空洞 ,而TiAlN涂层表面腐蚀产物均匀致密 ,无明显空洞 . 展开更多
关键词 空心阴极离子镀 tin薄膜 TIALN薄膜 针孔 空洞 抗氧化性
下载PDF
磁控溅射TiN薄膜工艺参数对显微硬度的影响 被引量：12
8
作者 徐哲 席慧智 阮霞 《应用科技》 CAS 2007年第5期1-3,15,共4页
测试了各种工艺参数下磁控溅射制备TiN薄膜的显微硬度,并研究了TiN薄膜硬度随偏压、N2流量及溅射功率的变化.实验结果表明:N2流量对薄膜性能和结构影响较大,随着N2流量的增加,氮化钛薄膜的硬度先急剧上升,到15 mL/s时达到最大值,然后氮... 测试了各种工艺参数下磁控溅射制备TiN薄膜的显微硬度,并研究了TiN薄膜硬度随偏压、N2流量及溅射功率的变化.实验结果表明:N2流量对薄膜性能和结构影响较大,随着N2流量的增加,氮化钛薄膜的硬度先急剧上升,到15 mL/s时达到最大值,然后氮化钛薄膜硬度平缓下降,在无偏压的情况下,氮化钛薄膜的硬度很低,加偏压后,由于离子轰击作用,薄膜硬度增加,但过高的负偏压反而会降低氮化钛薄膜硬度. 展开更多
关键词 tin薄膜 磁控溅射 显微硬度
下载PDF
脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响 被引量：12
9
作者 曾鹏 胡社军 +2 位作者 谢光荣 黄拿灿 吴起白 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期62-66,共5页
研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响。结果表明脉冲偏压幅值在50 0～ 1 70 0V ,脉宽比在 1 2 5～ 2 5的范围内 ,沉积温度低于 2 50℃时膜层组织主要由Ti2 N和TiN相构成 ,随脉冲偏压幅值和脉宽比的增大 ,晶面的择尤... 研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响。结果表明脉冲偏压幅值在50 0～ 1 70 0V ,脉宽比在 1 2 5～ 2 5的范围内 ,沉积温度低于 2 50℃时膜层组织主要由Ti2 N和TiN相构成 ,随脉冲偏压幅值和脉宽比的增大 ,晶面的择尤沉积由Ti2 N( 2 0 0 )向 ( 0 0 2 )转变 ,柱状晶生长程度减弱。膜层具有较高的显微硬度和耐磨性 ,但在过高的脉冲偏压和脉宽比的沉积条件下 ,膜层的性能有下降的趋势。 展开更多
关键词 脉冲偏压 真空电弧沉积 tin薄膜 组织性能
下载PDF
低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能比较 被引量：13
10
作者 白秀琴 李健 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2006年第1期12-15,20,共5页
采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能。试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜相... 采用低温磁控溅射和普通多弧离子镀分别在冷作模具钢基体上制备了TiN薄膜,用纳米压痕法测量了薄膜的表面硬度,并比较了低温磁控溅射与普通多弧离子镀TiN薄膜的摩擦学性能。试验表明,低温磁控溅射TiN薄膜具有与普通多弧离子镀TiN薄膜相近的表面硬度,在多种试验条件下,低温磁控溅射TiN薄膜都有较好的摩擦学性能,摩擦副的磨损率低,摩擦因数小且变化平稳,磨损表面光滑。 展开更多
关键词 低温磁控溅射 多弧离子镀 tin薄膜 摩擦学性能
下载PDF
基体材料对TiN薄膜表面液滴及薄膜结合力的影响 被引量：16
11
作者 龚才 代明江 +2 位作者 陈明安 韦春贝 侯惠君 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期27-33,共7页
采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5MoSiV1(H13)模具钢、Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金4种基体表面沉积TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)对薄膜表面液滴进行观察分析,通过划痕仪对薄膜的膜/基结合力进行表征。... 采用真空阴极电弧离子镀技术分别在4Cr5MoSiV1(H13)模具钢、Cr18Ni9Ti(304)不锈钢、YG6硬质合金、Ti6Al4V(TC4)钛合金4种基体表面沉积TiN薄膜。利用扫描电镜(SEM)对薄膜表面液滴进行观察分析,通过划痕仪对薄膜的膜/基结合力进行表征。结果表明:基体材料不同,TiN薄膜上液滴的密度、尺寸存在明显的区别。其中,镀膜后H13钢和304不锈钢表面的液滴数量最多,YG6硬质合金次之,TC4钛合金最少;薄膜的膜/基结合强度依次为YG6硬质合金>H13钢>304不锈钢>TC4钛合金。 展开更多
关键词 真空阴极电弧离子镀 tin薄膜 液滴 膜 基结合力
下载PDF
磁控溅射TiN薄膜的工艺及电学性能研究 被引量：14
12
作者 胡敏 刘莹 +2 位作者 赖珍荃 刘倩 朱秀榕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第2期222-225,共4页
采用反应直流磁控溅射法，在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar／N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响，并对试验结果进行了分析。研究发现，在Ar／N2气体流量比为15：1时，TiN薄膜的表面均方根粗糙度和... 采用反应直流磁控溅射法，在Si基底上制备TiN薄膜。研究了溅射沉积过程申溅射气压和Ar／N2气体流量比对TiN薄膜结构及其电学性能的影响，并对试验结果进行了分析。研究发现，在Ar／N2气体流量比为15：1时，TiN薄膜的表面均方根粗糙度和电阻率都为最小。当溅射气压增大时，薄膜厚度减小。当溅射气压为0．3～0．5Pa时，薄膜表面较光滑，电阻率较小。 展开更多
关键词 tin薄膜 磁控溅射 氩气/氮气流量比 溅射气压 电学性能
下载PDF
含TiN中间层IrO_2-Ta_2O_5涂层钛阳极的电催化性能 被引量：13
13
作者 叶张军 甘永平 +2 位作者 张文魁 黄辉 陶新永 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1473-1479,共7页
采用钛片在氮气中700℃退火的方法,在钛片表面原位生成TiN薄膜,并以此为基体采用热分解法制备IrO2-Ta2O5涂层钛阳极。研究含TiN中间层IrO2-Ta2O5涂层钛阳极及传统IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的开路电位、析氧行为、循环伏安和电化学阻抗等性... 采用钛片在氮气中700℃退火的方法,在钛片表面原位生成TiN薄膜,并以此为基体采用热分解法制备IrO2-Ta2O5涂层钛阳极。研究含TiN中间层IrO2-Ta2O5涂层钛阳极及传统IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的开路电位、析氧行为、循环伏安和电化学阻抗等性能。结果表明:含TiN中间层IrO2-Ta2O5涂层钛阳极具有非连续状裂纹结构,且表面生长出大量IrO2纳米晶体,其电催化析氧性能优于传统IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的电催化析氧性能;涂层烧结温度越低,电化学性能越好;当烧结温度低于500℃时,TiN中间层可以显著延长IrO2-Ta2O5涂层钛阳极的工作寿命。 展开更多
关键词 tin薄膜 IrO2-Ta2O5涂层 钛阳极 电催化性能 热处理
下载PDF
磁控溅射TiN薄膜低温沉积技术及其摩擦学性能研究 被引量：10
14
作者 白秀琴 李健 《润滑与密封》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期15-17,21,共4页
利用磁控溅射装置在高速钢基体上制备了TiN薄膜,研究了基体温度升高的原因及其磁控溅射的低温原理,讨论了低温与离子刻蚀、负偏压、磁场强度3个主要溅射工艺参数的关系,并对TiN薄膜的摩擦学性能进行了研究。实验结果表明,离子刻蚀、负... 利用磁控溅射装置在高速钢基体上制备了TiN薄膜,研究了基体温度升高的原因及其磁控溅射的低温原理,讨论了低温与离子刻蚀、负偏压、磁场强度3个主要溅射工艺参数的关系,并对TiN薄膜的摩擦学性能进行了研究。实验结果表明,离子刻蚀、负偏压、磁场强度对低温磁控溅射TiN成膜过程具有较大的影响,所制备的TiN薄膜的耐磨性、配副适应性也较好。 展开更多
关键词 磁控溅射 低温 tin薄膜 摩擦学性能
下载PDF
脉冲偏压对电弧离子镀深管内壁沉积TiN薄膜的影响 被引量：13
15
作者 石昌仑 张敏 林国强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期517-521,共5页
用电弧离子镀设备,分别采用直流偏压和脉冲偏压的沉积工艺,在一端封口的50 mm×200 mm×5 mm的不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜,对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、硬度和磨损性能等随管子深度的变化进行了对比测试。结果表明,两... 用电弧离子镀设备,分别采用直流偏压和脉冲偏压的沉积工艺,在一端封口的50 mm×200 mm×5 mm的不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜,对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、硬度和磨损性能等随管子深度的变化进行了对比测试。结果表明,两种工艺下薄膜的厚度、硬度以及耐磨性能都随管子的深度而下降,但与直流偏压相比,脉冲偏压能够提高薄膜厚度和硬度,减少大颗粒的尺寸和数量,提高耐磨性能;按照硬度不低于20 GPa的标准划分,脉冲偏压使镀膜深度提高了40%,即从直流偏压的50 mm提高到70 mm。 展开更多
关键词 电弧离子镀 tin薄膜 管内壁 脉冲偏压
下载PDF
TiN膜的制备和进展 被引量：10
16
作者 武咏琴 李刘合 +3 位作者 张彦华 胡亚伟 刘佑铭 蔡荀 《新技术新工艺》 北大核心 2004年第12期50-52,共3页
论述了TiN薄膜的常用制备方法,工艺参数对膜结构、性能等的影响,展望了TiN薄膜制备的进一步发展趋势。
关键词 tin薄膜 制备方法 力学性能 工艺参数
下载PDF
激光织构化TiN薄膜的干摩擦性能研究 被引量：13
17
作者 剡珍 孙嘉奕 +3 位作者 姜栋 王德生 权鑫 翁立军 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第4期518-526,共9页
采用固体Nd:YAG激光器对离子镀TiN薄膜进行织构化处理,表征了薄膜的结构、形貌及凹坑织构参数.通过UMT-2往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了织构化薄膜的摩擦磨损特性,研究了织构形貌对TiN薄膜干摩擦条件下摩擦磨损性能的影响.研究结果表... 采用固体Nd:YAG激光器对离子镀TiN薄膜进行织构化处理,表征了薄膜的结构、形貌及凹坑织构参数.通过UMT-2往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了织构化薄膜的摩擦磨损特性,研究了织构形貌对TiN薄膜干摩擦条件下摩擦磨损性能的影响.研究结果表明:与未织构化的TiN薄膜相比,织构化TiN薄膜的平均摩擦系数降低,并且磨损率明显减小,这说明织构化TiN薄膜具有更好的耐磨损性能.摩擦过程中,凹坑织构既捕获了磨屑,又有利于摩擦过程中阶跃运动的发生,易于将磨屑带出磨痕,从而降低了摩擦磨损. 展开更多
关键词 织构化 tin薄膜 干摩擦 磨损机理
下载PDF
NiTi合金基TiN薄膜的血液相容性和耐腐蚀性研究 被引量：10
18
作者 李波 李小侠 +1 位作者 王天民 程峰 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期857-861,共5页
采用电弧离子镀法在NiTi形状记忆合金表面制备了TiN薄膜,利用X射线衍射、扫描电子显微镜和原子力显微镜研究了TiN薄膜的相组成及表面特性;在生物体外,研究比较了镀膜和未镀膜的NiTi合金的血液相容性和耐腐蚀性。结果表明:TiN薄膜提高了N... 采用电弧离子镀法在NiTi形状记忆合金表面制备了TiN薄膜,利用X射线衍射、扫描电子显微镜和原子力显微镜研究了TiN薄膜的相组成及表面特性;在生物体外,研究比较了镀膜和未镀膜的NiTi合金的血液相容性和耐腐蚀性。结果表明:TiN薄膜提高了NiTi合金的血液相容性,并使Ni离子的释放率约降低了1个数量级,有效地提高了NiTi合金的耐腐蚀性。薄膜越厚性能提高的效果越显著。 展开更多
关键词 NITI形状记忆合金 tin薄膜 血液相容性 耐腐蚀性
下载PDF
TiN薄膜腐蚀过程的电化学原子力显微镜原位研究 被引量：7
19
作者 俞春福 徐久军 +2 位作者 王亮 许晓磊 黑祖昆 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2001年第12期14-15,共2页
用离子束增强沉积 (IBED)技术在 1Cr18Ni9不锈钢上制备了TiN薄膜 ,并用电化学原子力显微镜 (ECAFM) ,从纳米级空间分辨度对其在 3%NaCl溶液中的早期腐蚀过程进行了原位研究。结果表明 ,TiN薄膜在极化电位的阴极区域发生钛氧化物膜的还... 用离子束增强沉积 (IBED)技术在 1Cr18Ni9不锈钢上制备了TiN薄膜 ,并用电化学原子力显微镜 (ECAFM) ,从纳米级空间分辨度对其在 3%NaCl溶液中的早期腐蚀过程进行了原位研究。结果表明 ,TiN薄膜在极化电位的阴极区域发生钛氧化物膜的还原溶解 ;在低阳极极化电位下 ,发生轻微腐蚀 ,当阳极极化电位进一步提高 ,在 2 0 0～ 30 0mV出现电解抛光现象。可见 ,电化学原子力显微镜是研究早期腐蚀过程的有效研究手段 。 展开更多
关键词 tin薄膜 腐蚀过程 电化学原子力显微镜 原位观察 AFM 耐蚀
下载PDF
氩气与氮气流量比对磁控溅射法制备TiN薄膜的影响 被引量：12
20
作者 刘倩 刘莹 +1 位作者 朱秀榕 胡敏 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期8-11,共4页
用直流反应磁控溅射法在Si(100)基底上制备了TiN薄膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对其结构和形貌进行了表征,利用四探针测试仪测量了TiN薄膜的方块电阻,使用紫外可见分光光度计测定了薄膜反射率;研究了溅射沉积过程中氩气与氮气流量... 用直流反应磁控溅射法在Si(100)基底上制备了TiN薄膜,采用X射线衍射仪和原子力显微镜对其结构和形貌进行了表征,利用四探针测试仪测量了TiN薄膜的方块电阻,使用紫外可见分光光度计测定了薄膜反射率;研究了溅射沉积过程中氩气与氮气流量比对TiN薄膜结构及性能的影响。结果表明:在不同氩气与氮气流量比下,所制备薄膜的主要组成相是(200)择优取向的立方相TiN;随着氩气与氮气流量比的增加,薄膜厚度逐渐增大,而表面粗糙度与电阻率先减小后增大;当氩气与氮气流量比为15:1时,薄膜表面粗糙度和电阻率均达到最小值;TiN薄膜的反射率与氩气与氮气流量比的关系不大。 展开更多
关键词 tin薄膜 磁控溅射 氩气 氮气 流量
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 2 … 11 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部