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SiAlN_x薄膜的应力释放模式及力学性能研究
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作者 周红 余森江 +1 位作者 陈君 陈苗根 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期483-489,共7页
利用低辐射镀膜玻璃专用的镀膜生产线,在6 mm白玻衬底上制备出SiAlNx薄膜,研究了薄膜在退火之后的内应力释放模式及其力学性能。结果表明:退火后的SiAlNx薄膜存在较大的残余压应力,伴随着压应力的释放,薄膜中出现电话线形屈曲结构;屈曲... 利用低辐射镀膜玻璃专用的镀膜生产线,在6 mm白玻衬底上制备出SiAlNx薄膜,研究了薄膜在退火之后的内应力释放模式及其力学性能。结果表明:退火后的SiAlNx薄膜存在较大的残余压应力,伴随着压应力的释放,薄膜中出现电话线形屈曲结构;屈曲结构从薄膜边缘产生,并逐渐往样品中心区域扩展;在电话线屈曲的传播过程中,屈曲的各结构参量(包括波长、振幅、宽度等)均发生了明显演化。基于连续弹性理论,对电话线屈曲的结构特征和生长演化进行了分析,并估算了薄膜的内应力和膜基结合能。 展开更多
关键词 sialnx薄膜 低辐射镀膜玻璃 电话线屈曲 力学性能 内应力
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