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一种新型Si电子束蒸发器的研制及其应用研究 被引量:16
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作者 王科范 刘金锋 +4 位作者 邹崇文 徐彭寿 潘海滨 张西庚 王文君 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期75-78,共4页
我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器 ,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长。由于采用悬臂式设计 ,它完全克服了高压短路的问题。电子束蒸发器的性能试验表明 ,稳定输出功率可以控制输出稳定的Si束流。应用这种电子束蒸发器可以... 我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器 ,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长。由于采用悬臂式设计 ,它完全克服了高压短路的问题。电子束蒸发器的性能试验表明 ,稳定输出功率可以控制输出稳定的Si束流。应用这种电子束蒸发器可以在 70 0℃ ,成功沉积出平整的单晶Si薄膜。进一步的试验表明 ,在这种缓冲层表面可以自组装生长出Ge量子点。 展开更多
关键词 电子束蒸发 量子点 缓冲层 si(111) 输出功率 薄膜 束流 自组装 单晶 表面
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掺铒a-Si∶H,O薄膜1.54μm光致发光和微结构 被引量:6
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作者 陈维德 梁建军 王永谦 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第10期988-992,共5页
采用等离子化学气相淀积方法 ,改变 Si H4 和 N2 O的流量比制备含有不同氧浓度的 a- Si∶ H,O薄膜 .用离子注入方法掺入铒 ,经 30 0— 935℃快速热退火 ,在波长 1 .54μm处观察到很强的室温光致发光 .氧的加入可以大大提高铒离子的发光... 采用等离子化学气相淀积方法 ,改变 Si H4 和 N2 O的流量比制备含有不同氧浓度的 a- Si∶ H,O薄膜 .用离子注入方法掺入铒 ,经 30 0— 935℃快速热退火 ,在波长 1 .54μm处观察到很强的室温光致发光 .氧的加入可以大大提高铒离子的发光强度 ,并且发光强度随氧含量的变化有一个类似于高斯曲线的分布关系 ,不是单调地随氧含量的增加而增强 .研究了掺铒 a- Si∶ H,O薄膜和微结构 ,讨论了发光强度与薄膜微结构的关系 . 展开更多
关键词 掺铒 a-si:H O薄膜 光致发光 微结构 半导体
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ZnO∶Si透明导电薄膜厚度对其光电性能的影响 被引量:11
3
作者 王洪森 赵玉辉 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第1期21-24,34,共5页
目的研究ZnO∶Si薄膜厚度对其生长速率、结晶度、光透率和电阻率的影响。方法用直流磁控溅射系统在玻璃基片上沉积不同的时间,获得5个厚度不同的ZnO∶Si薄膜样品,对比研究了其薄膜生长取向和结构特性、微观形貌、电学参数及透过率曲线... 目的研究ZnO∶Si薄膜厚度对其生长速率、结晶度、光透率和电阻率的影响。方法用直流磁控溅射系统在玻璃基片上沉积不同的时间,获得5个厚度不同的ZnO∶Si薄膜样品,对比研究了其薄膜生长取向和结构特性、微观形貌、电学参数及透过率曲线。结果 5个ZnO∶Si薄膜样品都为多晶膜,具有单一的(002)衍射峰,沿垂直于基片的c轴方向择优生长。当薄膜厚度从207.6 nm增加到436.1 nm时,薄膜的晶粒尺寸增大,晶化程度提高,电阻率变小;膜厚增至497.8 nm时,薄膜的晶化程度反而降低,电阻率增加。在可见光范围内,5个薄膜样品的平均透过率都高于91.7%。结论膜厚对ZnO∶Si薄膜的电学性能有较大影响,对光学性能的影响则较小。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 ZNO si 光电特性 薄膜厚度
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(Cr-Si-Ni)/Si薄膜的微观结构和电阻率 被引量:8
4
作者 张玉勤 董显平 吴建生 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期746-750,共5页
采用磁控溅射方法在Si(100)基底上制备了CrSiNi电阻薄膜,研究了不同温度退火时薄膜微观结构的转变过程以及对电阻率的影响。结果表明薄膜在溅射态和低于300℃热处理时为非晶态;退火温度高于300℃以后,薄膜中析出CrSi2晶化相;当退火温度... 采用磁控溅射方法在Si(100)基底上制备了CrSiNi电阻薄膜,研究了不同温度退火时薄膜微观结构的转变过程以及对电阻率的影响。结果表明薄膜在溅射态和低于300℃热处理时为非晶态;退火温度高于300℃以后,薄膜中析出CrSi2晶化相;当退火温度达到600℃时,薄膜中还有少量多晶Si相析出,同时在薄膜与基底界面处还发生了原子的相互扩散;CrSi2晶化相成“岛”状结构,弥散分布在非晶绝缘基底上;薄膜室温电阻率随着退火温度的上升,呈先上升、后下降趋势;薄膜电阻率随退火温度的变化行为与薄膜微观结构的变化以及界面扩散有关。 展开更多
关键词 电阻薄膜 si基底 微观结构 界面扩散 电阻率
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热丝CVD法在单晶硅衬底上低温外延生长Si和Ge薄膜的研究 被引量:6
5
作者 黄海宾 沈鸿烈 +2 位作者 唐正霞 吴天如 张磊 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期603-607,共5页
采用热丝CVD法在单晶Si衬底上进行了Si和Ge薄膜的低温外延生长,用XRD和Raman谱对其结构性能进行了分析。结果表明:在衬底温度200℃时,Si(111)单晶衬底上外延生长出了Raman峰位置为521.0cm-1;X射线半峰宽(FWHM)为5.04cm-1。结晶质量非常... 采用热丝CVD法在单晶Si衬底上进行了Si和Ge薄膜的低温外延生长,用XRD和Raman谱对其结构性能进行了分析。结果表明:在衬底温度200℃时,Si(111)单晶衬底上外延生长出了Raman峰位置为521.0cm-1;X射线半峰宽(FWHM)为5.04cm-1。结晶质量非常接近于体单晶的(111)取向的本征Si薄膜;在衬底温度为300℃时,在Si(100)单晶衬底上异质外延,得到了Raman峰位置为300.3cm-1的Ge薄膜,Ge薄膜的晶体取向为Ge(220)。研究表明热丝CVD是一种很好的低温外延薄膜的方法。 展开更多
关键词 热丝CVD 低温外延 单晶si衬底 si Ge膜
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Al/a-Si∶H复合薄膜的电导性能 被引量:4
6
作者 王瑞春 杜丕一 +1 位作者 翁文剑 韩高荣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第10期1067-1072,共6页
采用真空热蒸发与PECVD方法 ,在经特殊设计的“单反应室双沉积”设备中沉积了Al/a Si∶H复合薄膜 ,并利用扫描电子显微镜、X射线衍射、Raman及X射线光电子谱等方法对复合薄膜在不同Al层厚度和不同温度退火后的晶化及电导行为进行了研究 ... 采用真空热蒸发与PECVD方法 ,在经特殊设计的“单反应室双沉积”设备中沉积了Al/a Si∶H复合薄膜 ,并利用扫描电子显微镜、X射线衍射、Raman及X射线光电子谱等方法对复合薄膜在不同Al层厚度和不同温度退火后的晶化及电导行为进行了研究 .结果表明 ,Al/a Si∶H复合薄膜在不高于 2 5 0℃的退火条件下即开始出现硅的晶体相 .退火温度越高 ,Al层越厚 ,形成多晶硅的量越多 .Al/a Si∶H复合薄膜的电导率受Al原子在a Si∶H中掺杂效应的影响 ,比纯a Si∶H薄膜的大 .随着硅晶体相在复合薄膜中的生成 ,复合薄膜的电导率受晶相比控制 ,晶相比增加 ,电导率增大 . 展开更多
关键词 Al/a-si:H复合薄膜 Al诱导晶化 多晶硅 晶相比 电导率
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Si衬底GaN基LED外延薄膜转移至金属基板的应力变化 被引量:7
7
作者 熊贻婧 张萌 +4 位作者 熊传兵 肖宗湖 王光绪 汪延明 江风益 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期531-537,共7页
采用电镀金属基板及湿法腐蚀衬底的方法将硅衬底上外延生长的GaNMQWLED薄膜转移至不同结构的金属基板,通过高分辨X射线衍射(HRXRD)和光致发光(PL)研究了转移的GaN薄膜应力变化。研究发现:(1)转移至铜基板、铬基板、铜/镍/铜叠层... 采用电镀金属基板及湿法腐蚀衬底的方法将硅衬底上外延生长的GaNMQWLED薄膜转移至不同结构的金属基板,通过高分辨X射线衍射(HRXRD)和光致发光(PL)研究了转移的GaN薄膜应力变化。研究发现:(1)转移至铜基板、铬基板、铜/镍/铜叠层基板等三种基板的GaN薄膜张应力均减小,其中转移至铬基板的GaN薄膜张应力最小。(2)随着铬基板中铬主体层厚度的增加,转移后的GaN薄膜应力不发生明显变化。 展开更多
关键词 金属基板 si衬底 GAN 薄膜 应力
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Si-DLC films deposited by a novel method equipped with a co-potential auxiliary cathode for anti-corrosion and anti-wear application 被引量:6
8
作者 Xubing Wei Shaomiao Shi +2 位作者 Chuangming Ning Zhibin Lu Guangan Zhang 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第14期114-128,共15页
A novel DLC film deposition method was proposed to realize the deposition of DLC film on the surface of complex shaped workpiece.Meanwhile,Si-DLC film was deposited on the surface of M2 high-speed steel(HSS M2)and 304... A novel DLC film deposition method was proposed to realize the deposition of DLC film on the surface of complex shaped workpiece.Meanwhile,Si-DLC film was deposited on the surface of M2 high-speed steel(HSS M2)and 304 stainless steel(304SS),and the microstructure,surface roughness,mechanical properties,corrosion resistance and tribological properties of Si-DLC films were characterized in detail.Results show that Si-DLC film at different axial positions of the auxiliary cathode possesses similar microstructure,film thickness and surface roughness,and the as-deposited Si-DLC film shows the low intrinsic stress of<0.3 GPa.Compared with the 304SS substrate,the Si-DLC film presents more noble corrosion potential,lower corrosion current density and higher polarization resistance,exhibiting higher corrosion resistance.Moreover,the Si-DLC film exhibits higher hardness,elastic factor and plastic factor than HSS M2 substrate and the corresponding adhesive strength is more than 10 N.The Si-DLC film sliding against GCr15 steel ball shows a lower friction coefficient than that of HSS M2 substrate and the wear rate of GCr15 steel ball sliding against the Si-DLC is lower than that of HSS M2 substrate.In addition,this novel method was used to deposit Si-DLC film on gears,drills and bearings without rotating sample racks.As a consequence,this method possesses great potential and can be generalized for the deposition of DLC film on the surface of complex shape workpiece. 展开更多
关键词 si-DLC film Co-potential auxiliary cathode Tribology Corrosion Complex shaped workpiece
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非晶硅薄膜太阳能电池应用分析 被引量:6
9
作者 金韦利 姜礼华 《节能》 2010年第3期21-24,共4页
介绍非晶硅薄膜太阳能电池,分析其光致衰退效应与影响光电性能的各种因素。总结并展望了优化非晶硅太阳能电池的各种技术。
关键词 非晶硅薄膜 光致衰退效应 界面态 太阳能电池
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Microstructure and abrasive wear behaviour of anodizing composite films containing Si C nanoparticles on Ti6Al4V alloy 被引量:6
10
作者 李松梅 郁秀梅 +3 位作者 刘建华 于美 吴量 杨康 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2014年第12期4415-4423,共9页
Anodized composite films containing Si C nanoparticles were synthesized on Ti6Al4 V alloy by anodic oxidation procedure in C4O6H4Na2 electrolyte. Scanning electron microscopy(SEM), energy dispersive spectroscopy(EDS) ... Anodized composite films containing Si C nanoparticles were synthesized on Ti6Al4 V alloy by anodic oxidation procedure in C4O6H4Na2 electrolyte. Scanning electron microscopy(SEM), energy dispersive spectroscopy(EDS) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS) were employed to characterize the morphology and composition of the films fabricated in the electrolytes with and without addition of Si C nanoparticles. Results show that Si C particles can be successfully incorporated into the oxide film during the anodizing process and preferentially concentrate within internal cavities and micro-cracks. The ball-on-disk sliding tests indicate that Si C-containing oxide films register much lower wear rate than the oxide films without Si C under dry sliding condition. Si C particles are likely to melt and then are oxidized by frictional heat during sliding tests. Potentiodynamic polarization behavior reveals that the anodized alloy with Si C nanoparticles results in a reduction in passive current density to about 1.54×10-8 A/cm2, which is more than two times lower than that of the Ti O2 film(3.73×10-8 A/cm2). The synthesized composite film has good anti-wear and anti-corrosion properties and the growth mechanism of nanocomposite film is also discussed. 展开更多
关键词 Ti6Al4V alloy anodic oxidation si C nanoparticle composite film
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Coherent thermal radiation in thin films and its application in the emissivity design of multilayer films 被引量:3
11
作者 LIANG XinGang HAN MaoHua 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2007年第10期1426-1431,共6页
The infrared transmission spectra of a 0.54-μm-thick Ge film and a 20-μm-thick Si film were experimentally measured. As the incident radiation was in the wavelength range from 1.5 μm to 10 μm, the Ge film demonstr... The infrared transmission spectra of a 0.54-μm-thick Ge film and a 20-μm-thick Si film were experimentally measured. As the incident radiation was in the wavelength range from 1.5 μm to 10 μm, the Ge film demonstrated a strongly spectral coherence. However, thermal radiation of the Ge film was found to be spatially incoherent due to its extreme thinness. The Si film exhibited significantly spectral and spatial coherence. The results confirmed that thermal radiation of a monolayer film could be coherent spectrally and spatially if the film thickness was comparable with the wavelength. The optical characteristic matrix method was applied to calculate the transmission spectra of the Si and Ge film, and the results agreed well with the measurements. This method was further used to analyze two multilayer films composed of five low emissive layers. Their emissivities were found to be highly emissive at a certain zenith angle, and the emissive peak could be controlled by careful selection of film thickness. 展开更多
关键词 多层膜 发射率 设计 薄膜 相干热辐射 Ge si
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Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究 被引量:4
12
作者 干蜀毅 徐向东 +4 位作者 洪义麟 刘颍 周洪军 霍同林 付绍军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期51-54,共4页
对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究。采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜。利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反... 对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究。采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜。利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:Si片上Au膜厚度和辅助离子源的使用方式对Au膜反射率有重大影响,而镀前基片表面清洗工艺等对反射率影响不显著。采用辅助离子沉积或镀前离子清洗,可提高Au膜反射率;但离子清洗和辅助离子沉积同时使用会给反射率带来显著的不利影响。膜厚在30 nm左右,55°入射角时反射率最高,可高达40%。 展开更多
关键词 真空紫外反射镜 真空紫外反射膜 真空紫外反射率 Au膜 si基片 离子束溅射
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Si含量对镍基合金氧化保护膜影响机制的研究 被引量:4
13
作者 初蕾 刘英才 +2 位作者 梁丹维 尹衍升 王昕 《中国海洋大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第S1期291-294,共4页
本文对镍基合金中Si在弱氧化环境下表面氧化成膜特性进行了研究。利用XRD、SEM、EDS等检测手段对试样进行了检测分析,结果发现:合金表面氧化膜的形成动力学对镍基合金的Si含量非常敏感。当合金元素Si的含量较高时,由于连续的非晶SiO2膜... 本文对镍基合金中Si在弱氧化环境下表面氧化成膜特性进行了研究。利用XRD、SEM、EDS等检测手段对试样进行了检测分析,结果发现:合金表面氧化膜的形成动力学对镍基合金的Si含量非常敏感。当合金元素Si的含量较高时,由于连续的非晶SiO2膜在表层氧化铬与奥氏体基体之间的富集阻碍了Cr离子的向外扩散,导致在奥氏体区之上形成了较薄的氧化铬膜;共晶组织区域由于不会形成连续的SiO2非晶膜,仍然可以作为Cr离子的快速扩散通道,使得在该组织区域形成大量的脊状氧化物。奥氏体组织之上的氧化膜厚度与基体的Si含量成反比。 展开更多
关键词 镍基合金 微观结构 氧化膜 si含量
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Si含量对铁基高温合金抗氧化性能的影响 被引量:4
14
作者 刘杰 潘晴川 +1 位作者 车畅 刘俊友 《铸造技术》 北大核心 2017年第7期1547-1550,共4页
通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)及能谱分析(EDS)等手段对不同Si含量的铁基高温合金1 250℃下的抗氧化性能进行了研究。结果表明,1 250℃下,铁基高温合金抗氧化性能与Si含量的关系由优至劣的顺序是:0.93%Si>0%Si>2.76%Si>1.... 通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)及能谱分析(EDS)等手段对不同Si含量的铁基高温合金1 250℃下的抗氧化性能进行了研究。结果表明,1 250℃下,铁基高温合金抗氧化性能与Si含量的关系由优至劣的顺序是:0.93%Si>0%Si>2.76%Si>1.40%Si。含0.93%Si的铁基高温合金具有好的抗氧化性能的原因是,Si在基体与其致密的氧化膜之间形成了弥散分布的SiO_2颗粒层,这些尺寸较小的SiO_2颗粒与其氧化膜紧密连接犹如楔子般起着钉扎氧化膜的作用,改善了氧化膜的粘附性,进而提高了材料的抗氧化性能。 展开更多
关键词 si含量 铁基高温合金 抗氧化性能 氧化膜
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PECVD法生长晶化硅薄膜的机理 被引量:4
15
作者 白晓宇 郭群超 +3 位作者 柳琴 庞宏杰 张滢清 李红波 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期361-364,435,共5页
硅薄膜在太阳电池中有非常重要的应用,薄膜的晶化对硅薄膜的性质和太阳电池效率都有很大影响,研究薄膜晶化理论具有重要意义。选择刻蚀模型认为H原子会轰击薄膜生长表面,打断吸附较弱的化学键,促使形成强的Si-Si键,使薄膜发生晶化。通过... 硅薄膜在太阳电池中有非常重要的应用,薄膜的晶化对硅薄膜的性质和太阳电池效率都有很大影响,研究薄膜晶化理论具有重要意义。选择刻蚀模型认为H原子会轰击薄膜生长表面,打断吸附较弱的化学键,促使形成强的Si-Si键,使薄膜发生晶化。通过Monte Carlo法对具体的生长晶化过程进行了模拟计算,发现薄膜晶相的转变发生在生长温度350K(77℃)以上,并且在低温(T<550K)下,晶化的过程主要发生在氢稀释度90%以上。结果与实验数据在高氢稀释下基本吻合,低氢稀释下有偏差。认为低氢稀释下晶化反应所需中间产物产量少,模型中未被考虑的其他基团影响了它们的相对数量,造成模拟结果的偏差。模型对硅薄膜晶化过程的理论解释有一定的合理性。 展开更多
关键词 硅薄膜 晶化 选择刻蚀模型
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Improving open-circuit voltage and short-circuit current of high-efficiency silicon-based planar heterojunction solar cells by combining V_(2)O_(5)with PEDOT:PSS
16
作者 Zhiting Luo Chen Yang +3 位作者 Xiuhua Chen Wenhui Ma Shaoyuan Li Kaixin Fu 《Journal of Materiomics》 SCIE CSCD 2023年第3期438-446,共9页
In recent years,a novel PEDOT:PSS/n-Si planar heterojunction solar cell has been extensively studied in the photovoltaic field.Different V_(2)O_(5)-IPA concentrations mixed in PEDOT:PSS samples as hole transport layer... In recent years,a novel PEDOT:PSS/n-Si planar heterojunction solar cell has been extensively studied in the photovoltaic field.Different V_(2)O_(5)-IPA concentrations mixed in PEDOT:PSS samples as hole transport layer were prepared by means of spin coating technique and mechanical mixing of organic and inorganic materials.V_(2)O_(5)was studied for its effects on the surface morphology,chemical composition,and optical transmittance of PEDOT:PSS films.The findings of the study show that the addition of V_(2)O_(5)particles changes the surface morphology of PEDOT:PSS films and promotes its superior ohmic contact with the Si interface.Furthermore,PEDOT:PSS incorporated with V_(2)O_(5)particles that have outstanding optical and semiconductor properties reduces the rate of carrier recombination at the device interface and blocks electron transport to the anode in the fabricated Si-based solar cells.When compared to conventional PEDOT:PSS/Si planar heterojunction solar cells,the fill factor,photoelectric conversion efficiency,open-circuit voltage,and short-circuit current density of the devices prepared in this study can be significantly improved,reaching up to 70.98%,15.17%,652 mV and 32.8 mA/cm^(2),respectively.This research provides a promising and effective method for improving the photoelectric conversion performance of PEDOT:PSS/Si heterojunction solar cells,which enables the application of V_(2)O_(5)in Si solar cells. 展开更多
关键词 si PEDOT:PSS Heterojunction photovoltaic devices V_(2)O_(5)-IPA High conductivity Semiconductor film
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硅衬底GaN基LED研究进展 被引量:2
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作者 洪炜 朱丽萍 +3 位作者 叶志镇 唐海平 倪贤锋 赵浙 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期97-100,共4页
由于硅具有价格低、热导率高、大直径单晶生长技术成熟等优势以及在光电集成方面的应用潜力,GaN/Si 基器件成为一个研究热点。然而,GaN 与 Si 之间的热失配容易引起薄膜开裂,这是限制 LED 及其它电子器件结构生长的一个关键问题。近年来... 由于硅具有价格低、热导率高、大直径单晶生长技术成熟等优势以及在光电集成方面的应用潜力,GaN/Si 基器件成为一个研究热点。然而,GaN 与 Si 之间的热失配容易引起薄膜开裂,这是限制 LED 及其它电子器件结构生长的一个关键问题。近年来,随着工艺的发展,GaN 晶体质量得到大幅度的提高。同时不少研究小组成功地在Si 衬底上制造出 LED。介绍了 GaN 薄膜开裂问题及近期硅衬底 GaN 基 LED 的研究进展。 展开更多
关键词 LED 硅衬底 光电集成 GAN薄膜 电子器件 si衬底 失配 研究进展 成方 近期
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Hydrogen bonding in hydrogenated amorphous silicon thin films prepared at different precursor gas temperatures with undiluted silane 被引量:4
18
作者 WU MaoYang LI Wei +2 位作者 QIU YiJiao FU JunWei JIANG YaDong 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2011年第9期2310-2314,共5页
Hydrogen bonding configurations and hydrogen content in hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films prepared at different precursor gas temperatures with undiluted silane have been investigated by means of Four... Hydrogen bonding configurations and hydrogen content in hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films prepared at different precursor gas temperatures with undiluted silane have been investigated by means of Fourier transform infrared (FTIR) spectroscopy.The results show that the gas temperature before precursor gases entering the glow-discharge zone re-markably influences the hydrogen bonding configurations and the hydrogen content in a-Si:H thin films.The hydrogen content decreases from 18% down to 11% when increasing the gas temperature from room temperature (RT) to 433 K.Meanwhile,the clustered hydrogen at the physical film surface or at the internal surfaces of the microvoids decreases,indicating that a-Si:H thin films are densified at higher precursor gas temperatures.For a-Si:H thin films deposited at gas temperature of 433 K,the isolated silicon-hydrogen bonding configuration is predominant in the testing films. 展开更多
关键词 a-si:H thin film gas temperature hydrogen bonding FTIR PECVD
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氧化物隔离对Si基片上生长L1_0相FePt薄膜磁性的影响 被引量:3
19
作者 李丹 李国庆 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第15期337-344,共8页
用MgO和SiO_2两种氧化物将FePt薄膜与Si(100)基片隔离,分析隔离层在FePt层发生A1→L1_0转变过程中的作用,寻找用Si母材涂敷L1_0-FePt磁性层来提高磁力显微镜针尖矫顽力的合理方案.采用磁控溅射法在400?C沉积Fe Pt薄膜,在不同温度进行2 ... 用MgO和SiO_2两种氧化物将FePt薄膜与Si(100)基片隔离,分析隔离层在FePt层发生A1→L1_0转变过程中的作用,寻找用Si母材涂敷L1_0-FePt磁性层来提高磁力显微镜针尖矫顽力的合理方案.采用磁控溅射法在400?C沉积Fe Pt薄膜,在不同温度进行2 h的真空热处理,分析晶体结构和磁性的变化.结果表明:没有隔离层,Si基片表层容易发生扩散,50 nm厚FePt薄膜的矫顽力最大只有5kOe(1 Oe=10~3/(4π)A·m^(-1));而插入隔离层,矫顽力可以超过10 kOe;MgO在Si基片上容易碎裂,热处理温度不能高于600?C,用作隔离层,FePt的最大矫顽力为12.4 kOe;SiO_2与Si基片的晶格匹配更好,热膨胀系数差较小,能承受的最高热处理温度可以超过800?C,使得Fe Pt的矫顽力可以在5 kOe到15 kOe范围内调控,更适合用于制作矫顽力高并可控的磁力显微镜针尖. 展开更多
关键词 FePt薄膜 si基片 氧化物隔离层 热处理
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Growth Rate of a-Si∶H Film Influenced by Magnetic Field Gradient in MWECR CVD Plasma System 被引量:2
20
作者 胡跃辉 吴越颖 +3 位作者 陈光华 王青 张文理 阴生毅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期613-619,共7页
The magnetic field profiles,which are produced by three ways in the deposition chamber and plasma chamber of single coil divergent field MWECR CVD system,are investigated.The magnetic field gradient of these magnetic ... The magnetic field profiles,which are produced by three ways in the deposition chamber and plasma chamber of single coil divergent field MWECR CVD system,are investigated.The magnetic field gradient of these magnetic field profiles is obtained quantitatively by using Lorentz fit.The results indicate that the gradient value of the magnetic field profile near by the substrate,which is produced by a coil current with 137.7A if a SmCo permanent magnet is equipped under the substrate holder,is the largest;when the SmCo permanent magnet is taken away,the larger one is produced by the coil current with 137.7A and the smallest one produced by a coil current with 115.2A.High deposition rate of a-Si∶H film is observed near by the substrate with high magnetic field gradient.But uneven deposition rate along the radius of the sample holder is also found by infrared analysis technology when sample is deposited in magnetic field profile,which is produced by the coil current with 137.7A if the SmCo permanent magnet is equipped under the substrate holder. 展开更多
关键词 magnetic field gradient Lorentz fit a-si∶H film deposition rate MWECR CVD deposition system
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