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Fe_2O_3/SnO_2和SnO_2/Fe_2O_3双层薄膜的XPS分析
被引量:
3
1
作者
娄向东
沈荷生
沈瑜生
《传感技术学报》
CAS
CSCD
1992年第3期17-22,共6页
用X光光电子能谱(XPS),结合Ar^+刻蚀对Fe_2O_3/SnO_2及Fe_20_3/SnO_2双层薄膜进行分析.结果表明:Fe_2O_3/SnO_2膜表面,晶格氧的结合能为529.85eV,热处理前有大量吸附氧存在,在600℃退火后,大部分羟基、羰基形态的吸附氧解吸;SnO_2/Fe_2...
用X光光电子能谱(XPS),结合Ar^+刻蚀对Fe_2O_3/SnO_2及Fe_20_3/SnO_2双层薄膜进行分析.结果表明:Fe_2O_3/SnO_2膜表面,晶格氧的结合能为529.85eV,热处理前有大量吸附氧存在,在600℃退火后,大部分羟基、羰基形态的吸附氧解吸;SnO_2/Fe_2O_3膜表面,热处理前后都只有少量的吸附氧,经热处理后表面吸附氧却略有增加.双层薄膜中锡向氧化铁层的扩散较铁向氧化锡层的扩散强.扩散的结果,形成了一个数十纳米的过渡层,对元件的气敏性质产生一定的影响.
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关键词
xps
分析
sno
2
fe
2
o
3
薄膜
下载PDF
职称材料
题名
Fe_2O_3/SnO_2和SnO_2/Fe_2O_3双层薄膜的XPS分析
被引量:
3
1
作者
娄向东
沈荷生
沈瑜生
机构
中国科学技术大学材料科学与工程系
出处
《传感技术学报》
CAS
CSCD
1992年第3期17-22,共6页
文摘
用X光光电子能谱(XPS),结合Ar^+刻蚀对Fe_2O_3/SnO_2及Fe_20_3/SnO_2双层薄膜进行分析.结果表明:Fe_2O_3/SnO_2膜表面,晶格氧的结合能为529.85eV,热处理前有大量吸附氧存在,在600℃退火后,大部分羟基、羰基形态的吸附氧解吸;SnO_2/Fe_2O_3膜表面,热处理前后都只有少量的吸附氧,经热处理后表面吸附氧却略有增加.双层薄膜中锡向氧化铁层的扩散较铁向氧化锡层的扩散强.扩散的结果,形成了一个数十纳米的过渡层,对元件的气敏性质产生一定的影响.
关键词
xps
分析
sno
2
fe
2
o
3
薄膜
Keywords
sno
2
fe
2
o
3
thin
film
xps
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Fe_2O_3/SnO_2和SnO_2/Fe_2O_3双层薄膜的XPS分析
娄向东
沈荷生
沈瑜生
《传感技术学报》
CAS
CSCD
1992
3
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职称材料
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参考文献
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